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北京下打光太陽光譜模擬AM1

來源: 發(fā)布時間:2023-02-12

科學(xué)家們設(shè)計和建造了一種新型太陽能電池的原型,將多個電池堆疊到一個設(shè)備中,能捕捉太陽光譜中幾乎所有能量。這一新設(shè)計轉(zhuǎn)換太陽光為電力的效率是44.5%,有望成為世界上效率的太陽能電池。   這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。這一新設(shè)備利用了聚光光伏(CPV)電池板,利用透鏡將太陽光集中到微小尺度的太陽能電池上。由于其尺寸很小——小于1平方毫米,因此可以有效地開發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽能電池。   堆棧式電池就像是太陽光篩子,反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜:在第六真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材。北京下打光太陽光譜模擬AM1

步驟2)中,靶材為銅靶,功率為7kw,電壓為520v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為320sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為200nm;3)反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜:在第三真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮化鉻,反應(yīng)生成的氮化鉻沉積在步驟2)制得的低發(fā)射率膜的外表面上形成緩沖膜;步驟3)中,靶材為鉻靶,功率為7kw,電壓為420v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為240sccm,氮?dú)饬髁繛?3sccm,制得的緩沖膜的厚度為90nm;河南生產(chǎn)太陽光譜模擬銷售首先,該方法利用了一族基于銻化鎵(GaSb)基底的材料,這常見于紅外激光器和光電探測器等應(yīng)用之中。

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材以及設(shè)置在基材的外表面上的膜層構(gòu)成,膜層包括6層,從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強(qiáng)化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜,其中強(qiáng)化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺就鍍制備得到,銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到;

示意性示出了本發(fā)明實施例提供的操作s2計算過程流程圖,如圖2所示,該操作例如可以包括s21~s28。s21,根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度。在本實施例可行方式中,獲取一幅大小為x×y的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,選取圖像中一點為原點建立直角坐標(biāo)系,例如,可以在左上角建立直角坐標(biāo)系,圖像左上角向右為x軸正方向,圖像左上角向下為y軸正方向,還可以選取圖像的中心點為原點建立坐標(biāo)系,向右為x軸正方向,向上為y軸正方向,具體建立坐標(biāo)系的方式本發(fā)明不做限制。這樣,可以得到圖像總每一像素點的坐標(biāo)值(x,y),像素點的灰度值可用g(x,y)表示。每一像素點對應(yīng)的地理坐標(biāo)為(by-1,lx-1),該地理坐標(biāo)表示該像素點**的地球上的位置在地里坐標(biāo)系中用經(jīng)度和緯度表示地面點位置的球面坐標(biāo)。濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的銅離子沉積在步驟。

具體實施方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,包括以下依次進(jìn)行的步驟:1)反應(yīng)性濺鍍制備強(qiáng)化膜:在***真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強(qiáng)化膜;濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材。湖南上打光太陽光譜模擬代理

本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材及設(shè)置在基材的外表面上膜層構(gòu)成。北京下打光太陽光譜模擬AM1

獲取模塊310,用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。***計算模塊320,用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度。第二計算模塊330,用于根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度。第三計算模塊340,用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。北京下打光太陽光譜模擬AM1

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