本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域，尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù)：酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來(lái)越大，發(fā)掘的污染物種類(lèi)也越來(lái)越多，對(duì)環(huán)境造成巨大的危害，此類(lèi)問(wèn)題也成為社會(huì)的重要課題。為了減少甚至杜絕此類(lèi)污染的發(fā)生，我們需要對(duì)酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目前對(duì)于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法，但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大，比重增加，必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來(lái)控制參數(shù)，這樣污染大，影響環(huán)境，而且還會(huì)造成銅和酸的浪費(fèi)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題為如何通過(guò)簡(jiǎn)單、低成本的技術(shù)實(shí)現(xiàn)種酸性蝕刻液電解后廢液的再生利用。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，包括：電解槽，具有一出液口和出氣口，且內(nèi)置有酸性蝕刻液，用于對(duì)所述酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅，產(chǎn)生氯氣，得到電解后液；再生液調(diào)配缸，具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口，所述進(jìn)液口通過(guò)管道與所述電解槽的出液口連接以接收電解后液；射流器，其進(jìn)氣口通過(guò)導(dǎo)氣管與所述電解槽的出氣口連接以接收所述氯氣。BOE蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合？浙江應(yīng)用BOE蝕刻液推薦貨源

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類(lèi)和表面活性劑，來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來(lái)越小，集成度越來(lái)越高，對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高，如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí)，晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí)，檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問(wèn)題，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類(lèi)和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類(lèi)、％的表面活性劑。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。湖北一種BOE蝕刻液廠家現(xiàn)貨好的BOE蝕刻液的標(biāo)準(zhǔn)是什么。

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