以AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜作為吸收層，成功構建了AgAl-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。在氮氣氣氛下經(jīng)500℃退火1002 h，其太陽光譜吸收率穩(wěn)定在95%左右，400℃紅外發(fā)射率約在10-11%，如圖1所示（Advanced Materials Interfaces 2016, 3, 1600248）。   目前國內外研究人員積極開發(fā)基于熔融鹽（如60% KNO3+40% NaNO3）熱工質的高溫太陽能熱發(fā)電系統(tǒng)，其工作溫度常在550℃以上，客觀上對太陽光譜選擇性吸收涂層提出了更為苛刻的要求，如何獲得600℃下具備優(yōu)異熱穩(wěn)定性的太陽光譜選擇性吸收涂層是亟需攻克的難題之一。此外，反應生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜。西藏購買太陽光譜模擬公司

在本申請的一個實施例中，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。在本申請的一個實施例中，步驟3)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氮氣流量為10～100sccm，制得的緩沖膜的厚度為30～150nm。在本申請的一個實施例中，步驟4)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～500sccm，氮氣流量為10～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的過渡膜的厚度為30～100nm。在本申請的一個實施例中，步驟5)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～300sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的吸收膜的厚度為30～120nm。廣東太陽光譜模擬購買經(jīng)國家節(jié)能產(chǎn)品質量監(jiān)督檢驗中心檢測，該六層膜的膜層具有優(yōu)異的性能。

WTi-Al2O3金屬陶瓷基太陽光譜選擇性吸收涂層在600℃退火前后反射光譜變化圖、微結構和熱強化機理示意圖   金屬納米粒子嵌入到陶瓷基體中組成的金屬陶瓷薄膜是太陽光譜選擇性吸收涂層的**工作層，其熱穩(wěn)定性和綜合光學性能直接決定著整個涂層的光熱轉換效率。高溫下，金屬陶瓷膜內金屬納米粒子的團聚、長大、氧化及涂層內層間原子的擴散遷徙，往往會導致成分和微結構的變化，從而誘發(fā)涂層光學性能的衰減 (不可逆性)。如何解決上述問題，構建熱穩(wěn)定性優(yōu)異、熱發(fā)射率低且吸收率高的太陽光譜選擇性吸收涂層，是光熱技術應用所面臨的重要材料基礎問題。  

步驟5)中，靶材為鉻靶，功率為11kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為110sccm，氧氣流量為90sccm，制得的吸收膜的厚度為80nm；6)反應性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成二氧化硅，反應生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層；步驟6)中，靶材為硅靶，功率為6kw，電壓為560v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為220sccm，氧氣流量為30sccm，制得的抗反射膜的厚度為120nm。以往使用的化學鍍膜，對環(huán)境污染大，而且對太陽熱能的吸收不好。

顯示的區(qū)域約1納米寬，中心在628納米左右。通過*0.7秒的單次曝光記錄太陽光譜的可見區(qū)域，演示了HN-9332光譜儀的寬波長覆蓋范圍。圖的左側部分顯示了SpectraLoK軟件直接顯示的整個425-700nm波長范圍。圖的右部分顯示了在517nm附近鎂三重態(tài)周圍連續(xù)擴展的區(qū)域。HN-9332光譜儀的儀器分辨率比較好用頻率單位來表示——儀器波長覆蓋范圍約20GHz，對應于425nm處約15pm、550nm處約2pμm和700nm處約30pm的分辨率。因此，圖中顯示的數(shù)據(jù)可以理解為相當于>10000個分辨率點，所有這些分辨率點都記錄在不到1秒的單次曝光中。本申請制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％。海南代理太陽光譜模擬AM1

撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學反應生成氧化鉻。西藏購買太陽光譜模擬公司

經(jīng)檢測，本申請制備的膜層的吸收率為93％～97％，比現(xiàn)有技術中膜層的吸收率提高了3％～9％；本申請制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％；膜層的附著力根據(jù)標準要求測試，結果為1級；本申請制備的膜層的光熱轉換的效率為77％～82％，比現(xiàn)有技術中膜層的光熱轉換的效率提高了6％～10％；經(jīng)國家節(jié)能產(chǎn)品質量監(jiān)督檢驗中心檢測，該六層膜的膜層具有優(yōu)異的性能，**優(yōu)于國家標準要求，太陽吸收比α(am1.5)達0.94，半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。西藏購買太陽光譜模擬公司

昊躍光學科技（蘇州）有限公司位于若水路388號蘇州納米技術國家大學科技園B棟10樓1005，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家貿易型企業(yè)。昊躍光學是一家有限責任公司（自然）企業(yè)，一直“以人為本，服務于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質量方針。公司業(yè)務涵蓋天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠鏡，價格合理，品質有保證，深受廣大客戶的歡迎。昊躍光學自成立以來，一直堅持走正規(guī)化、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。