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天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-12-18

微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高,因此對(duì)制備工藝提出了很嚴(yán)格的要求??蒲腥藛T提出了許多方法來(lái)實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備,比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列;利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實(shí)現(xiàn)了微透鏡陣列;利用光刻和熱回流方式實(shí)現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實(shí)現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列,但通常需要使用復(fù)雜的工藝和步驟。此外,這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料,材料本身的機(jī)械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對(duì)而言,透明硬脆材料例如石英、藍(lán)寶石等由于其極高的硬度和極強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性,在光學(xué)窗口、光學(xué)元件等方面的應(yīng)用更加廣。因此,如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學(xué)元件成為研究人員研究的焦點(diǎn)?;叶裙饪碳夹g(shù)作為一種新型的光刻技術(shù),具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢(shì)。天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)

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Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)**技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹(shù)脂和生物材料,開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X。

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超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域,還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如,在新能源領(lǐng)域,它可以用于制造高效的太陽(yáng)能電池板;在人工智能領(lǐng)域,它可以用于制造更快、更強(qiáng)大的計(jì)算芯片。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動(dòng)科技的發(fā)展,為人類創(chuàng)造更美好的未來(lái)。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過(guò)不斷突破科技邊界,攻克了一個(gè)又一個(gè)難題,從而實(shí)現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來(lái)了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn),也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn)。超高速灰度光刻技術(shù)的問(wèn)世,標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑。我們相信,在這項(xiàng)技術(shù)的推動(dòng)下,未來(lái)將會(huì)有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來(lái)的美好未來(lái)!

微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似,但是原理不同,我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu),對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具,但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,雙光子灰度光刻(2GL ?)系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。

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Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等?;叶裙饪碳夹g(shù)可以實(shí)現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造。黑龍江超高速灰度光刻激光直寫

灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時(shí)間。另外,QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)

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