EVG?150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng):各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波附加模塊選項(xiàng)預(yù)對(duì)...
F60系列包含的內(nèi)容:集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置(不含平臺(tái))4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F60-t:20nm-70μm380-1050nmF60-t-UV:5nm-40μm190-11...
強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件美國(guó)硅谷研發(fā)、中英文自由切換光機(jī)電一體化軟硬件集成三維分析處理迅速,結(jié)果實(shí)時(shí)更新縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理自主設(shè)定測(cè)量閾值,三維處理自動(dòng)標(biāo)注測(cè)量模式可根據(jù)需求自由切換三維圖像支持高清打印菜單式參數(shù)設(shè)置,一鍵式操作,人機(jī)界面?zhèn)€性...
NanoX-80003D輪廓測(cè)量主要技術(shù)參數(shù)3D測(cè)量主要技術(shù)指標(biāo)(1):測(cè)量模式:PSI+VSI+CSIZ軸測(cè)量范圍:大行程PZT掃描(300um標(biāo)配/500um選配)10mm精密電機(jī)拓展掃描CCD相機(jī):1920x1200高速相機(jī)(標(biāo)配)干涉物鏡:(標(biāo)配),2...
輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,典型結(jié)果包括:表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺(tái)階高度,錐角等)幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和...
Abouie M 等人[4]針對(duì)金—硅共晶鍵合過(guò)程中凹坑對(duì)鍵合質(zhì)量的影響展開(kāi)研究,提出一種以非晶硅為基材的金—硅共晶鍵合工藝以減少凹坑的形成,但非晶硅的實(shí)際應(yīng)用限制較大。康興華等人[5]加工了簡(jiǎn)單的多層硅—硅結(jié)構(gòu),但不涉及對(duì)準(zhǔn)問(wèn)題,實(shí)際應(yīng)用的價(jià)值較小。陳穎慧等...
BONDSCALE與EVG的行業(yè)基準(zhǔn)GEMINIFBXT自動(dòng)熔融系統(tǒng)一起出售,每個(gè)平臺(tái)針對(duì)不同的應(yīng)用。雖然BONDSCALE將主要專注于工程化的基板鍵合和層轉(zhuǎn)移處理,但GEMINIFBXT將支持要求更高對(duì)準(zhǔn)精度的應(yīng)用,例如存儲(chǔ)器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),背...
EVG的晶圓鍵合機(jī)鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,快速加熱和冷卻。通過(guò)控制溫度,壓力,時(shí)間和氣體,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過(guò)程。也可以通過(guò)添加電源來(lái)執(zhí)行陽(yáng)極鍵合。對(duì)于UV固化黏合劑,可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行。頂部和底部晶片的獨(dú)li...
鍵合機(jī)特征高真空,對(duì)準(zhǔn),共價(jià)鍵合 在高真空環(huán)境(<5·10-8mbar)中進(jìn)行處理 原位亞微米面對(duì)面對(duì)準(zhǔn)精度 高真空MEMS和光學(xué)器件封裝原位表面和原生氧化物去除 優(yōu)異的表面性能 導(dǎo)電鍵合 室溫過(guò)程 多種材料組合,包括金屬(鋁) 無(wú)應(yīng)力鍵合界面 高鍵合強(qiáng)度 用...
長(zhǎng)久鍵合系統(tǒng) EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對(duì)準(zhǔn)與鍵合步驟分離開(kāi)來(lái),立即在業(yè)內(nèi)掀起了市場(chǎng)閣命。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當(dāng)今的工藝標(biāo)準(zhǔn),EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動(dòng)和全自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)的主要市場(chǎng)份額,并且安裝的機(jī)臺(tái)已經(jīng)超過(guò)1500...
薄膜應(yīng)力分析儀使用過(guò)程中需要注意什么?1.樣品必須干凈,無(wú)油污、塵土等雜質(zhì)。在樣品處理過(guò)程中,需要避免使用對(duì)薄膜有影響的酸、堿等溶劑。2. 需要保持測(cè)試環(huán)境的溫度、濕度、氣氛、塵埃等在一定的范圍內(nèi),避免污染和干擾測(cè)試。3. 測(cè)試儀器需要調(diào)整好測(cè)量參數(shù),并做好相...
AVI400-XLAVI400-XL的基本配置包括兩個(gè)緊湊型隔振模塊和一個(gè)控制單元,最大負(fù)載為800公斤。通過(guò)增加緊湊型單元的數(shù)量,可以輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)更高負(fù)載的支持。為了使AVI400-M適應(yīng)用戶特定的應(yīng)用,可以使用不同長(zhǎng)度的緊湊型裝置。AVI400-XL的...
LFS-3傳感器在三個(gè)軸上測(cè)量水平和垂直加速度,頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上,與標(biāo)準(zhǔn)AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用在前饋回路中,以提高極低頻時(shí)的隔振性能。LFS-3可以被復(fù)裝到現(xiàn)有的AVI/LP系統(tǒng)中。下面的圖顯示了在AVI/LP系統(tǒng)上測(cè)量的垂直和水...
電阻率測(cè)量?jī)x使用的探針需要具備哪些特征?1. 電極間間隔小:電阻率測(cè)量?jī)x采用四線法,因此探針需要具備足夠的細(xì)小結(jié)構(gòu),以保證測(cè)量時(shí)電極間的間隔足夠小。2. 穩(wěn)定性好:探針的結(jié)構(gòu)需要穩(wěn)定,以確保在長(zhǎng)時(shí)間使用過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)形變、失穩(wěn)等問(wèn)題。3. 可更換:由于探針的使...
晶圓缺陷自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)是什么?1、高效性:晶圓缺陷自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備能夠快速地檢測(cè)出晶圓上的缺陷,提高了生產(chǎn)效率。2、準(zhǔn)確性:晶圓缺陷自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備使用先進(jìn)的圖像處理技術(shù)和算法,能夠準(zhǔn)確地識(shí)別和分類晶圓上的缺陷。3、可靠性:晶圓缺陷自動(dòng)檢測(cè)設(shè)備能夠穩(wěn)定地工作,不會(huì)...
晶圓缺陷檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)主要包括:1、高精度:晶圓缺陷檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)采用高分辨率、高靈敏度的光學(xué)成像技術(shù),能夠快速準(zhǔn)確地檢測(cè)出微小的缺陷和瑕疵。2、可靠性高:晶圓缺陷檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)采用非接觸高精度測(cè)量技術(shù),避免了因接觸式檢測(cè)導(dǎo)致的二次污染、破損等問(wèn)題。3、檢測(cè)范...
輪廓的角度處理:角度處理:兩直線夾角、直線與Y軸夾角、直線與X軸夾角點(diǎn)線處理:兩直線交點(diǎn)、交點(diǎn)到直線距離、交點(diǎn)到交點(diǎn)距離、交點(diǎn)到圓心距離、交點(diǎn)到點(diǎn)距離圓處理:圓心距離、圓心到直線的距離、交點(diǎn)到圓心的距離、直線到切點(diǎn)的距離線處理:直線度、凸度、LG凸度、對(duì)數(shù)曲線...
輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測(cè)試儀是對(duì)物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測(cè)試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測(cè)量?jī)x器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò))先進(jìn)的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測(cè)技...
輪廓儀、粗糙度儀、三坐標(biāo)的區(qū)別:關(guān)于輪廓儀和粗糙度儀輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產(chǎn)品,輪廓儀主要功能是測(cè)量零件表面的輪廓形狀,比如:汽車零件中的溝槽的槽深、槽寬、倒角(包括倒角位置、倒角尺寸、角度等),圓柱表面素線的直線度等參數(shù)??傊喞獌x反映的是零件的宏觀輪...
輪廓儀的主要客戶群體300mm集成電路技術(shù)封裝生產(chǎn)線檢測(cè)集成電路工藝技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室高效太陽(yáng)能電池技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化MEMS技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化新型顯示技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化超高精密表面工程技術(shù)輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測(cè)量?jī)x器,儀器傳感器相對(duì)被測(cè)工件表而作勻速滑行...
超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介:中組部第十一批“qian人計(jì)劃”特聘磚家,美國(guó)KLA-Tencor(集成電路行業(yè)檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)的籠頭企業(yè))資申研發(fā)總監(jiān),干涉測(cè)量技術(shù)磚家美國(guó)上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師,創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測(cè)量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法,在光測(cè)領(lǐng)域發(fā)...
輪廓儀產(chǎn)品應(yīng)用藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析(粗拋與精拋比較)高精密材料表面缺陷超精密表面缺陷分析,核探測(cè)Oled特征結(jié)構(gòu)測(cè)量,表面粗糙度外延片表面缺陷檢測(cè)硅片外延表面缺陷檢測(cè)散熱材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)生物、醫(yī)藥新技術(shù),微流控器件微結(jié)構(gòu)均勻性缺陷,表面...
1.5.系統(tǒng)培訓(xùn)的注意事項(xiàng)如何使用電子書(shū)閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊(cè);數(shù)據(jù)采集功能的講解:通訊端口、連接計(jì)算器、等待時(shí)間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置;實(shí)際演示一一講解;如何做好備份和恢復(fù)備份資料;當(dāng)場(chǎng)演示各種報(bào)表的操作并進(jìn)行操作解說(shuō);數(shù)據(jù)庫(kù)文件應(yīng)定時(shí)作備份,大變動(dòng)時(shí)...
輪廓儀產(chǎn)品概述:NanoX-2000/3000系列3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)...
關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um...
共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多真孔盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多真孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過(guò)MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但...
關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um...
輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測(cè)試儀是對(duì)物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測(cè)試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測(cè)量?jī)x器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò))先進(jìn)的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測(cè)技...
表面三維輪廓儀對(duì)精密加工的作用:一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性:通過(guò)光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),積大提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,蕞終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。二、提...
白光干涉輪廓儀對(duì)比激光共聚焦輪廓儀白光干涉3D顯微鏡:干涉面成像,多層垂直掃描蕞好高度測(cè)量精度:<1nm高度精度不受物鏡影響性價(jià)比好。激光共聚焦3D顯微鏡:點(diǎn)掃描合成面成像,多層垂直掃描Keyence(日本)蕞好高度測(cè)量精度:~10nm高度精度由物鏡決定,1u...