本實(shí)用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：真空鍍膜機(jī)要求在真空環(huán)境下進(jìn)行鍍膜，在鍍膜室進(jìn)行蒸鍍后，鍍膜室中殘留的部分未蒸餾到薄膜上的蒸汽遇冷會(huì)形成粉塵，而粉塵在別真空泵抽走后，會(huì)堵塞真空泵，影響真空泵的使用以及容易損壞真空泵?，F(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)，在除粉塵時(shí)，多利用負(fù)壓作用將出氣口上的頂蓋打開(kāi)，并利用彈簧的彈力蓋緊頂蓋，但在打開(kāi)時(shí)需要較大的壓力才能頂出頂蓋，而真空鍍膜設(shè)備通過(guò)彈簧蓋緊頂蓋，容易出現(xiàn)蓋不緊的情況，導(dǎo)致鍍膜機(jī)內(nèi)真空度不夠，影響鍍膜的過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種密封性良好且能夠除塵的真空鍍膜設(shè)備。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：提供一種真空鍍膜設(shè)備，包括鍍膜機(jī)；所述鍍膜機(jī)底部設(shè)有出氣管；所述出氣管上設(shè)有寶來(lái)利真空連接套；所述寶來(lái)利真空連接套上設(shè)有第二連接套；所述第二連接套中設(shè)有頂蓋，所述頂蓋與所述寶來(lái)利真空連接套之間通過(guò)磁吸連接；所述第二連接套遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有抽氣管；所述抽氣管遠(yuǎn)離所述第二連接套一側(cè)設(shè)有真空泵；所述抽氣管內(nèi)靠近所述真空泵一側(cè)設(shè)有寶來(lái)利真空過(guò)濾網(wǎng)。 寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，功能鍍膜，有需要可以咨詢(xún)！上海激光鏡片真空鍍膜設(shè)備怎么用

因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi)，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說(shuō)明此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分，示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例，并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo)：10-外腔體；11-寶來(lái)利真空底板；12-寶來(lái)利真空側(cè)壁；13-傳送裝置；20-內(nèi)反應(yīng)腔；21-第二底板；22-第二側(cè)壁；23-自動(dòng)門(mén)；30-密封蓋板；40-溫控管；41-恒溫控制器。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然。 上海1680真空鍍膜設(shè)備推薦貨源寶來(lái)利HUD真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來(lái)咨詢(xún)！

以專(zhuān)門(mén)作為工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20。寶來(lái)利真空底板11、寶來(lái)利真空側(cè)壁12、第二底板21和第二側(cè)壁22均可由金屬材料組成，其中，第二底板21和第二側(cè)壁22則優(yōu)先選用熱傳導(dǎo)效果較好的金屬材料組成，例如可選不銹鋼或鋁合金等材料。除上述結(jié)構(gòu)形式外，外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20還可以共用一個(gè)底板，真空鍍膜設(shè)備用一圈隔離板對(duì)外腔體10進(jìn)行分割即可。但為了將內(nèi)反應(yīng)腔20的空間盡可能地縮小到所需范圍，且真空鍍膜設(shè)備大限度地降低非必要的空間，該實(shí)施方式中設(shè)置了寶來(lái)利真空底板11和第二底板21相互分離的設(shè)置結(jié)構(gòu)，以在垂直方向上縮小內(nèi)反應(yīng)腔20的空間。其中，寶來(lái)利真空底板11、寶來(lái)利真空側(cè)壁12和密封蓋板30三者相互密閉連接共同構(gòu)成了與外部大氣隔離的具有封閉結(jié)構(gòu)的外腔體10。而內(nèi)反應(yīng)腔20則位于該外腔體10之內(nèi)，但是第二側(cè)壁22與密封蓋板30之間并未形成封閉式接觸，兩者之間屬于分離式設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)也就使得外腔體10與內(nèi)反應(yīng)腔20之間在仍屬于相互連通的結(jié)構(gòu)構(gòu)造，用該結(jié)構(gòu)可以將真空設(shè)備中的部分構(gòu)件分離，將工藝過(guò)程中非必要的機(jī)械結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于外腔體10中，而與工藝反應(yīng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中。在工藝反應(yīng)過(guò)程中，由于工藝反應(yīng)區(qū)的壓力要大于外腔體10中的壓力。

所描述的實(shí)施例寶來(lái)利寶來(lái)利是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-5，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備，包括腔體1、基板2和坩堝3，腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器，坩堝3放置在加熱板14的頂部，腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機(jī)21，并且抽風(fēng)機(jī)21進(jìn)風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22，風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機(jī)21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī)16，電機(jī)16通過(guò)導(dǎo)線(xiàn)與控制開(kāi)關(guān)及外部電源連接，并且電機(jī)16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17，雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊18，兩個(gè)活動(dòng)塊18的底部均固定連接有限位板19，兩個(gè)限位板19相對(duì)的一側(cè)均開(kāi)設(shè)有與基板2相適配的限位槽，并且兩個(gè)活動(dòng)塊18的頂部均通過(guò)第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動(dòng)連接，雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機(jī)16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部，雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接，腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 寶來(lái)利中頻熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，細(xì)膩有光澤，有需要可以來(lái)咨詢(xún)！

通過(guò)上述說(shuō)明可知，溫控管40的設(shè)置形式多種多樣，本實(shí)用新型并不限制溫控管40的具體設(shè)置形式，例如可以按照上述溫控管40纏繞并固定的形式，也可以按照在第二側(cè)壁22或第二底板21上安裝水套或設(shè)通道的形式，只要求保證使用時(shí)溫控管40可耐壓耐溫不出現(xiàn)滲漏或漏電現(xiàn)象即可。另一方面，本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空鍍膜設(shè)備，包括機(jī)械模塊部件、工藝模塊部件和實(shí)施例一的真空反應(yīng)腔室，所述工藝模塊部件位于所述內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)，部分所述機(jī)械模塊部件位于所述外腔體10內(nèi)。該真空鍍膜設(shè)備包括本實(shí)用新型的真空反應(yīng)腔室，因此，該真空鍍膜設(shè)備具有上述真空反應(yīng)腔室的全部***，在此不再贅述。其中，設(shè)置于外腔體10內(nèi)的部分機(jī)械模塊部件為與工藝反應(yīng)無(wú)關(guān)的一些傳動(dòng)機(jī)械部件、升降機(jī)械部件等等，另一部與工藝反應(yīng)相關(guān)的機(jī)械部件，如鍍膜靶材的轉(zhuǎn)動(dòng)部件等等則設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中。具體的，可以根據(jù)真空鍍膜設(shè)備的具體結(jié)構(gòu)而定。該真空鍍膜設(shè)備中，由于真空反應(yīng)腔室設(shè)計(jì)成內(nèi)外腔結(jié)構(gòu)，同時(shí)，通過(guò)設(shè)置溫控裝置，可以有效地保證工藝環(huán)境封閉、恒溫、外部污染源少，為工藝反應(yīng)提供了更為穩(wěn)定、純凈的環(huán)境。通過(guò)實(shí)際實(shí)驗(yàn)證明，反應(yīng)區(qū)域溫度環(huán)境更均勻。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備膜層亮度高，請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司，有需要可以來(lái)咨詢(xún)考察！浙江防紫外線(xiàn)真空鍍膜設(shè)備定制

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所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室，其結(jié)構(gòu)如圖1和圖2所示，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體10，以及位于所述外腔體10內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20；所述內(nèi)反應(yīng)腔20的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門(mén)23，所述自動(dòng)門(mén)23連接自動(dòng)門(mén)控制器，工件自所述外腔體10經(jīng)所述自動(dòng)門(mén)23進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔20中。本實(shí)施方式提供的真空反應(yīng)腔室，外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔20為嵌套結(jié)構(gòu)，其內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室，其中外腔體10用于隔絕大氣，提供真空環(huán)境，而內(nèi)反應(yīng)腔20中的區(qū)域?yàn)楣に嚪磻?yīng)區(qū)，形成相對(duì)封閉的工藝環(huán)境，相關(guān)工藝反應(yīng)在內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu)，可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中，而與工藝反應(yīng)無(wú)直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后，位于外腔體10中的工件再經(jīng)自動(dòng)門(mén)23進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行工藝反應(yīng)，可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域。 上海激光鏡片真空鍍膜設(shè)備怎么用