示意性示出了本發(fā)明實(shí)施例太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算方法的流程圖,如圖1所示,該方法例如可以包括操作s1~s1。s1,獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程。該尺寸包括地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的長(zhǎng)或?qū)挘?,獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像。地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程例如可以從數(shù)據(jù)庫(kù)中獲取。s2,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻和拍攝位置高程,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽(yáng)直接輻射強(qiáng)度和太陽(yáng)散射輻射強(qiáng)度。如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對(duì)太陽(yáng)熱能的吸收,提高光熱轉(zhuǎn)換的效率。新疆高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量
推薦的,步驟3)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氮?dú)饬髁繛?0~100sccm,制得的緩沖膜的厚度為30~150nm。推薦的,步驟4)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~500sccm,氮?dú)饬髁繛?0~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的過(guò)渡膜的厚度為30~100nm。推薦的,步驟5)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的吸收膜的厚度為30~120nm。推薦的,步驟6)中,靶材為硅靶,氬氣流量為50~500sccm,氧氣流量為50~200sccm,制得的抗反射膜的厚度為60~200nm。推薦的,步驟1)中,吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。安徽AM1.5太陽(yáng)光譜模擬代理為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜,通常在濺鍍金屬靶時(shí),通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體。
顯示的區(qū)域約1納米寬,中心在628納米左右。通過(guò)*0.7秒的單次曝光記錄太陽(yáng)光譜的可見(jiàn)區(qū)域,演示了HN-9332光譜儀的寬波長(zhǎng)覆蓋范圍。圖的左側(cè)部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個(gè)425-700nm波長(zhǎng)范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態(tài)周?chē)B續(xù)擴(kuò)展的區(qū)域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來(lái)表示——儀器波長(zhǎng)覆蓋范圍約20GHz,對(duì)應(yīng)于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此,圖中顯示的數(shù)據(jù)可以理解為相當(dāng)于>10000個(gè)分辨率點(diǎn),所有這些分辨率點(diǎn)都記錄在不到1秒的單次曝光中。
經(jīng)檢測(cè),本申請(qǐng)制備的膜層的吸收率為93%~97%,比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3%~9%;本申請(qǐng)制備的膜層的發(fā)射率為3%~5%,比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3%~12%;膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試,結(jié)果為1級(jí);本申請(qǐng)制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77%~82%,比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6%~10%;經(jīng)國(guó)家節(jié)能產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè),該六層膜的膜層具有優(yōu)異的性能,**優(yōu)于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)要求,太陽(yáng)吸收比α(am1.5)達(dá)0.94,半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6%~10%。
步驟2)中,靶材為銅靶,功率為7kw,電壓為520v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為320sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為200nm;3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜;步驟3)中,靶材為鉻靶,功率為7kw,電壓為420v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為240sccm,氮?dú)饬髁繛?3sccm,制得的緩沖膜的厚度為90nm;反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材。云南AM0太陽(yáng)光譜模擬濾光片
反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過(guò)渡膜的外表面上形成吸收膜。新疆高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量
2)濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來(lái)的銅離子沉積在步驟1)制得的強(qiáng)化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜;3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜;4)反應(yīng)性濺鍍制備過(guò)渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來(lái)的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過(guò)渡膜;新疆高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬銷(xiāo)量
昊躍光學(xué)科技(蘇州)有限公司坐落在若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國(guó)家大學(xué)科技園B棟10樓1005,是一家專(zhuān)業(yè)的光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷(xiāo)售及相關(guān)技術(shù)服務(wù);戶(hù)外用品的開(kāi)發(fā)及銷(xiāo)售。(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng))許可項(xiàng)目:貨物進(jìn)出口;進(jìn)出口代理;技術(shù)進(jìn)出口(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng),具體經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn))一般項(xiàng)目:光學(xué)玻璃銷(xiāo)售;照相機(jī)及器材銷(xiāo)售;教學(xué)儀器銷(xiāo)售;光學(xué)儀器銷(xiāo)售;玻璃儀器銷(xiāo)售;燈具銷(xiāo)售;半導(dǎo)體照明器件銷(xiāo)售(除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外,憑營(yíng)業(yè)執(zhí)照依法自主開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng))公司。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)。昊躍光學(xué)科技(蘇州)有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋天文觀察濾光片,太陽(yáng)光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡,堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿(mǎn)意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶(hù)的支持和信賴(lài)。一直以來(lái)公司堅(jiān)持以客戶(hù)為中心、天文觀察濾光片,太陽(yáng)光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡市場(chǎng)為導(dǎo)向,重信譽(yù),保質(zhì)量,想客戶(hù)之所想,急用戶(hù)之所急,全力以赴滿(mǎn)足客戶(hù)的一切需要。