以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構(gòu)建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮氣氣氛下經(jīng)500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前國內(nèi)外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質(zhì)的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率。上海生產(chǎn)太陽光譜模擬濾光片

獲取模塊310，用于獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程。***計算模塊320，用于根據(jù)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度。第二計算模塊330，用于根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度。第三計算模塊340，用于針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。海南AM0太陽光譜模擬銷售雖然科學(xué)家們?yōu)榱藢崿F(xiàn)更具效率的太陽能電池已經(jīng)努力多年，這一方法具有兩個創(chuàng)新之處。

技術(shù)實現(xiàn)要素：(一)要解決的技術(shù)問題針對于現(xiàn)有技術(shù)問題，本發(fā)明提出一種太陽光照補(bǔ)償值計算方法，用于至少部分解決上述技術(shù)問題。(二)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種太陽光照補(bǔ)償值計算方法，用于對地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進(jìn)行光補(bǔ)償，包括：獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程；根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度；根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度；針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值，得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像各像素之間的太陽光照補(bǔ)償值。

經(jīng)檢測，本實施例1制備的膜層的吸收率為94％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3％～9％；本申請制備的膜層的發(fā)射率為4％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％；膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測試，結(jié)果為1級；采用本申請制備的膜層的太陽能集熱器的熱效率為80.4％，比采用現(xiàn)有技術(shù)中膜層的太陽能集熱器的熱效率提高了6％～8.4％。本發(fā)明未詳盡描述的方法和裝置均為現(xiàn)有技術(shù)，不再贅述。本文中應(yīng)用了具體實施例對本發(fā)明的原理及實施方式進(jìn)行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其**思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產(chǎn)品可能將被推向市場。

s25，根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程，計算相對大氣光學(xué)質(zhì)量。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))處的海拔高度，r(α，z)為相對大氣光學(xué)質(zhì)量。s26，根據(jù)相對大氣光學(xué)質(zhì)量，計算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計算散射輻射大氣透明度系數(shù)。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)τd(α，z)＝0.56×(e-0.56r(α，z)+e-0.096r(α，z))×k1(8)計算晴天無云條件下的直射輻射大氣透明度系數(shù)，其中，τd(α，z)為所述直射輻射大氣透明度系數(shù)，k1為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍例如可以為0.8≤k1≤0.9。撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟。陜西上打光太陽光譜模擬

因為不同物質(zhì)被離子擊出的濺擊產(chǎn)額不同，因此不容易控制化合物的成份組成與性質(zhì)。上海生產(chǎn)太陽光譜模擬濾光片

5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。在本申請的一個實施例中，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。上海生產(chǎn)太陽光譜模擬濾光片

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司總部位于若水路388號蘇州納米技術(shù)國家大學(xué)科技園B棟10樓1005，是一家光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷售及相關(guān)技術(shù)服務(wù)；戶外用品的開發(fā)及銷售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動）許可項目：貨物進(jìn)出口；進(jìn)出口代理；技術(shù)進(jìn)出口（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動，具體經(jīng)營項目以審批結(jié)果為準(zhǔn)）一般項目：光學(xué)玻璃銷售；照相機(jī)及器材銷售；教學(xué)儀器銷售；光學(xué)儀器銷售；玻璃儀器銷售；燈具銷售；半導(dǎo)體照明器件銷售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動）的公司。昊躍光學(xué)作為電子元器件的企業(yè)之一，為客戶提供良好的天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡。昊躍光學(xué)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。昊躍光學(xué)始終關(guān)注電子元器件市場，以敏銳的市場洞察力，實現(xiàn)與客戶的成長共贏。