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甘肅微納加工服務(wù)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-10-15

微納制造技術(shù)一般是指微米、納米級(jí)的材料、設(shè)計(jì)、制造、測(cè)量控制和產(chǎn)品的研發(fā)、加工、制造以及應(yīng)用技術(shù)。微納制造技術(shù)是繼IT、生物技術(shù)之后,21世紀(jì)較具發(fā)展?jié)摿Φ难芯款I(lǐng)域和新興產(chǎn)業(yè)之一。微納制造技術(shù)較早是由加工精度研究的角度延伸出來(lái)的。伴隨著科技進(jìn)步和制造業(yè)的快速發(fā)展,人們對(duì)加工精度的要求越來(lái)越高,傳統(tǒng)加工方式的加工精度越來(lái)越難以滿足諸多領(lǐng)域的應(yīng)用和研究需求。這一需求促使人們投入到更高精度加工技術(shù)的研發(fā)上。從較初的毫米級(jí)(10-3m)到微米級(jí)(10-6m)和納米級(jí)(10-9m),人類的制造水平逐步由宏觀尺度向微觀尺度邁進(jìn),“微納制造技術(shù)”的概念也應(yīng)運(yùn)而生。微納加工技術(shù)的特點(diǎn):微型化。甘肅微納加工服務(wù)

甘肅微納加工服務(wù),微納加工

微納加工氧化工藝是在高溫下,襯底的硅直接與O2發(fā)生反應(yīng)生成SiO2,后續(xù)O2通過(guò)SiO2層擴(kuò)散到Si/SiO2界面,繼續(xù)與Si發(fā)生反應(yīng)增加SiO2薄膜的厚度,生成1個(gè)單位厚度的SiO2薄膜,需要消耗0.445單位厚度的Si襯底;相對(duì)CVD工藝而言,氧化工藝可以制作更加致密的SiO2薄膜,有利于與其他材料制作更加牢固可靠的結(jié)構(gòu)層,提高M(jìn)EMS器件的可靠性。同時(shí)致密的SiO2薄膜有利于提高與其它材料的濕法刻蝕選擇比,提高刻蝕加工精度,制作更加精密的MEMS器件。同時(shí)氧化工藝一般采用傳統(tǒng)的爐管設(shè)備來(lái)制作,成本低,產(chǎn)量大,一次作業(yè)100片以上,SiO2薄膜一致性也可以做到更高+/-3%以內(nèi)。四川鍍膜微納加工價(jià)錢微納加工技術(shù)能突顯一個(gè)國(guó)家工業(yè)發(fā)展水平。

甘肅微納加工服務(wù),微納加工

基于光刻工藝的微納加工技術(shù)主要包含以下過(guò)程:掩模(mask)制備、圖形形成及轉(zhuǎn)移(涂膠、曝光、顯影)、薄膜沉積、刻蝕、外延生長(zhǎng)、氧化和摻雜等。在基片表面涂覆一層某種光敏介質(zhì)的薄膜(抗蝕膠),曝光系統(tǒng)把掩模板的圖形投射在(抗蝕膠)薄膜上,光(光子)的曝光過(guò)程是通過(guò)光化學(xué)作用使抗蝕膠發(fā)生光化學(xué)作用,形成微細(xì)圖形的潛像,再通過(guò)顯影過(guò)程使剩余的抗蝕膠層轉(zhuǎn)變成具有微細(xì)圖形的窗口,后續(xù)基于抗蝕膠圖案進(jìn)行鍍膜、刻蝕等可進(jìn)一步制作所需微納結(jié)構(gòu)或器件。

微納制造包括微制造和納制造兩個(gè)方面。(1)微制造有兩種不同的微制造工藝方式,一種是基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)、LIGA技術(shù)、鍵合技術(shù)、封裝技術(shù)等,這些工藝技術(shù)方法較為成熟,但普遍存在加工材料單一、加工設(shè)備昂貴等問(wèn)題,且只能加工結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的二維或準(zhǔn)三維微機(jī)械零件,無(wú)法進(jìn)行復(fù)雜的三維微機(jī)械零件的加工;另一種是機(jī)械微加工,是指采用機(jī)械加工、特種加工及其他成形技術(shù)等傳統(tǒng)加工技術(shù)形成的微加工技術(shù),可進(jìn)行三維復(fù)雜曲面零件的加工,加工材料不受限制,包括微細(xì)磨削、微細(xì)車削、微細(xì)銑削、微細(xì)鉆削、微沖壓、微成形等。(2)納制造納制造是指具有特定功能的納米尺度的結(jié)構(gòu)、器件和系統(tǒng)的制造技術(shù),包括納米壓印技術(shù)、刻劃技術(shù)、原子操縱技術(shù)等。通過(guò)光刻技術(shù)制作出的微納結(jié)構(gòu)需進(jìn)一步通過(guò)刻蝕或者鍍膜,才可獲得所需的結(jié)構(gòu)或元件。

甘肅微納加工服務(wù),微納加工

當(dāng)前納米制造技術(shù)在環(huán)境友好方面有望大展身手的一些領(lǐng)域:1、照明:對(duì)于傳統(tǒng)的白熾光源來(lái)說(shuō),LEDs是一種高效能的替代,納米技術(shù)可用來(lái)開(kāi)發(fā)更多新的光源。2、發(fā)動(dòng)機(jī)/燃料效率:采用納米顆粒燃料添加劑能夠減少柴油機(jī)的能耗并改善局部空氣質(zhì)量。微納材料也用來(lái)改善飛機(jī)渦輪葉片的熱阻性能,使得發(fā)動(dòng)機(jī)可以在更高的溫度下繼續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn),進(jìn)而提高整個(gè)發(fā)動(dòng)機(jī)的效率。3、減重:新型較強(qiáng)度復(fù)合材料能夠減輕材料的重量。未來(lái)的目標(biāo)包括:在金屬合金和塑料中摻雜納米管來(lái)減少飛機(jī)的重量;改進(jìn)橡膠配方中摻雜入輪胎的納米顆粒;利用通過(guò)納米技術(shù)制得的汽車等的催化式排氣凈化器優(yōu)化車內(nèi)燃料的燃燒過(guò)程。微納加工技術(shù)的特點(diǎn)MEMS技術(shù)適合批量生產(chǎn)。湖南功率器件微納加工服務(wù)

微納加工技術(shù)具有高精度、科技含量高、產(chǎn)品附加值高等特點(diǎn)。甘肅微納加工服務(wù)

選擇比指的是在同一刻蝕條件下一種材料與另一種材料相比刻蝕速率快多少,它定義為被刻蝕材料的刻蝕速率與另一種材料的刻蝕速率的比。基本內(nèi)容:高選擇比意味著只刻除想要刻去的那一層材料。一個(gè)高選擇比的刻蝕工藝不刻蝕下面一層材料(刻蝕到恰當(dāng)?shù)纳疃葧r(shí)停止)并且保護(hù)的光刻膠也未被刻蝕。圖形幾何尺寸的縮小要求減薄光刻膠厚度。高選擇比在較先進(jìn)的工藝中為了確保關(guān)鍵尺寸和剖面控制是必需的。特別是關(guān)鍵尺寸越小,選擇比要求越高。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。甘肅微納加工服務(wù)

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