【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產(chǎn)生副作用。由于加熱的結果，可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較da的團粒，并同時分解成碳渣。 真空鍍膜機故障解決方法？福建蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),*后到達陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。 福建蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機真空鍍膜機品牌有很多，你如何選擇？

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料： 多數(shù)金屬都可以被電解拋光，其中*常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級不銹鋼）。 2.不同材料不可同時進行電解拋光，甚至不可以放在同一個電解溶劑里。 工藝成本：電解拋光整個過程基本由自動化完成，所以人工費用很低。環(huán)境影響：電解拋光采用危害較小的化學物質(zhì)，整個過程需要少量的水且操作簡單，另外可以延長不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。

【真空鍍膜機之真空泵的維護和保養(yǎng)】1、經(jīng)常檢查油位位置，不符合規(guī)定時須調(diào)整使之符合要求。以泵運轉(zhuǎn)時，油位到油標中心為準。2、經(jīng)常檢查油質(zhì)情況，發(fā)現(xiàn)油變質(zhì)應及時更換新油，確保泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般新泵，抽除清潔干燥的氣體時，建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后，以后可適當延長換油期限。4、一般情況下，泵工作2000小時后應進行檢修，檢查桷膠密封件老化程度，檢查排氣閥片是否開裂，清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個泵腔內(nèi)的零件，如轉(zhuǎn)子、旋片、彈簧等。一般用汽油清洗，并烘干。對橡膠件類清洗后用干布擦干即可。 清洗裝配時應輕拿輕放小心碰傷。5、有條件的對管中同樣進行清理，確保管路暢通。6、重新裝配后應進行試運行，一般須空運轉(zhuǎn)2小時并換油二次，因清洗時在泵中會留有一定量易揮發(fā)物，待運轉(zhuǎn)正常后，再投入正常工作。7、本系列泵油采用專業(yè)用真空泵油。廣東真空鍍膜機廠家。

【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越da，表面越光滑，越直的管道流導也越da。 流量：單位時間內(nèi)流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內(nèi)由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空：真空容器經(jīng)充分抽氣后，穩(wěn)定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。真空鍍膜機哪個牌子的好？福建蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機

磁控濺射真空鍍膜機是什么？福建蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】 ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發(fā)展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。 福建蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機

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