【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中較硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰性強(qiáng)和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數(shù)jin為。金剛石薄膜的高熱導(dǎo)率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導(dǎo)彈的整流罩材料。類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導(dǎo)率高、化學(xué)惰性強(qiáng)、良好的光學(xué)性能等，同時又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究價值和廣fan的應(yīng)用前景，引起學(xué)術(shù)界極大興趣。美國已經(jīng)將類金剛石薄膜材料作為國家21世紀(jì)的戰(zhàn)略材料之一。 光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多？上海光學(xué)鍍膜機(jī)零部件

【光學(xué)鍍膜之蒸發(fā)源的類型和特點(diǎn)】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì) 。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。 ③電子束加熱源：用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000℃）的材料。 特點(diǎn)：能在金屬、半導(dǎo)體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的。可以不同的沉積速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯微結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)（單晶、多晶或非晶等）的薄膜； 薄膜的純度很高；易于在線檢測和控制薄膜的厚度與成分；厚度控制精度*高可達(dá)單分子層量級。河北北儀光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)歡迎咨詢成都國泰真空設(shè)備有限公司。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別：一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

    【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。①反應(yīng)濺射法：即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上，適用濺射化合物膜。②高頻濺射法。基片裝在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動態(tài)平衡時，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行，適用濺射絕緣膜。 光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有高透過率或低透過率的薄膜，可以用于制造濾光片或光學(xué)器件。

    四、光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)（一）定期更換擴(kuò)散泵油擴(kuò)散泵油使用一段時間，約二個月（兩班），因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時才啟動擴(kuò)散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng)，擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解，使其品質(zhì)下降，而延長抽氣時間。在我們認(rèn)為時間延長得太多時，應(yīng)予更換。（二）真空泵機(jī)械泵油、維持泵油在使用二個月，油質(zhì)會發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因，而使用油粘性變差，真空下降，故需要更換。如為新設(shè)備，在使用頭半個月即應(yīng)更換，因在磨合期，油含磨合鐵粉較多，會加劇磨損。（三）清潔衛(wèi)生定期將設(shè)備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好，常保持設(shè)備內(nèi)外清潔，將設(shè)備周圍環(huán)境整理有條，有一個好的工作環(huán)境，以保安全。 光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有不同波長的光學(xué)薄膜，可以用于制造多種光學(xué)器件。黑龍江光學(xué)鍍膜機(jī)的操作

光學(xué)鍍膜機(jī)為什么會越來越慢？上海光學(xué)鍍膜機(jī)零部件

光學(xué)鍍膜通常適用于特定的入射角和特定的偏振光，例如S偏振，P偏振或隨機(jī)偏振。如果射入鍍膜的光線角度與其設(shè)計入射角不同，將導(dǎo)致性能顯著降低，如果入射角度與設(shè)計入射角偏差非常大，可能會導(dǎo)致鍍膜功能完全喪失。類似地，使用與設(shè)計偏振光不同的偏振光會產(chǎn)生錯誤的結(jié)果。光學(xué)鍍膜由沉積電介質(zhì)和金屬材料制作而成，如交替薄膜層中的五氧化二鉭（Ta2O5）和/或氧化鋁（Al2O3）。為使應(yīng)用中的干涉達(dá)到比較大或小，鍍膜通常具有四分之一波長光學(xué)厚度(QWOT)或半波光學(xué)厚度(HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率層交替制成，從而誘發(fā)干涉效應(yīng)。上海光學(xué)鍍膜機(jī)零部件

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