真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.2.3寸LED大屏幕數(shù)字顯示濕度/溫度。2.溫濕度顯示值0.1％-99.9％RH，溫度顯示值0.1℃-60.0℃。3.溫濕度收集采準確傳感器，長距離傳輸無誤差。4.濕度控制：4.1利用濕度設定值來控制氮氣流入，到達濕度設定值即停止進氣，節(jié)省氮氣耗用。4.2濕度在1％-60％RH可調(diào)整。使用試驗箱的好處有哪些？河北生產(chǎn)試驗箱

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的柜體規(guī)格、配備。1.左右雙開門，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車輪及調(diào)整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風循環(huán)設計，單向氮氣循環(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開門式設計，方便潔凈清理與保養(yǎng)。高低溫快速試驗箱代理公司試驗箱怎樣挑選比較好?

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的箱體結(jié)構。 1.本設備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風系統(tǒng)、保護系統(tǒng)等組成。 2.箱體采用先進設備制作、先進的工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。 3.工作室材質(zhì)為不銹鋼SUS304材質(zhì)，外箱材質(zhì)為冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設計美觀大方，適合實驗室的顏色搭配。 4.工作室內(nèi)擱架可隨用戶的要求任意調(diào)節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。 5.工作室與外箱之間的保溫材料為超細玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm, 隔溫效果好，國內(nèi)，高性能的絕緣結(jié)構。從里到外有內(nèi)腔、內(nèi)殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門膽結(jié)構獨特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。 一、產(chǎn)品介紹 真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。 二、設計特點 1.后門設計熱風電機 2.降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向 3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的。使用試驗箱能給人們帶來便利嗎？

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術指標。1.使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2.絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；3.加熱元件：石墨加熱棒；4.冷卻方式：氣冷+循環(huán)風冷降溫；5.控溫穩(wěn)定度：±2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；6.爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）；7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%；8.極限真空:10-3torr級；9.抽氣速率：空載下，30min達到10-2torr10.升溫功率：170kW；11.升溫速率：15℃/min（空載）；12.降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）試驗箱的運用領域有哪些？小型試驗箱生產(chǎn)廠商

試驗箱常見的用途有哪些？合肥真萍告訴您。河北生產(chǎn)試驗箱

本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。河北生產(chǎn)試驗箱