WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結(jié)構(gòu)和熱強化機理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層，其熱穩(wěn)定性和綜合光學(xué)性能直接決定著整個涂層的光熱轉(zhuǎn)換效率。高溫下，金屬陶瓷膜內(nèi)金屬納米粒子的團聚、長大、氧化及涂層內(nèi)層間原子的擴散遷徙，往往會導(dǎo)致成分和微結(jié)構(gòu)的變化，從而誘發(fā)涂層光學(xué)性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題，構(gòu)建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層，是光熱技術(shù)應(yīng)用所面臨的重要材料基礎(chǔ)問題。  這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。購買太陽光譜模擬工廠

HN-9332儀器的寬波長覆蓋范圍允許在整個光譜的可見區(qū)域進行快速的“測量”光譜。然而，許多夫瑯和費譜線和大多數(shù)大氣譜線都比HN-9332儀器的分辨率窄。需要更高分辨率的光譜儀來詳細檢查太陽光譜的感興趣區(qū)域；例如HF-8989。02高分辨率太陽光譜下圖顯示了太陽光譜中一個特別有趣的區(qū)域。這個位于689nm附近的區(qū)域主要是由地球大氣中的氧氣引起的大地吸收。在這里，可以清楚地觀察到氧帶的R-和P-分支中的單個吸收線，較強的吸收線在線中心顯示~100%的吸收。左邊是一個高分辨率的太陽光譜，它是用629nm波段的HF-8989-3光譜儀拍攝的。江蘇高級太陽光譜模擬濾光片濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟。

近年來，中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所功能薄膜與智構(gòu)器件團隊聚焦新型金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層研發(fā)，以提升熱穩(wěn)定性為抓手，在新型耐高溫金屬陶瓷材料設(shè)計、光學(xué)模擬、涂層構(gòu)筑和熱穩(wěn)定性強化機理研究等方面開展了一系列的工作。前期，利用金屬Al合金化Ag納米粒子，結(jié)合多靶共濺射的方法，獲得新型AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜，耐熱溫度較Ag-Al2O3（350℃）提高至500℃，在非真空條件下經(jīng)高溫長時間退火（~1000 h），光學(xué)性能非常穩(wěn)定（ACS Applied Materials Interfaces 2014, 6, 11550; Applied Surface Science 2015, 331, 285）。

示意性示出了本發(fā)明實施例提供的操作s2計算過程流程圖，如圖2所示，該操作例如可以包括s21～s28。s21，根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度。在本實施例可行方式中，獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，選取圖像中一點為原點建立直角坐標(biāo)系，例如，可以在左上角建立直角坐標(biāo)系，圖像左上角向右為x軸正方向，圖像左上角向下為y軸正方向，還可以選取圖像的中心點為原點建立坐標(biāo)系，向右為x軸正方向，向上為y軸正方向，具體建立坐標(biāo)系的方式本發(fā)明不做限制。這樣，可以得到圖像總每一像素點的坐標(biāo)值(x，y)，像素點的灰度值可用g(x，y)表示。每一像素點對應(yīng)的地理坐標(biāo)為(by-1，lx-1)，該地理坐標(biāo)表示該像素點**的地球上的位置在地里坐標(biāo)系中用經(jīng)度和緯度表示地面點位置的球面坐標(biāo)。以往使用的化學(xué)鍍膜，對環(huán)境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。

推薦的，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮氣流量為10～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。推薦的，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮氣流量為10～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。推薦的，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟6)中，靶材為硅靶，氬氣流量為50～500sccm，氧氣流量為50～200sccm，制得的抗反射膜的厚度為60～200nm。推薦的，步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片、鋁板或銅板。此外，堆疊過程使用了一種名為轉(zhuǎn)印的技術(shù)，這一技術(shù)能以高精度三維組裝這些微小的設(shè)備。上海生產(chǎn)太陽光譜模擬AM1

相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。購買太陽光譜模擬工廠

為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時，通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體，相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應(yīng)，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進行反應(yīng)，也會在靶面上與靶材反應(yīng)生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率，是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的技術(shù)問題。技術(shù)實現(xiàn)要素：購買太陽光譜模擬工廠

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司主要經(jīng)營范圍是電子元器件，擁有一支專業(yè)技術(shù)團隊和良好的市場口碑。公司業(yè)務(wù)分為天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠鏡等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務(wù)改進，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于電子元器件行業(yè)的發(fā)展。昊躍光學(xué)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。