為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明實(shí)施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值方法，該方法通過(guò)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角、太陽(yáng)高度角、太陽(yáng)輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對(duì)于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算。相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。河北購(gòu)買太陽(yáng)光譜模擬AM1.5

et(d，α，z)＝ed(d，α，z)+es(α，z)，(12)其中，ed(d，α，z)與es(α，z)可從操作s102中得出。s104，針對(duì)于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時(shí)間、和/或拍攝位置對(duì)應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計(jì)算各自對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度相互之間的差值，得到各個(gè)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值。從方程(12)可以看出，由于太陽(yáng)高度角α(x，y，d，t)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x，y)、圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定，因此太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度et(d，α，z)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x，y)、(x，y)處的高程z，圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定，則et(x，y，z，d，t)≡et(d，α，z).(1)甘肅AM0太陽(yáng)光譜模擬價(jià)格首先，該方法利用了一族基于銻化鎵(GaSb)基底的材料，這常見于紅外激光器和光電探測(cè)器等應(yīng)用之中。

1)反應(yīng)性濺鍍制備強(qiáng)化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強(qiáng)化膜；步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片；步驟1)中，靶材為鉻靶，功率為9kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為120sccm，氧氣流量為80sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為70nm；膜厚是根據(jù)工藝要求可調(diào)整的；2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽(yáng)光譜的膜層的制備方法。

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強(qiáng)化機(jī)理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層的**工作層，其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個(gè)涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下，金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團(tuán)聚、長(zhǎng)大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴(kuò)散遷徙，往往會(huì)導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化，從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問(wèn)題，構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層，是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問(wèn)題。  由于其尺寸很小——小于1平方毫米，因此可以有效地開發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽(yáng)能電池。浙江AM1.5太陽(yáng)光譜模擬銷量

濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟。河北購(gòu)買太陽(yáng)光譜模擬AM1.5

例如，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330和第三計(jì)算模塊340中的任意多個(gè)可以合并在一個(gè)模塊中實(shí)現(xiàn)，或者其中的任意一個(gè)模塊可以被拆分成多個(gè)模塊。或者，這些模塊中的一個(gè)或多個(gè)模塊的至少部分功能可以與其他模塊的至少部分功能相結(jié)合，并在一個(gè)模塊中實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330及第三計(jì)算模塊340中的至少一個(gè)可以至少被部分地實(shí)現(xiàn)為硬件電路，例如現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列(fpga)、可編程邏輯陣列(pla)、片上系統(tǒng)、基板上的系統(tǒng)、封裝上的系統(tǒng)、**集成電路(asic)，或可以通過(guò)對(duì)電路進(jìn)行集成或封裝的任何其他的合理方式等硬件或固件來(lái)實(shí)現(xiàn)，或以軟件、硬件以及固件三種實(shí)現(xiàn)方式中任意一種或以其中任意幾種的適當(dāng)組合來(lái)實(shí)現(xiàn)?；蛘?，獲取模塊310、***計(jì)算模塊320、第二計(jì)算模塊330及第三計(jì)算模塊340中的至少一個(gè)可以至少被部分地實(shí)現(xiàn)為計(jì)算機(jī)程序模塊，當(dāng)該計(jì)算機(jī)程序模塊被運(yùn)行時(shí)，可以執(zhí)行相應(yīng)的功能。河北購(gòu)買太陽(yáng)光譜模擬AM1.5

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的****，公司位于若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國(guó)家大學(xué)科技園B棟10樓1005，成立于2020-01-16。公司秉承著技術(shù)研發(fā)、客戶優(yōu)先的原則，為國(guó)內(nèi)天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡的產(chǎn)品發(fā)展添磚加瓦。公司主要經(jīng)營(yíng)天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡等產(chǎn)品，產(chǎn)品質(zhì)量可靠，均通過(guò)電子元器件行業(yè)檢測(cè)，嚴(yán)格按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。目前產(chǎn)品已經(jīng)應(yīng)用與全國(guó)30多個(gè)省、市、自治區(qū)。昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司每年將部分收入投入到天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡產(chǎn)品開發(fā)工作中，也為公司的技術(shù)創(chuàng)新和人材培養(yǎng)起到了很好的推動(dòng)作用。公司在長(zhǎng)期的生產(chǎn)運(yùn)營(yíng)中形成了一套完善的科技激勵(lì)政策，以激勵(lì)在技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品改進(jìn)等。昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司以市場(chǎng)為導(dǎo)向，以創(chuàng)新為動(dòng)力。不斷提升管理水平及天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡產(chǎn)品質(zhì)量。本公司以良好的商品品質(zhì)、誠(chéng)信的經(jīng)營(yíng)理念期待您的到來(lái)！