本發(fā)明實施例的目的在于提供一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法。為解決上述的技術(shù)問題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案為：一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟：1)反應(yīng)性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜；2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣與氮氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻。湖北高級太陽光譜模擬報價

s25，根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程，計算相對大氣光學(xué)質(zhì)量。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))處的海拔高度，r(α，z)為相對大氣光學(xué)質(zhì)量。s26，根據(jù)相對大氣光學(xué)質(zhì)量，計算直射輻射大氣透明度系數(shù)，并根據(jù)直射輻射大氣透明度系數(shù)，計算散射輻射大氣透明度系數(shù)。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)τd(α，z)＝0.56×(e-0.56r(α，z)+e-0.096r(α，z))×k1(8)計算晴天無云條件下的直射輻射大氣透明度系數(shù)，其中，τd(α，z)為所述直射輻射大氣透明度系數(shù)，k1為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍例如可以為0.8≤k1≤0.9。福建AM0太陽光譜模擬公司比現(xiàn)有技術(shù)中膜層的光熱轉(zhuǎn)換的效率提高了6％～10％。

因此，對于地球靜止軌道光學(xué)遙感衛(wèi)星在不同日期、不同時間、不同地點拍攝圖像的太陽光照補償值為δet＝et(x1，y1，z1，d1，t1)-et(x2，y2，z2，d2，t2)，(2)其中，下角標(biāo)1和2**兩個不同拍攝日期、和/或時間和/或位置。至此，通過獲取地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的尺寸、地理經(jīng)度區(qū)間、地理緯度區(qū)間、拍攝日期、拍攝時刻和拍攝位置高程，基于上述方法，實現(xiàn)對于不同日期、不同時間、不同地點拍攝的地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽光照補償值計算。圖3示意性示出了根據(jù)本發(fā)明一示例性實施例的太陽光照補償值計算裝置的框圖，如圖3所示，該裝置300例如可以包括獲取模塊310、***計算模塊320、第二計算模塊330和第三計算模塊340。

5)反應(yīng)性濺鍍制備吸收膜：在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在步驟4)制得的過渡膜的外表面上形成吸收膜；6)反應(yīng)性濺鍍制備抗反射膜：在第六真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟5)制得的吸收膜的外表面上形成抗反射膜，完成后在吸熱體的基材的外表面上制得包括6層的膜層。在本申請的一個實施例中，步驟1)中，靶材為鉻靶，氬氣流量為50～200sccm，氧氣流量為10～200sccm，制得的強化膜的厚度為30～120nm。如果所通入的氣體含量剛好足夠與濺射出的原子進行反應(yīng)，使得在靶材表面甚少形成化合物，則有利濺射的進行。

根據(jù)τs(α，z)＝0.2710-0.2939×τd(α，z)(9)其中，τs(α，z)為散射輻射大氣透明度系數(shù)。s27，根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽直接輻射強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)ed(d，α，z)＝e(d)×τd(α，z)×sinα(x，y，d，t)(10)計算太陽直接輻射強度ed(d，α，z)。s28，根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)計算太陽散射輻射強度es(α，z)，k2為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。s103，根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)通過降低成本和回收利用這些生長基底，未來類似的產(chǎn)品可能將被推向市場。北京上打光太陽光譜模擬濾光片

在第五真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻。湖北高級太陽光譜模擬報價

這發(fā)生在太陽大氣層的外層（夫瑯和費線），或通過地球大氣層內(nèi)的吸收（由水蒸氣或氧氣等氣體引起的大氣吸收譜線）。每個單獨的條紋由標(biāo)準(zhǔn)具或VIPA的一個FSR隔開。標(biāo)準(zhǔn)具FSR由其制造工藝精確確定，這意味著將原始條紋圖像與現(xiàn)有文獻中的太陽光譜進行比較，即可得到相應(yīng)的太陽光譜。HN-9332光譜儀在518nm附近記錄的太陽極光光譜顯示了太陽外層的Mg三重態(tài)吸收(除了所示的Mg線和Fe線之外，在太陽光譜的這個區(qū)域也有一些Ni吸收線）。比較LightMachineryHF-8989-2e光譜儀記錄的太陽光譜（紅色數(shù)據(jù)）和參考光譜（藍色數(shù)據(jù)）湖北高級太陽光譜模擬報價

昊躍光學(xué)，2020-01-16正式啟動，成立了天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠鏡等幾大市場布局，應(yīng)對行業(yè)變化，順應(yīng)市場趨勢發(fā)展，在創(chuàng)新中尋求突破，進而提升HYO的市場競爭力，把握市場機遇，推動電子元器件產(chǎn)業(yè)的進步。昊躍光學(xué)經(jīng)營業(yè)績遍布國內(nèi)諸多地區(qū)地區(qū)，業(yè)務(wù)布局涵蓋天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠鏡等板塊。同時，企業(yè)針對用戶，在天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠鏡等幾大領(lǐng)域，提供更多、更豐富的電子元器件產(chǎn)品，進一步為全國更多單位和企業(yè)提供更具針對性的電子元器件服務(wù)。值得一提的是，昊躍光學(xué)致力于為用戶帶去更為定向、專業(yè)的電子元器件一體化解決方案，在有效降低用戶成本的同時，更能憑借科學(xué)的技術(shù)讓用戶極大限度地挖掘HYO的應(yīng)用潛能。