可選地，根據(jù)尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間，計(jì)算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中每個(gè)像素對應(yīng)的地理經(jīng)度和地理緯度，包括：以地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像中的一預(yù)設(shè)點(diǎn)建立直角坐標(biāo)系，根據(jù)遙感圖像尺寸，得到每個(gè)像素點(diǎn)在直角坐標(biāo)系中的坐標(biāo)(x，y)；獲取每個(gè)像素點(diǎn)對應(yīng)的地理坐標(biāo)(by-1，lx-1)；根據(jù)計(jì)算坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)對應(yīng)的地理經(jīng)度l(x)；根據(jù)計(jì)算坐標(biāo)為(x，y)的像素點(diǎn)對應(yīng)的地理緯度b(y)；其中，(b0，l0)為坐標(biāo)值(0，0)為的像素點(diǎn)對應(yīng)的地理坐標(biāo)，x×y為尺寸?？蛇x地，根據(jù)拍攝日期，計(jì)算拍攝日期對應(yīng)的太陽赤緯角和大氣層上界垂直入射時(shí)的太陽輻射強(qiáng)度，包括：根據(jù)計(jì)算太陽赤緯角；根據(jù)計(jì)算太陽輻射強(qiáng)度；其中，d表示計(jì)算拍攝日期在一年中所處的天數(shù)，δ(d)為太陽赤緯角，e(d)為太陽輻射強(qiáng)度。撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮?dú)獍l(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻。天津AM1.5太陽光譜模擬AM1.5

為了得到高質(zhì)量的化合物薄膜，通常在濺鍍金屬靶時(shí)，通入與被濺射出的物質(zhì)反應(yīng)的氣體，相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進(jìn)行反應(yīng)，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進(jìn)行。相反地，如果通入過量的氣體，則不僅在基材上與濺射出的原子進(jìn)行反應(yīng)，也會(huì)在靶面上與靶材反應(yīng)生成化合物。因此，如何提高吸熱體的基材的外表面上的薄膜對太陽熱能的吸收，提高光熱轉(zhuǎn)換的效率，是本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的技術(shù)問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：貴州AM1.5太陽光譜模擬這一方法不同于一般在房頂或者田野中看到的那種太陽能電池板。

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合具體實(shí)施例，并參照附圖，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明實(shí)施例提出一種用于地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽光照補(bǔ)償值方法，該方法通過地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時(shí)刻及拍攝位置高程，計(jì)算拍攝時(shí)刻的太陽赤緯角、太陽時(shí)角、太陽高度角、太陽輻射強(qiáng)度、大氣光學(xué)質(zhì)量、直射輻射大氣透明度系數(shù)、直接輻射強(qiáng)度、散射輻射大氣透明度系數(shù)、散射輻射強(qiáng)度、太陽總輻照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)對于不同日期、不同時(shí)間、不同地點(diǎn)拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽光照補(bǔ)償值計(jì)算。

該儀器能夠快速顯示實(shí)時(shí)光譜，因此有可能找到具有***多普勒頻移的望遠(yuǎn)鏡位置，同時(shí)在這些位置記錄更長的曝光光譜，提高信噪比。下圖所示的鐵譜線相隔約5pm，因?yàn)檫@些光譜不是在太陽圓盤的末端拍攝的。太陽自轉(zhuǎn)引起的兩條夫瑯和費(fèi)鐵線（相對于未移動(dòng)的氧線）多普勒頻移的測量。在左邊的圖表中，紅色和藍(lán)色的線是HF-8989-3光譜儀的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，當(dāng)時(shí)太陽圓盤的圖像通過輸入光纖移動(dòng)到光譜儀（從一個(gè)邊緣到另一個(gè)邊緣）。每個(gè)實(shí)驗(yàn)光譜的曝光時(shí)間<1秒。這一新設(shè)備利用了聚光光伏(CPV)電池板，利用透鏡將太陽光集中到微小尺度的太陽能電池上。

厚度為0.1～2μm的薄層金屬氧化物或硫化物，如氧化銅、氧化鉻等，具有很高的太陽輻射吸收比和長波輻射透射比。6層構(gòu)成的膜層的緩沖膜、過渡膜、吸收膜的主要成分是氧化鉻等氧化物，能夠吸收波長范圍為0.20～3.0μm的太陽輻射能量并轉(zhuǎn)化為熱能。本申請實(shí)現(xiàn)了用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的吸收率高、發(fā)射率低以及附著力好，其中的工作原理是：在2500nm波長以下的太陽光反射光譜，反射率越低，吸收率越高，相反的，在2500nm波長以上的太陽光反射光譜，反射率越高，發(fā)射率越低；對基材表面作預(yù)處理，增加吸熱體表面粗超度，能有效增強(qiáng)附著力，根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)要求測試，結(jié)果為1級。濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。遼寧購買太陽光譜模擬購買

反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材。天津AM1.5太陽光譜模擬AM1.5

et(d，α，z)＝ed(d，α，z)+es(α，z)，(12)其中，ed(d，α，z)與es(α，z)可從操作s102中得出。s104，針對于不同拍攝日期、和/或不同拍攝時(shí)間、和/或拍攝位置對應(yīng)的所述地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像，計(jì)算各自對應(yīng)的太陽總輻照強(qiáng)度相互之間的差值，得到各個(gè)地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像之間的太陽光照補(bǔ)償值。從方程(12)可以看出，由于太陽高度角α(x，y，d，t)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x，y)、圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定，因此太陽總輻照強(qiáng)度et(d，α，z)由遙感圖像中像素點(diǎn)坐標(biāo)值(x，y)、(x，y)處的高程z，圖像拍攝時(shí)間在一年中的第d天和拍攝時(shí)間t決定，則et(x，y，z，d，t)≡et(d，α，z).(1)天津AM1.5太陽光譜模擬AM1.5

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