具體實施方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，包括以下依次進行的步驟：1)反應(yīng)性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜；膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強化膜。上海代理太陽光譜模擬銷量

可選地，根據(jù)拍攝時刻和地理經(jīng)度，計算拍攝時刻的太陽時角，包括：根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)計算太陽時角，其中，t為拍攝時刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點在t時刻對應(yīng)的太陽時角?？蛇x地，根據(jù)太陽赤緯角、太陽時角和地理緯度，計算拍攝時刻的太陽高度角，包括：根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)]，計算太陽高度角α(x，y，d，t)。可選地，根據(jù)太陽高度角和拍攝位置高程，計算相對大氣光學(xué)質(zhì)量，包括：根據(jù)其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))處的海拔高度，r(α，z)為相對大氣光學(xué)質(zhì)量。山西高級太陽光譜模擬撞擊出來的硅離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成二氧化硅，反應(yīng)生成的二氧化硅沉積在步驟。

根據(jù)τs(α，z)＝0.2710-0.2939×τd(α，z)(9)其中，τs(α，z)為散射輻射大氣透明度系數(shù)。s27，根據(jù)大氣層上界垂直入射時的太陽輻射強度、直射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽直接輻射強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)ed(d，α，z)＝e(d)×τd(α，z)×sinα(x，y，d，t)(10)計算太陽直接輻射強度ed(d，α，z)。s28，根據(jù)散射輻射大氣透明度系數(shù)和太陽高度角，計算太陽散射輻射強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)計算太陽散射輻射強度es(α，z)，k2為常系數(shù)，根據(jù)大氣質(zhì)量渾濁程度，取值范圍通常為0.6≤k2≤0.9。s103，根據(jù)太陽直接輻射強度和太陽散射輻射強度，計算地球靜止軌道衛(wèi)星光學(xué)遙感圖像的太陽總輻照強度。在本實施例一可行的方式中，根據(jù)

陽光是一種**度、易獲得的光源，包括數(shù)千個“內(nèi)置”的校準(zhǔn)光譜特征。許多研究都需要用到這種質(zhì)量的光源，例如日光誘導(dǎo)葉綠素?zé)晒?；植被，作物和礦物的地物光譜，高光譜，以及多光譜測試；地球大氣層研究等等。LightMachinery的高分辨率光譜儀，不但可以用來測試太陽光譜，也可以利用其高分辨率測試的夫朗和費線反演太陽自轉(zhuǎn)，大氣水汽等等。顯示太陽光譜**直接的方法是將直射陽光耦合到連接到光譜儀輸入端口的光纖中。某些型號的LightMachinery光譜儀提供了必要的光通量和靈敏度來記錄太陽光譜，只需將光纖端部大致對準(zhǔn)太陽的方向即可。相互反應(yīng)生成所需的化合物沉積在基材上，此種濺鍍系統(tǒng)稱為反應(yīng)性濺鍍。

根據(jù)拍攝時刻和所地理經(jīng)度，計算拍攝時刻的太陽時角。在本實施例一可行的方式中，可根據(jù)ω(x，t)＝(12-t)×15°-l(x)(5)計算太陽時角，其中，t為拍攝時刻，ω(x，t)為坐標(biāo)為(x，y)的像素點在t時刻對應(yīng)的太陽時角。s24，根據(jù)太陽赤緯角、太陽時角和地理緯度，計算拍攝時刻的太陽高度角。在本實施例一可行的方式中，可根據(jù)α(x，y，d，t)＝arcsin[sinb(y)×sinδ(d)+cosb(y)×cosδ(d)×cosω(x，t)](6)計算太陽高度角α(x，y，d，t)。這種太陽能電池非常昂貴，但研究者認(rèn)為其**重要的是表明了所能達到的效率上限。天津購買太陽光譜模擬購買

反應(yīng)生成的氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻沉積在步驟3)制得的緩沖膜的外表面上形成過渡膜。上海代理太陽光譜模擬銷量

1)反應(yīng)性濺鍍制備強化膜：在***真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的鉻離子與通入的氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氧化鉻，反應(yīng)生成的氧化鉻沉積在吸熱體的基材的外表面上形成強化膜；步驟1)中，吸熱體的基材為不銹鋼片；步驟1)中，靶材為鉻靶，功率為9kw，電壓為500v，真空度為8.0e-6torr，鍍膜速度為6mm/s，氬氣流量為120sccm，氧氣流量為80sccm，制得的強化膜的厚度為70nm；膜厚是根據(jù)工藝要求可調(diào)整的；2)濺鍍制備低發(fā)射率膜：在第二真空鍍膜室中，氬離子撞擊靶材，撞擊出來的銅離子沉積在步驟1)制得的強化膜的外表面上形成低發(fā)射率膜；上海代理太陽光譜模擬銷量

昊躍光學(xué)科技（蘇州）有限公司致力于電子元器件，是一家貿(mào)易型公司。昊躍光學(xué)致力于為客戶提供良好的天文觀察濾光片，太陽光譜模擬濾光片，儀器用濾光片，望遠(yuǎn)鏡，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在電子元器件深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造電子元器件良好品牌。昊躍光學(xué)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。