本申請(qǐng)還提供具有上述基板結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體晶圓，以及制作上述基板結(jié)構(gòu)的晶圓制造方法。根據(jù)本申請(qǐng)的方案，提供具有邊框結(jié)構(gòu)的基板結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體晶圓、以及晶圓制作方法。根據(jù)本申請(qǐng)的一方案，提供一種承載半導(dǎo)體組件的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含：一晶圓層，具有相對(duì)應(yīng)的一***表面與一第二表面，其中該第二表面具有向該***表面凹陷的一中心凹陷區(qū)域，該中心凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層的一邊框結(jié)構(gòu)區(qū)域環(huán)繞在該第二表面周圍；以及一金屬層，具有相對(duì)應(yīng)的一第三表面與一第四表面，該第三表面完全貼合于該第二表面。進(jìn)一步的，為了彌補(bǔ)較薄晶圓層的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，其中該第二表面更包含具有向該***表面凹陷的一***環(huán)狀凹陷區(qū)域，該***環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層在該***環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域之間形成環(huán)狀的一***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域。進(jìn)一步的，為了更彌補(bǔ)較薄晶圓層的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，其中該第二表面更具有向該***表面凹陷的第二環(huán)狀凹陷區(qū)域，該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層在該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域之間形成環(huán)狀的一第二內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域，該***環(huán)狀凹陷區(qū)域完全包含環(huán)狀的該***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域。半導(dǎo)體晶圓價(jià)格信息。北京半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備原理

    功率為p1時(shí)檢測(cè)到的通電時(shí)間和預(yù)設(shè)時(shí)間τ1進(jìn)行比較，如果檢測(cè)到的通電時(shí)間比預(yù)設(shè)時(shí)間τ1長，檢測(cè)電路發(fā)送報(bào)警信號(hào)到主機(jī)，主機(jī)接收到報(bào)警信號(hào)則關(guān)閉超聲波或兆聲波電源；檢測(cè)電路還比較檢測(cè)到的斷電時(shí)間和預(yù)設(shè)時(shí)間τ2，如果檢測(cè)到的斷電時(shí)間比預(yù)設(shè)時(shí)間τ2短，檢測(cè)電路發(fā)送報(bào)警信號(hào)到主機(jī)，主機(jī)接收到報(bào)警信號(hào)則關(guān)閉超聲波或兆聲波電源。在一個(gè)實(shí)施例中，超聲波或兆聲波裝置與噴頭相結(jié)合并置于半導(dǎo)體基板附近，超聲波或兆聲波裝置的能量通過噴頭噴出的液柱傳遞到半導(dǎo)體基板。本發(fā)明提供了另一種使用超聲波或兆聲波清洗半導(dǎo)體基板的裝置，包括卡盤、超聲波或兆聲波裝置、至少一個(gè)噴頭、超聲波或兆聲波電源、主機(jī)和檢測(cè)電路。卡盤支撐半導(dǎo)體基板。超聲波或兆聲波裝置置于半導(dǎo)體基板附近。至少一個(gè)噴頭向半導(dǎo)體基板和半導(dǎo)體基板與超聲波或兆聲波裝置之間的空隙中噴灑化學(xué)液體。主機(jī)設(shè)置超聲波或兆聲波電源以頻率f1、功率p1驅(qū)動(dòng)超聲波或兆聲波裝置，在液體中的氣泡氣穴振蕩損傷半導(dǎo)體基板上的圖案結(jié)構(gòu)之前，將超聲波或兆聲波電源的輸出設(shè)為零，待氣泡內(nèi)的溫度下降到設(shè)定溫度后，再次設(shè)置超聲波或兆聲波電源的頻率為f1，功率為p1。北京半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備原理半導(dǎo)體晶圓研磨設(shè)備。

    所述有機(jī)胺為二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、三丙胺，N，N-二甲基乙醇胺、N，N-甲基乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺和三乙醇胺一種或多種。所述有機(jī)羧酸選自丙二酸、草酸、乙二胺四乙酸鹽和檸檬酸中的一種或者多種。所述胍類為四甲基胍、碳酸胍、醋酸胍、3-胍基丙酸、聚六亞甲基胍和對(duì)胍基苯甲酸。所述清洗液的pH值為2～5。實(shí)施例3一種用于半導(dǎo)體晶圓等離子蝕刻殘留物的清洗液，其是由如下重量份數(shù)的原料組成：有機(jī)溶劑48份、氟化物12份、氯化物11份、甲基丙烯酸甲酯6份、有機(jī)胺7份、氨基酸14份、胍類15份、苯并三氮唑5份、有機(jī)羧酸19份、硫脲23份和水64份。所述有機(jī)溶劑為選自亞砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醚中的一種或多種。所述氟化物為氟化氫、或氟化氫與堿形成的鹽。所述有機(jī)胺為二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺、多乙烯多胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、三丙胺，N，N-二甲基乙醇胺、N，N-甲基乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺和三乙醇胺一種或多種。所述有機(jī)羧酸選自丙二酸、草酸、乙二胺四乙酸鹽和檸檬酸中的一種或者多種。所述胍類為四甲基胍、碳酸胍、醋酸胍、3-胍基丙酸、聚六亞甲基胍和對(duì)胍基苯甲酸。

    其為根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例的半導(dǎo)體基板的結(jié)構(gòu)的剖面700的一示意圖。該結(jié)構(gòu)的剖面700可以是圖5a所示結(jié)構(gòu)500的bb線剖面。該樹酯層540與該金屬層510外緣之間，是該金屬層510用于包圍該樹酯層540的四個(gè)金屬邊框。該四個(gè)金屬邊框的厚度可以相同，也可以不同。舉例來說，相對(duì)于上下外緣的厚度711與713可以相同，相對(duì)于左右外緣的厚度712與714可以相同。但厚度711與712可以不同。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以透過圖7理解到，本申請(qǐng)并不限定該樹酯層540外緣的形狀，其可以是正方形、矩形、橢圓形、圓形。當(dāng)該金屬層510與該樹酯層540都是矩形時(shí)，本申請(qǐng)也不限定該該金屬層510用于包圍該樹酯層540的四個(gè)邊框的厚度。在一實(shí)施例當(dāng)中，這四個(gè)邊框的厚度711~714可以相同，以簡化設(shè)計(jì)與制作的問題。在另一實(shí)施例當(dāng)中，這四個(gè)邊框當(dāng)中兩組邊框的厚度可以相同，以簡化設(shè)計(jì)與制作的問題。在更一實(shí)施例當(dāng)中，這四個(gè)邊框的厚度711~714可以完全不同，以便適應(yīng)芯片設(shè)計(jì)的需要。由于芯片的不同區(qū)域可以承載不同的半導(dǎo)體元器件，而不同的半導(dǎo)體元器件所需要的基板結(jié)構(gòu)電阻值可以是不同的。因此，可以如圖7所示的實(shí)施例，在部分區(qū)域讓金屬層510的厚度較厚。半導(dǎo)體晶圓銷售電話??

    提供具有邊框結(jié)構(gòu)的基板結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體晶圓、以及晶圓制作方法。根據(jù)本申請(qǐng)的一實(shí)施例，提供一種承載半導(dǎo)體組件的基板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含：一晶圓層，具有相對(duì)應(yīng)的一***表面與一第二表面，其中該第二表面具有向該***表面凹陷的一中心凹陷區(qū)域，該中心凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層的一邊框結(jié)構(gòu)區(qū)域環(huán)繞在該第二表面周圍；以及一金屬層，具有相對(duì)應(yīng)的一第三表面與一第四表面，該第三表面完全貼合于該第二表面。在一實(shí)施例中，為了彌補(bǔ)較薄晶圓層的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，其中該第二表面更包含具有向該***表面凹陷的一***環(huán)狀凹陷區(qū)域，該***環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層在該***環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域之間形成環(huán)狀的一***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域。在一特定實(shí)施例中，為了更彌補(bǔ)較薄晶圓層的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，其中該第二表面更具有向該***表面凹陷的第二環(huán)狀凹陷區(qū)域，該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域位于該第二表面當(dāng)中，使得該晶圓層在該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域與該中心凹陷區(qū)域之間形成環(huán)狀的一第二內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域，該***環(huán)狀凹陷區(qū)域完全包含環(huán)狀的該***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域，該***內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域完全包圍該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域，該第二環(huán)狀凹陷區(qū)域完全包圍該第二內(nèi)框結(jié)構(gòu)區(qū)域。半導(dǎo)體晶圓量大從優(yōu)..浙江12英寸大尺寸半導(dǎo)體晶圓

天津12英寸半導(dǎo)體晶圓代工。北京半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備原理

    在步驟10010中，將超聲波或兆聲波裝置置于晶圓的上表面附近。在步驟10020中，將清洗液，可以是化學(xué)液或摻了氣體的水噴射到晶圓表面以填滿晶圓和聲波裝置之間的間隙。在步驟10030中，卡盤攜帶晶圓開始旋轉(zhuǎn)以進(jìn)行清洗工藝。在步驟10040中，頻率為f1以及功率水平為p1的電源被應(yīng)用于聲波裝置。在步驟10050中，當(dāng)頻率保持在f1時(shí)，電源的功率水平在氣泡內(nèi)氣體和/或蒸汽的溫度達(dá)到內(nèi)爆溫度ti之前，或在時(shí)間τ1達(dá)到由公式(11)計(jì)算的τi之前，降低到p2。在步驟10060中，氣泡內(nèi)氣體和/或蒸汽溫度降至接近室溫t0或持續(xù)時(shí)間達(dá)到τ2后，電源的功率水平恢復(fù)到p1。在步驟10070中，檢查晶圓的清潔度，如果晶圓尚未清潔到所需程度，則重復(fù)步驟10010-10060。或者，可能不需要在每個(gè)周期內(nèi)檢查清潔度，取而代之的是，使用的周期數(shù)可能是預(yù)先用樣品晶圓通過經(jīng)驗(yàn)確定。圖11a至圖11b揭示了根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的聲波晶圓清洗工藝。本實(shí)施例中的聲波晶圓清洗工藝與圖10a-10c所示的實(shí)施例中的相類似，差異*存在于步驟10050中。圖11a-11b所示的晶圓清洗工藝在時(shí)間段τ2內(nèi)使頻率降至f2，以此來代替保持頻率在f1。功率水平p2應(yīng)該***地低于p1，**好是小5或10倍。北京半導(dǎo)體晶圓去膠設(shè)備原理

昆山創(chuàng)米半導(dǎo)體科技有限公司是一家半導(dǎo)體科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)轉(zhuǎn)讓；半導(dǎo)體設(shè)備、半導(dǎo)體材料、電子設(shè)備、機(jī)械設(shè)備及配件、機(jī)電設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備、太陽能電池及組件、電子產(chǎn)品、電子材料、針紡織品、玻璃制品、五金制品、日用百貨、勞保用品、化工產(chǎn)品及原料（不含危險(xiǎn)化學(xué)品及易制毒化學(xué)品）的銷售；貨物及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù)。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)） 許可項(xiàng)目：廢棄電器電子產(chǎn)品處理（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)，具體經(jīng)營項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn)） 一般項(xiàng)目：固體廢物治理；非金屬廢料和碎屑加工處理；再生資源回收（除生產(chǎn)性廢舊金屬）；電子元器件與機(jī)電組件設(shè)備銷售；電力電子元器件銷售；電子設(shè)備銷售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動(dòng)）的公司，是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。創(chuàng)米半導(dǎo)體深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提供高質(zhì)量的晶圓，wafer，半導(dǎo)體輔助材料，晶圓盒。創(chuàng)米半導(dǎo)體致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對(duì)用戶產(chǎn)品上的貼心，為用戶帶來良好體驗(yàn)。創(chuàng)米半導(dǎo)體始終關(guān)注自身，在風(fēng)云變化的時(shí)代，對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使創(chuàng)米半導(dǎo)體在行業(yè)的從容而自信。