空間環(huán)境條件下,外界的真空、極冷極熱交變、帶電粒子轟擊、原子氧腐蝕以及紫外線輻照等都會使得光學(xué)薄膜材料發(fā)生性能改變 ,從而影響薄膜的光譜特性。為了保證薄膜的光譜穩(wěn)定性 ,通常要從設(shè)計、工藝、性能測試等多個方面均有所考慮; 另一方面由于空間應(yīng)用的不可維修性特點(diǎn) ,空間光學(xué)薄膜技術(shù)必須高度可靠。為了確?？臻g應(yīng)用的可靠性 , 還要對制作的光學(xué)薄膜進(jìn)行空間環(huán)境模擬試驗(yàn)和嚴(yán)酷環(huán)境適應(yīng)性試驗(yàn) , 以考察薄膜的可靠性 ?？傊?空間光學(xué)薄膜技術(shù)已 經(jīng)發(fā)展成為一項(xiàng)獨(dú)特的光學(xué)薄膜應(yīng)用技術(shù), 為空間 探測、遙感等提供了技術(shù)基礎(chǔ)。昊躍光學(xué)濾光片的口碑優(yōu)良，目前合作商評價優(yōu)異。甘肅昊躍光學(xué)濾光片規(guī)格

也有熔融石英在紅外的折射率溫度系數(shù)，在1550nm時約為+1.1×10-5/℃，但是很難查到在可見光區(qū)域內(nèi)的數(shù)據(jù)。根據(jù)上述的數(shù)據(jù)，我們可以推斷可見光區(qū)SiO2薄膜的折射率溫度系數(shù)大概為+0.5×10-5/℃左右?；宓臒崤蛎浵禂?shù)，對K9玻璃在-30～70℃范圍內(nèi)為74×10-7/℃，在100～300℃范圍內(nèi)為86×10-7/℃。膜系的熱膨脹系數(shù)在5.5×10-7/℃左右，泊松比取0.1。根據(jù)以上的理論分析和參量設(shè)定，計算得到在70℃以下，綠色濾光片的中心波長的溫度漂移為-0.00088nm/℃，在100℃以上，中心波長的溫度漂移為-0.001459nm/℃，對于不同顏色的濾光片，數(shù)值略有不同，但量級都在-1×10-3nm/℃，10℃的溫度變化也只會引起-10-2nm量級的漂移，而實(shí)驗(yàn)觀測到的漂移無論對單片還是膠合樣品都在1nm的量級，所以上述計算的結(jié)果并不是主要因素。四川H-alpha濾光片截止率昊躍光學(xué)天文觀察濾光片。

通過對紅、綠、藍(lán)三種帶通濾光片在溫度影響下中心波長漂移的實(shí)驗(yàn)，我們分析了造成這種漂移的原因。這其中有三種因素起著作用。對于未膠合濾光片，薄膜柱狀結(jié)構(gòu)空隙中原本填充的水分子隨溫度升高被蒸發(fā)而引起的折射率下降是主要因素，它造成了中心波長的短移。這種短移隨薄膜的聚集密度而變化。對于聚集密度為0.92的膜系，短移的數(shù)值在10 nm的量級。這種解吸潮的過程在室溫到70℃的范圍內(nèi)極明顯，有80%到90%的水被蒸發(fā)出來，而在70℃以上，殘余的10%～20%的水分也被蒸發(fā)出來。

濾光片是用來選取所需輻射波段的光學(xué)器件。濾光片的一個共性，就是沒有任何濾光片能讓天體的成像變得更明亮，因?yàn)樗械臑V光片都會吸收某些波長，從而使物體變得更暗。顏色濾光片是各種顏色的平板玻璃或明膠片，其透射帶寬數(shù)百埃，多用在寬帶測光或裝在恒星攝譜儀中，以隔離重疊光譜級次。其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大。薄膜濾光片一般透過的波長較長，多用做紅外濾光片。后者是在一定片基上的。濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過，如此類推。玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有有色光都可以通過，所以是透明的，但是染了染料后，分子結(jié)構(gòu)變化，折射率也發(fā)生變化，對某些色光的通過就有變化了。比如一束白光通過藍(lán)色濾光片，射出的是一束藍(lán)光，而綠光、紅光極少，大多數(shù)被濾光片吸收了。昊躍光學(xué)顏色玻璃濾光片。

吸潮情況下低折射率材料SiO2的聚集密度對中心波長的漂移起著主要作用。高折射率材料聚集密度的不同引起的中心波長漂移差別只有1nm左右，而低折射率材料卻有大約3nm的變化。原因在于低折射率材料吸潮后，折射率上升相對于原來折射率的比例很高，相當(dāng)于光學(xué)厚度增加的比例大，導(dǎo)致漂移大。更重要的是，SiO2是作為膜系的間隔層，而間隔層對中心波長漂移的影響是比較大的。綜上所述，用溫度升高薄膜內(nèi)原來占據(jù)空隙的水汽被蒸發(fā)導(dǎo)致中心波長短移的理論可以較好地解釋我們實(shí)驗(yàn)得到的數(shù)據(jù)，并且可以由此推導(dǎo)出我們制備的SiO2的聚集密度大約在0.92～0.95之間。理論分析和工藝條件的分析相吻合。昊躍光學(xué)HSO單窄濾光片。中國澳門窄帶濾光片截止率

昊躍光學(xué)的窄帶濾光片。甘肅昊躍光學(xué)濾光片規(guī)格

用電子束(EB)蒸發(fā)的TiO2和SiO2薄膜系統(tǒng)具有重要的應(yīng)用。但是用常規(guī)的蒸發(fā)技術(shù)，即使基板的溫度高達(dá)300℃以上，薄膜仍呈現(xiàn)出明顯的柱狀結(jié)構(gòu)特性。這種柱狀結(jié)構(gòu)的薄膜，由于膜層中包含著大量的空隙，因此隨著薄膜濾光片吸潮，膜層折射率升高，濾光片的中心波長就會產(chǎn)生明顯的漂移。為了表征這種結(jié)構(gòu)特性，人們提出了聚集密度P，它被定義為薄膜中固體部分的體積與總體積之比。所以它是一個描述薄膜疏松程度的物理量。隨著離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展，諸如離子輔助淀積(IAD)，反應(yīng)離子鍍(RIP)和離子束濺射(IBS)等，薄膜的聚集密度得到了明顯的提高，甚至已經(jīng)有實(shí)驗(yàn)報道，有些薄膜的聚集密度大于1。這意味著薄膜的密度比自然界中的大塊材料的密度還要高，原因是在高聚集密度的薄膜中，常常呈現(xiàn)出較大的壓應(yīng)力，致使薄膜具有更高的聚集密度。但是，即使薄膜的聚集密度大于1，濾光片中心波長仍會出現(xiàn)漂移。已經(jīng)認(rèn)識到，影響薄膜濾光片中心波長漂移的不僅是聚集密度，而且還有薄膜與基板的溫度折射率系數(shù)和熱膨脹系數(shù)。所以濾光片的中心波長漂移可以簡單地表示為Δλ=薄膜空隙吸潮引起的漂移+溫度折射率變化引起的漂移+熱膨脹引起的漂移。甘肅昊躍光學(xué)濾光片規(guī)格

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