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IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
■用于光學元件的微成型應用
■用于全場納米壓印應用
■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償
■粘合對準和紫外線粘合功能
紫外線壓印_紫外線固化
印章
防紫外線基材
附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記
用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。
μ-接觸印刷
軟印章
基板上的材料
領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章
EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的***選擇。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用
IQ Aligner UV-NIL特征:
用于光學元件的微成型應用
用于全場納米壓印應用
三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償
三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制
利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù):
晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型
曝光源:汞光源
對準:≤±0.5微米
自動分離:支持的
前處理:涂層:水坑點膠(可選)
迷你環(huán)境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
3D IC納米壓印芯片堆疊應用EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。
EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說:“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù),我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。”
EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應用,并遵循公司模塊計劃的推出。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。
注:*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務有限公司。 EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。
對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征:
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能:
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。EVG520 HE納米壓印美元價格
IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用
儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗,如果GDP的增長在10%以上時,儀表行業(yè)的增長率則在26%~30%之間。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大。進一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平,其他有限責任公司企業(yè)要順應產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流,在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時,進一步發(fā)展智能儀器儀表,提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。半導體工藝設備,半導體測量設備,光刻機 鍵合機,膜厚測量儀產(chǎn)業(yè)是國民經(jīng)濟的基礎性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè),是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭,對促進工業(yè)轉(zhuǎn)型升級、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動現(xiàn)代**建設、保證和提高大家生活水平具有重要作用。隨著中國的不斷進步,世界上只有一個救世主——市場,能救企業(yè)的只有你自己——自強,提高貿(mào)易型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路。以顯微科學儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例,以親身的實踐為例,毛磊認為,隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展,我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化,有了完全不同的基礎,這為國產(chǎn)科學儀器走向**增強了信心。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用