Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微...
隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內傳導藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,而全新推出的Quan...
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Q...
QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(2GL?)。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復...
Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此...
借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術...
隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步,人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內傳導藥物的載體,可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺...
Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2...
作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)...
傳統(tǒng)上,調節(jié)板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創(chuàng)建單個組件。增材制造在此提供的優(yōu)勢在于,可以設計結構一體化的零件,從而減少零件的數(shù)量,并替代釬焊。單一的結構對設計迭代也帶來了直觀的好處,我們可以想象,要通過傳統(tǒng)的供應鏈,訂購多個零件可能需要...
Nanoscribe設備專注于納米,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,激光固化部分液態(tài)光敏材料,逐層固化。使用雙光子聚合,分辨率可...
雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射...
灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制...
光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減...
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電...
相較于傳統(tǒng)生產(chǎn)方式,增材制造能有效降低生產(chǎn)成本與進入門檻。舉例來說,制造業(yè)應用廣的CNC 數(shù)控機床加工在全球范圍內存在人才短缺問題,且其必備的專業(yè)操作人員是沉重的人力成本來源,這也是中小型生產(chǎn)廠家難以與規(guī)模較大的競爭對手匹敵的重要原因。 與之形成對比的增材制造...
QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于N...
我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結構,灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術,用于快速,特別高精度的微納加工,可以輕松3D微納光學制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。...
Nanoscribe基于雙光子聚合技術的3D打印技術為構建具有自由形狀和復雜特征的零件提供了極大的自由度,可直接根據(jù)CAD模型制造成品。若以傳統(tǒng)方式來制造這些設計復雜的零件,則顯得非常不切實際,甚至根本不可能完成。增材制造技術制造的零件往往更輕、更高效且...
在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,以及本質上為準連續(xù)的...
Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電...
增材制造(Additive Manufacturing,AM)俗稱3D打印,融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎,通過軟件與數(shù)控系統(tǒng)將專門使用的金屬材料、非金屬材料以及醫(yī)用生物材料,按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積,制...
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用...
光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術,用于快速,特別高精度的微納加工,可以輕松3D微納光學制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。...
近幾年來,增材制造在全球范圍內迅速走熱,各國對于增材制造技術又開始重新重視起來,美國總統(tǒng)奧巴馬將其視作制造業(yè)回歸升級的重要方向,中國也在金屬增材制造領域一直處于排名在前的水平。隨著技術不斷的進步,增材制造已經(jīng)在航空航天、模具以及汽車等領域獲得大規(guī)模...
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系...
近年來,實現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結構在包括微機電(MEMS)、微納光學及微流控研究領域內備受關注,良好的線性側壁灰度結構可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性,信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結構的傳統(tǒng)手段,如超快激光刻蝕工藝、電化學...
Nanoscribe基于雙光子聚合技術的3D打印技術為構建具有自由形狀和復雜特征的零件提供了極大的自由度,可直接根據(jù)CAD模型制造成品。若以傳統(tǒng)方式來制造這些設計復雜的零件,則顯得非常不切實際,甚至根本不可能完成。增材制造技術制造的零件往往更輕、更高效且...