【鍍膜玻璃的主要產生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產方式包括間歇式和連續(xù)式生產法，其中連續(xù)式生產法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產兩種。其中，水平連續(xù)式生產法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點主要有：①對靶材的面積和形狀不作要求，且可實現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產效率高。 光學鍍膜機的工作原理和構成。湖北ar光學鍍膜機

【光學鍍膜機維護與保養(yǎng)之光路的檢修與維護】光路調整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉換放大器、光學膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉換放大器、光學膜厚測量儀的接地點，必須單獨歸至主機接點牢固接地。 導磁板及掃描圈的維護：導磁板及永磁鐵是不需要經常拆卸維護，如需拆卸，請注意永磁鐵的極向，及導磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實，請不要使用硬尖的東西撬動，否則有可能會造成損壞。 湖南華源光學鍍膜機光學鍍膜機的相關資料。

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結形成固態(tài)薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產生，所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關鍵部件，大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應法和激光蒸發(fā)法等。目前，采用真空蒸鍍法生產鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產。

【光學鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質加熱揮發(fā)，然后將其蒸氣沉積在預定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā)，又是在真空中進行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個步驟 (1)凝態(tài)的物質被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結成薄膜 膜厚的量測方法有哪些呢， 大致上可分為原位量測、離位量測兩類：原位星測系指鍍膜進行中量測，普遍使用在物理qi相沉積，如微天平、光學、電阻量測。 離位量測系指鍍膜完成后量測，對電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質量、剖面計、掃描式電子顯微鏡。 光學鍍膜機常見故障及解決方法。

【光學薄膜制備技術之物理qi相學沉積(PVD)】 物理qi相沉積法，簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術。 1) 熱蒸發(fā)：光學薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡單、經濟、操作方便。 2) 濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過動量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強，純度高，可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術中增設離子發(fā)生器—離子源，產生離子束，在熱蒸發(fā)進行的同時，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結構(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達到改善膜層光學和機械性能。 PVD光學鍍膜機的公司。上海光學鍍膜機光控片原理圖

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【光學鍍膜之抗污膜】抗污膜（頂膜） 鏡片表面鍍有多層減反射膜后，鏡片特別容易產生污漬，而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下，我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結構，所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，而且這層膜必須非常薄，以使其不會改變減反射膜的光學性能。 當減反射膜層完成后，可使用蒸發(fā)工藝將氟化物鍍于反射膜上。抗污膜可將多孔的減反射膜層覆蓋起來，并且能夠將水和油與鏡片的接觸面積減少，使油和水滴不易粘附于鏡片表面，因此也稱為防水膜。 對于有機鏡片而言，理想的表面系統(tǒng)處理應該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復合膜。通?？鼓p膜鍍層*厚，約為3－5mm，多層減反射膜的厚度約為0.3um，頂層抗污臘鍍*薄，約為0.005－0.01mm。 湖北ar光學鍍膜機

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