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海南上打光太陽光譜模擬價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-02

針對自研的太陽光譜輻照度計(jì)入射光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)特征,分析了引入余弦誤差的因素,研究了直、漫射輻照度以及漫射-總輻射比的余弦校正方法,開展了實(shí)驗(yàn)室余弦響應(yīng)特性測量和多種儀器的敦煌外場比對試驗(yàn).結(jié)果顯示,余弦誤差與積分球入口黑色陽極化內(nèi)壁及結(jié)構(gòu)有關(guān),在入射角為60°時(shí),440nm、500nm、670nm和870nm波段太陽光譜輻照度計(jì)的余弦誤差為4.3%~9.1%;由太陽光譜輻照度計(jì)獲取的直射輻照度反演得到的大氣光學(xué)厚度受到余弦誤差的嚴(yán)重影響,余弦校正前后與CE318太陽光度計(jì)反演結(jié)果相比,偏差分別為0.11~0.13和小于0.012;基于天空輻亮度各向同性分布假設(shè),余弦校正后四個(gè)波段漫射輻照度數(shù)值提升6.8%~10%.基于天空輻亮度分布數(shù)據(jù),提出了一種漫射輻照度的精確校正方法,仿真結(jié)果顯示,余弦校正后的漫射輻照度與理論數(shù)據(jù)一致,初步驗(yàn)證了該方法的可行性.這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。海南上打光太陽光譜模擬價(jià)格

et(d,α,z)=ed(d,α,z)+es(α,z),(12)其中,ed(d,α,z)與es(α,z)可從操作s102中得出。s104,針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時(shí)間、和/或拍攝位置對應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計(jì)算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值,得到各個(gè)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。從方程(12)可以看出,由于太陽高度角α(x,y,d,t)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x,y)、圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定,因此太陽總輻照強(qiáng)度et(d,α,z)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x,y)、(x,y)處的高程z,圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定,則et(x,y,z,d,t)≡et(d,α,z).(1)廣東AM1太陽光譜模擬銷售基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例。

可選地,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度,包括:根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度;根據(jù)拍攝日期,計(jì)算拍攝日期對應(yīng)的太陽赤緯角及大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度;根據(jù)拍攝時(shí)刻和地理經(jīng)度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽時(shí)角;根據(jù)太陽赤緯角、太陽時(shí)角和地理緯度,計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽高度角;根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程,計(jì)算相對大氣光學(xué)質(zhì)量;根據(jù)相對大氣光學(xué)質(zhì)量,計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù),并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù),計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù);根據(jù)大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度;根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽散射輻射強(qiáng)度。

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強(qiáng)化機(jī)理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層,其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個(gè)涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下,金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團(tuán)聚、長大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴(kuò)散遷徙,往往會(huì)導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化,從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題,構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層,是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問題。  本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,包括以下依次進(jìn)行的步驟。

獲取模塊310,用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程。***計(jì)算模塊320,用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度。第二計(jì)算模塊330,用于根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度。第三計(jì)算模塊340,用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時(shí)間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計(jì)算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值,得到各個(gè)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。本發(fā)明實(shí)施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法。貴州代理太陽光譜模擬購買

雖然科學(xué)家們?yōu)榱藢?shí)現(xiàn)更具效率的太陽能電池已經(jīng)努力多年,這一方法具有兩個(gè)創(chuàng)新之處。海南上打光太陽光譜模擬價(jià)格

厚度為0.1~2μm的薄層金屬氧化物或硫化物,如氧化銅、氧化鉻等,具有很高的太陽輻射吸收比和長波輻射透射比。6層構(gòu)成的膜層的緩沖膜、過渡膜、吸收膜的主要成分是氧化鉻等氧化物,能夠吸收波長范圍為0.20~3.0μm的太陽輻射能量并轉(zhuǎn)化為熱能。本申請實(shí)現(xiàn)了用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的吸收率高、發(fā)射率低以及附著力好,其中的工作原理是:在2500nm波長以下的太陽光反射光譜,反射率越低,吸收率越高,相反的,在2500nm波長以上的太陽光反射光譜,反射率越高,發(fā)射率越低;對基材表面作預(yù)處理,增加吸熱體表面粗超度,能有效增強(qiáng)附著力,根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測試,結(jié)果為1級。海南上打光太陽光譜模擬價(jià)格

昊躍光學(xué)科技(蘇州)有限公司是我國天文觀察濾光片,太陽光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡專業(yè)化較早的有限責(zé)任公司(自然)之一,昊躍光學(xué)是我國電子元器件技術(shù)的研究和標(biāo)準(zhǔn)制定的重要參與者和貢獻(xiàn)者。公司主要提供光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷售及相關(guān)技術(shù)服務(wù);戶外用品的開發(fā)及銷售。(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng))許可項(xiàng)目:貨物進(jìn)出口;進(jìn)出口代理;技術(shù)進(jìn)出口(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng),具體經(jīng)營項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn))一般項(xiàng)目:光學(xué)玻璃銷售;照相機(jī)及器材銷售;教學(xué)儀器銷售;光學(xué)儀器銷售;玻璃儀器銷售;燈具銷售;半導(dǎo)體照明器件銷售(除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外,憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動(dòng))等領(lǐng)域內(nèi)的業(yè)務(wù),產(chǎn)品滿意,服務(wù)可高,能夠滿足多方位人群或公司的需要。將憑借高精尖的系列產(chǎn)品與解決方案,加速推進(jìn)全國電子元器件產(chǎn)品競爭力的發(fā)展。

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