無氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技無氧干燥箱。一、技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；2.爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置；3.爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度4.溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；二、氧含量（配氧分析儀）：1.高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.控溫穩(wěn)定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺）；合肥真萍與您分享存儲柜發(fā)揮的重要作用。杭州存儲柜市面價(jià)

下面為大家介紹一下連續(xù)爐的產(chǎn)品材質(zhì)和產(chǎn)品特點(diǎn)。一、產(chǎn)品材質(zhì)1.外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內(nèi)箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼；2.保護(hù)裝置定時(shí)報(bào)警斷電裝置、超溫?cái)嚯?、漏電保護(hù)斷路器、電機(jī)過載保護(hù)。二、產(chǎn)品特點(diǎn)1.雙邊配有鏈條傳動，解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象；2.烘箱分段式加熱，單獨(dú)電箱控制，方便操作，結(jié)構(gòu)主要由輸送機(jī)系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成，多段單獨(dú)；3.PID溫度控制，爐內(nèi)溫度均勻；4.輸送速度變頻調(diào)速，調(diào)節(jié)自如，運(yùn)行平穩(wěn)，產(chǎn)能高；5.每段單獨(dú)箱體設(shè)置廢氣排放接口，可外接到車間外面，避免車間廢氣污染寧波存儲柜圖片存儲柜如何發(fā)揮重要作用呢？

使用高溫鐘罩爐有特定的操作方法，需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行，下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。在使用高溫鐘罩爐時(shí)，其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過安全溫度，避免焚毀電熱絲。將物料放入爐膛時(shí)，切勿碰及熱電偶，因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí)，有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中，或墊以耐火泥板或石棉板，避免與爐膛粘連在一起。不要讓高溫鐘罩爐受潮，以防漏電。

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機(jī)尺寸、真空腔體尺寸。1.內(nèi)膽尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架：2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍：溫度分辨率：0.1℃溫度波動度：±0.5℃4.真空泵：油泵或無油真空泵。真空度：133pa，5.加熱方式：腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板（防止一側(cè)加熱使的HMDS液進(jìn)入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài)）6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片；6寸晶圓片；8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設(shè)定來降低process時(shí)間（正常工藝在50分鐘-120分鐘（按產(chǎn)品所需而定烘烤時(shí)間），為正常工作周期不含降溫時(shí)間（因降溫時(shí)間為常規(guī)降溫）。存儲柜常見的用途有哪些？合肥真萍告訴您。

下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)。一、爐體配置爐膛結(jié)構(gòu)：采用多晶莫來石材料砌筑而成有效尺寸：φ300×320mm（D×H）設(shè)備重量：約1200Kg外觀顏色：掛板采用高溫噴塑，顏色為江淮藍(lán)外形尺寸：W1300×H2200×D1510(mm)，不含(囪、指示燈）二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度：1550℃2.限制溫度：1600℃3.加熱元件：U型硅鉬棒4.加熱功率：16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個(gè)數(shù)：1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)：1點(diǎn)8.熱偶:B分度9.程序**精度：±2℃（大于600℃,升溫速率≤3℃/min）10.控溫穩(wěn)定度：±1℃(恒溫平臺)11.爐膛溫度均勻度：±4℃（恒溫1500℃,2h）有哪些領(lǐng)域需要使用存儲柜呢？福建存儲柜代理公司

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光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。杭州存儲柜市面價(jià)