【光學濾光片之按光譜特性區(qū)分】：帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片：選定特定波段的光通過，通帶以外的光截止。其光學指標主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)，中心波長透過率（Tp），截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶，通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分，小于2%來定為窄帶，大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片，寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通)：短于選定波長的光通過，長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片，IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通)：長于選定波長的光通過，短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片，LWP-700。光學鍍膜機哪個牌子的好？北京藍光光學鍍膜機

    【光學鍍膜之減反射膜技術】1）鍍膜前準備：鏡片在接受鍍膜前必須進行分子級的預清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完后，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時在蒸發(fā)過程中，對鍍膜材料的化學成分能嚴密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠對于膜層的厚度精確控制，精度達到。3）膜層牢固性：對眼鏡片而言，膜層的牢固性是至關重要的，是鏡片重要的質量指標。鏡片的質量指標包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對性的物理化學測試方法，在模擬戴鏡者的使用條件下，對鍍膜鏡片進行膜層牢度質量的測試。這些測試方法包括：鹽水試驗、蒸汽試驗、去離子水試驗、鋼絲絨磨擦試驗、溶解試驗、黏著試驗、溫差試驗和潮濕度試驗等等。 廣西光學鍍膜機操作學習資料真空鍍膜機技術教程。

    【光學薄膜制備技術之物理qi相學沉積(PVD)】物理qi相沉積法，簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術。1)熱蒸發(fā)：光學薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡單、經濟、操作方便。2)濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過動量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強，純度高，可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。3)離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。4)離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術中增設離子發(fā)生器—離子源，產生離子束，在熱蒸發(fā)進行的同時，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結構(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達到改善膜層光學和機械性能。

一、電子槍安裝與維護電子槍蒸發(fā)源控制系統(tǒng)是由電子槍燈絲電源、高壓電源、掃描電源、坩堝驅動電源、蒸發(fā)源等組成一個電子槍控制電柜。電子槍控制電柜內含有高壓，在工作前必須保證柜門各個聯(lián)鎖裝置正常工作，非專業(yè)人員不得打開電柜門，電子槍在工作時不得打開電柜門，整個電柜必須有良好的接地并與機臺接地連接。電子槍蒸發(fā)源安裝在真空室底板上，必須與底板有良好的接地效果，安裝蒸發(fā)源必須使用不銹鋼螺絲來固定，周邊200mm以內不得有導磁的物體，否則會影響到電子槍的光斑成表，造成電子性能的不良。電子槍檔板應盡量裝在蒸發(fā)源坩堝的中心上30mm處，以不影響電子束的發(fā)射為好。電子槍蒸發(fā)源是一個精密機械加工體，在工作時必須保證有良好的冷卻水，如過高的溫度會影響電子束的成型及各密封圈的性能。光學鍍膜機可以制造出具有高精度的薄膜，可以用于制造高精度的光學器件。

    【光學鍍膜之何為化學氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點有哪些】化學氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學反應，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達到1μm/min(3)與PVD比較的話。化學量論組成或合金的鍍膜較容易達成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時鍍數(shù)十芯片缺點:(1)熱力學及化學反應機制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產生作用(3)反應氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時需小心(4)反應生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質。 光學鍍膜機故障解決方法？四川光學鍍膜機市場

電子束蒸發(fā)光學鍍膜機是什么？北京藍光光學鍍膜機

光學鍍膜通常適用于特定的入射角和特定的偏振光，例如S偏振，P偏振或隨機偏振。如果射入鍍膜的光線角度與其設計入射角不同，將導致性能顯著降低，如果入射角度與設計入射角偏差非常大，可能會導致鍍膜功能完全喪失。類似地，使用與設計偏振光不同的偏振光會產生錯誤的結果。光學鍍膜由沉積電介質和金屬材料制作而成，如交替薄膜層中的五氧化二鉭（Ta2O5）和/或氧化鋁（Al2O3）。為使應用中的干涉達到比較大或小，鍍膜通常具有四分之一波長光學厚度(QWOT)或半波光學厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替制成，從而誘發(fā)干涉效應。北京藍光光學鍍膜機

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