可選地,根據(jù)相對(duì)大氣光學(xué)質(zhì)量,計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù),并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù),計(jì)算散射輻射大氣透明度系數(shù),包括:根據(jù)τd(α,z)=0.56×(e-0.56r(α,z)+e-0.096r(α,z))×k1,計(jì)算直射輻射大氣透明度系數(shù),其中,τd(α,z)為直射輻射大氣透明度系數(shù),k1為常系數(shù),取值范圍通常為0.8≤k1≤0.9;根據(jù)τs(α,z)=0.2710-0.2939×τd(α,z),其中,τs(α,z)為散射輻射大氣透明度系數(shù)。可選地,根據(jù)大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度,包括:根據(jù)ed(d,α,z)=e(d)×τd(α,z)×sinα(x,y,d,t)計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度ed(d,α,z)。因?yàn)椴煌镔|(zhì)被離子擊出的濺擊產(chǎn)額不同,因此不容易控制化合物的成份組成與性質(zhì)。山西下打光太陽光譜模擬銷量
經(jīng)檢測(cè),本實(shí)施例1制備的膜層的吸收率為94%,比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的吸收率提高了3%~9%;本申請(qǐng)制備的膜層的發(fā)射率為4%,比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的發(fā)射率降低了3%~12%;膜層的附著力根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測(cè)試,結(jié)果為1級(jí);采用本申請(qǐng)制備的膜層的太陽能集熱器的熱效率為80.4%,比采用現(xiàn)有技術(shù)中膜層的太陽能集熱器的熱效率提高了6%~8.4%。本發(fā)明未詳盡描述的方法和裝置均為現(xiàn)有技術(shù),不再贅述。本文中應(yīng)用了具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其**思想。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾,這些改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。江蘇上打光太陽光譜模擬價(jià)格這種新型的基于銻化鎵的太陽能電池被組裝成堆棧式結(jié)構(gòu)。
用于比較光譜儀分辨能力的兩條氧氣譜線用箭頭標(biāo)識(shí)(實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)以紅色顯示,并與文獻(xiàn)中的參考光譜進(jìn)行了比較。右側(cè)顯示629.216nm處氧線的放大視圖,以及紅色He-Ne激光器(632.816nm處的單頻源)的光譜的插圖。03測(cè)量太陽自轉(zhuǎn)引起的多普勒頻移由于太陽吸收線和大氣氧線在太陽光譜的某些區(qū)域非常接近,這種接近可以通過測(cè)量太陽吸收線相對(duì)于固定氧線的多普勒頻移來確定太陽的旋轉(zhuǎn)速度,從而確定地球和太陽之間的當(dāng)前距離。進(jìn)行這項(xiàng)實(shí)驗(yàn)所需的***設(shè)備是高頻光譜儀和太陽望遠(yuǎn)鏡。當(dāng)太陽相對(duì)于地球自轉(zhuǎn)時(shí),太陽圓盤的一個(gè)分支朝著地球移動(dòng),而另一個(gè)分支后退。
4)反應(yīng)性濺鍍制備過渡膜:在第四真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻,反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜;步驟4)中,靶材為鉻靶,功率為15kw,電壓為510v,真空度為8.0e-6torr,鍍膜速度為6mm/s,氬氣流量為90sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm,氧氣流量為50sccm,制得的過渡膜的厚度為70nm;5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜:在第五真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻,反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜;在***真空鍍膜室中,氬離子撞擊靶材,撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。
在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟2)中,靶材為銅靶,氬氣流量為50~500sccm,制得的低發(fā)射率膜的厚度為180~220nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟3)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氮?dú)饬髁繛?0~100sccm,制得的緩沖膜的厚度為30~150nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟4)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~500sccm,氮?dú)饬髁繛?0~200sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的過渡膜的厚度為30~100nm。在本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例中,步驟5)中,靶材為鉻靶,氬氣流量為50~300sccm,氧氣流量為10~200sccm,制得的吸收膜的厚度為30~120nm。撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅,反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟。遼寧高級(jí)太陽光譜模擬AM1
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法,吸熱體由基材及設(shè)置在基材的外表面上膜層構(gòu)成。山西下打光太陽光譜模擬銷量
根據(jù)τs(α,z)=0.2710-0.2939×τd(α,z)(9)其中,τs(α,z)為散射輻射大氣透明度系數(shù)。s27,根據(jù)大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度。在本實(shí)施例一可行的方式中,根據(jù)ed(d,α,z)=e(d)×τd(α,z)×sinα(x,y,d,t)(10)計(jì)算太陽直接輻射強(qiáng)度ed(d,α,z)。s28,根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角,計(jì)算太陽散射輻射強(qiáng)度。在本實(shí)施例一可行的方式中,根據(jù)計(jì)算太陽散射輻射強(qiáng)度es(α,z),k2為常系數(shù),根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度,取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。s103,根據(jù)太陽直接輻射強(qiáng)度和太陽散射輻射強(qiáng)度,計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強(qiáng)度。在本實(shí)施例一可行的方式中,根據(jù)山西下打光太陽光譜模擬銷量
昊躍光學(xué)科技(蘇州)有限公司是國(guó)內(nèi)一家多年來專注從事天文觀察濾光片,太陽光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡的老牌企業(yè)。公司位于若水路388號(hào)蘇州納米技術(shù)國(guó)家大學(xué)科技園B棟10樓1005,成立于2020-01-16。公司的產(chǎn)品營(yíng)銷網(wǎng)絡(luò)遍布國(guó)內(nèi)各大市場(chǎng)。公司主要經(jīng)營(yíng)天文觀察濾光片,太陽光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡等產(chǎn)品,我們依托高素質(zhì)的技術(shù)人員和銷售隊(duì)伍,本著誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)、理解客戶需求為經(jīng)營(yíng)原則,公司通過良好的信譽(yù)和周到的售前、售后服務(wù),贏得用戶的信賴和支持。公司會(huì)針對(duì)不同客戶的要求,不斷研發(fā)和開發(fā)適合市場(chǎng)需求、客戶需求的產(chǎn)品。公司產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域廣,實(shí)用性強(qiáng),得到天文觀察濾光片,太陽光譜模擬濾光片,儀器用濾光片,望遠(yuǎn)鏡客戶支持和信賴。昊躍光學(xué)科技(蘇州)有限公司依托多年來完善的服務(wù)經(jīng)驗(yàn)、良好的服務(wù)隊(duì)伍、完善的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)和強(qiáng)大的合作伙伴,目前已經(jīng)得到電子元器件行業(yè)內(nèi)客戶認(rèn)可和支持,并贏得長(zhǎng)期合作伙伴的信賴。