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來源: 發(fā)布時間:2023-02-26

每層的特制材料吸收特定波長**的能量。等到陽光透過整個堆棧之時,近一半的可用能量都被轉(zhuǎn)換為了電力。相對的,目前大部分常見太陽能電池只能將25%的可用能量轉(zhuǎn)換為電力。   研究***作者、喬治*華盛頓大學(xué)工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院研究科學(xué)家Matthew Lumb說道:“抵達地球表面的太陽光中99%的能量都落在250納米到2500納米波長范圍內(nèi),但高效多連接太陽能電池的傳統(tǒng)材料無法捕獲這整個光譜范圍。我們的新設(shè)備能夠解鎖存儲在長波長光子中的能量,這些是傳統(tǒng)太陽能電池力所未逮之處,從而為實現(xiàn)多連如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應(yīng),使得在靶材表面甚少形成化合物,則有利濺射的進行。安徽代理太陽光譜模擬代理

伴隨工作溫度的升高,如何抑制高溫下熱輻射損失顯得愈發(fā)重要?;谇捌诘难芯炕A(chǔ),研究組開發(fā)出另一種新型金屬陶瓷薄膜WTi-Al2O3。借助光學(xué)模擬設(shè)計,獲得太陽光譜選擇性吸收涂層結(jié)構(gòu)參數(shù)的優(yōu)化范圍,構(gòu)建了WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層。經(jīng)600℃長時間(840 h)退火,WTi-Al2O3涂層仍保持較高的吸收率~93%,500℃下的熱發(fā)射率*有10.3%,遠低于文獻報道值(>13%@500℃)。研究表明,WTi合金納米粒子內(nèi)金屬Ti的外擴散、偏析及部分氧化可有效抑制W納米粒子的團聚和長大,從而提高涂層的熱穩(wěn)定性,實現(xiàn)對WTi-Al2O3太陽光譜選擇性吸收涂層光學(xué)性能和熱穩(wěn)定性的雙重調(diào)控(Nano Energy 2017, 37, 232),河北高級太陽光譜模擬價格由于其尺寸很小——小于1平方毫米,因此可以有效地開發(fā)具有更復(fù)雜材料的太陽能電池。

5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜:在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜;6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜:在第六真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅,反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。在本申請的一個實施例中,步驟1)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的強化膜的厚度為30~120nm。

技術(shù)實現(xiàn)要素:(一)要解決的技術(shù)問題針對于現(xiàn)有技術(shù)問題,本發(fā)明提出一種太陽光照補償值計算方法,用于至少部分解決上述技術(shù)問題。(二)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種太陽光照補償值計算方法,用于對地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像進行光補償,包括:獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻及拍攝位置高程;根據(jù)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像拍攝位置的太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度;根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度,計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強度;針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時間、和/或拍攝位置對應(yīng)的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像,計算各自對應(yīng)的太陽總輻照強度相互之間的差值,得到各個地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像各像素之間的太陽光照補償值。**優(yōu)于國家標準要求,太陽吸收比α(am1.5)達0.94,半球發(fā)射比εh(80℃)*為0.038。

1)反應(yīng)性濺鍍制備強化膜:在***真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜;步驟1)中,吸熱體的基材為不銹鋼片;步驟1)中,靶材為鉻靶,功率為9kw,電壓為500v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為120sccm,氧氣流量為80sccm,制得的強化膜的厚度為70nm;膜厚是根據(jù)工藝要求可調(diào)整的;2)濺鍍制備低發(fā)射率膜:在第二真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜;為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例。貴州銷售太陽光譜模擬代理

這一新設(shè)計轉(zhuǎn)換太陽光為電力的效率是44.5%,有望成為世界上效率的太陽能電池。安徽代理太陽光譜模擬代理

6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜:在第六真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅,反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜,完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。推薦的,步驟1)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的強化膜的厚度為30~120nm。推薦的,步驟2)中,靶材為銅靶,氬氣流量為50~500sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為180~220nm。安徽代理太陽光譜模擬代理

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