斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心,共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內窺鏡。該內窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米,可以用于直徑小于半毫米的血管內進行內窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公...
光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減...
借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...
光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...
所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工...
Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解...
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...
雖然半導體行業(yè)一直在使用3D打印技術,我們可能會有一個疑問,為什么我們沒有聽說,一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司,它們構成了光刻或制造機器的主要部分,那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內幕,因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少,對外界...
3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個...
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方...
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...
QuantumXshape技術特點概要:快速原型制作,高精度,高設計自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產;200個標準結構的通宵產量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線,其晶圓處...
借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微...
雙光子聚合技術(2PP)是一種“納米光學”3D打印方法,類似于光固化快速成型技術,未來學家ChristopherBarnatt認為這種技術未來可能會成為主流3D打印形式。國際上,維也納科技大學的科學家們一致致力于提高感光性樹脂性能和成像技術。而英國...
QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL?)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計...
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...
全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂...
3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個...
Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性...
Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解...
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...
Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性...
來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計??茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術...
Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直...
借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術...
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和...