近年來，中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所功能薄膜與智構(gòu)器件團(tuán)隊(duì)聚焦新型金屬陶瓷基太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層研發(fā)，以提升熱穩(wěn)定性為抓手，在新型耐高溫金屬陶瓷材料設(shè)計(jì)、光學(xué)模擬、涂層構(gòu)筑和熱穩(wěn)定性強(qiáng)化機(jī)理研究等方面開展了一系列的工作。前期，利用金屬Al合金化Ag納米粒子，結(jié)合多靶共濺射的方法，獲得新型AgAl-Al2O3金屬陶瓷薄膜，耐熱溫度較Ag-Al2O3（350℃）提高至500℃，在非真空條件下經(jīng)高溫長(zhǎng)時(shí)間退火（~1000 h），光學(xué)性能非常穩(wěn)定（ACS Applied Materials Interfaces 2014, 6, 11550; Applied Surface Science 2015, 331, 285）。膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試，結(jié)果為1級(jí)；本申請(qǐng)制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77％～82％。西藏高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬AM1

經(jīng)檢測(cè)，本申請(qǐng)制備的膜層的吸收率為93％～97％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3％～9％；本申請(qǐng)制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％；膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試，結(jié)果為1級(jí)；本申請(qǐng)制備的膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率為77％～82％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6％～10％；經(jīng)國(guó)家節(jié)能產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)，該六層膜的膜層具有優(yōu)異的性能，**優(yōu)于國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)要求，太陽(yáng)吸收比α(am1.5)達(dá)0.94，半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。新疆AM1太陽(yáng)光譜模擬AM1本申請(qǐng)制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3％～12％。

這發(fā)生在太陽(yáng)大氣層的外層（夫瑯和費(fèi)線），或通過地球大氣層內(nèi)的吸收（由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線）。每個(gè)單獨(dú)的條紋由標(biāo)準(zhǔn)具或VIPA的一個(gè)FSR隔開。標(biāo)準(zhǔn)具FSR由其制造工藝精確確定，這意味著將原始條紋圖像與現(xiàn)有文獻(xiàn)中的太陽(yáng)光譜進(jìn)行比較，即可得到相應(yīng)的太陽(yáng)光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽(yáng)極光光譜顯示了太陽(yáng)外層的Mg三重態(tài)吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外，在太陽(yáng)光譜的這個(gè)區(qū)域也有一些Ni吸收線）。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽(yáng)光譜（紅色數(shù)據(jù)）和參考光譜（藍(lán)色數(shù)據(jù)）

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強(qiáng)化膜的厚度為30～120nm。推薦的，步驟2)中，靶材為銅靶，氬氣流量為50～500sccm，制得的低發(fā)射率膜的厚度為180～220nm。膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強(qiáng)化膜。

用于比較光譜儀分辨能力的兩條氧氣譜線用箭頭標(biāo)識(shí)(實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)以紅色顯示，并與文獻(xiàn)中的參考光譜進(jìn)行了比較。右側(cè)顯示629.216nm處氧線的放大視圖，以及紅色He-Ne激光器（632.816nm處的單頻源）的光譜的插圖。03測(cè)量太陽(yáng)自轉(zhuǎn)引起的多普勒頻移由于太陽(yáng)吸收線和大氣氧線在太陽(yáng)光譜的某些區(qū)域非常接近，這種接近可以通過測(cè)量太陽(yáng)吸收線相對(duì)于固定氧線的多普勒頻移來確定太陽(yáng)的旋轉(zhuǎn)速度，從而確定地球和太陽(yáng)之間的當(dāng)前距離。進(jìn)行這項(xiàng)實(shí)驗(yàn)所需的***設(shè)備是高頻光譜儀和太陽(yáng)望遠(yuǎn)鏡。當(dāng)太陽(yáng)相對(duì)于地球自轉(zhuǎn)時(shí)，太陽(yáng)圓盤的一個(gè)分支朝著地球移動(dòng)，而另一個(gè)分支后退。在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。陜西銷售太陽(yáng)光譜模擬銷售

反應(yīng)性濺鍍制備緩沖膜：在第三真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。西藏高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬AM1

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明實(shí)施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值方法，該方法通過地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽(yáng)赤緯角、太陽(yáng)時(shí)角、太陽(yáng)高度角、太陽(yáng)輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽(yáng)總輻照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對(duì)于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽(yáng)光照補(bǔ)償值計(jì)算。西藏高級(jí)太陽(yáng)光譜模擬AM1

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司是以天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)為一體的光學(xué)鏡頭、天文望遠(yuǎn)鏡及配件的研發(fā)、組裝、銷售及相關(guān)技術(shù)服務(wù)；戶外用品的開發(fā)及銷售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）許可項(xiàng)目：貨物進(jìn)出口；進(jìn)出口代理；技術(shù)進(jìn)出口（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)，具體經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目以審批結(jié)果為準(zhǔn)）一般項(xiàng)目：光學(xué)玻璃銷售；照相機(jī)及器材銷售；教學(xué)儀器銷售；光學(xué)儀器銷售；玻璃儀器銷售；燈具銷售；半導(dǎo)體照明器件銷售（除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目外，憑營(yíng)業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)）企業(yè)，公司成立于2020-01-16，地址在若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國(guó)家大學(xué)科技園B棟10樓1005。至創(chuàng)始至今，公司已經(jīng)頗有規(guī)模。公司主要產(chǎn)品有天文觀察濾光片，太陽(yáng)光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡等，公司工程技術(shù)人員、行政管理人員、產(chǎn)品制造及售后服務(wù)人員均有多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。并與上下游企業(yè)保持密切的合作關(guān)系。HYO以符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品質(zhì)量為目標(biāo)，并始終如一地堅(jiān)守這一原則，正是這種高標(biāo)準(zhǔn)的自我要求，產(chǎn)品獲得市場(chǎng)及消費(fèi)者的高度認(rèn)可。昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司通過多年的深耕細(xì)作，企業(yè)已通過電子元器件質(zhì)量體系認(rèn)證，確保公司各類產(chǎn)品以高技術(shù)、高性能、高精密度服務(wù)于廣大客戶。歡迎各界朋友蒞臨參觀、 指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。