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重慶高分辨率無(wú)掩膜光刻3D打印

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-12

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者,Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷(xiāo)售活動(dòng),并完善了亞太地區(qū)客戶(hù)服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類(lèi)上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù),公司資訊和技術(shù)支持幾大專(zhuān)欄。比較大化滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶(hù)無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用?!奔{糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)。重慶高分辨率無(wú)掩膜光刻3D打印

重慶高分辨率無(wú)掩膜光刻3D打印,無(wú)掩膜光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶(hù)設(shè)施。遼寧雙光子聚合無(wú)掩膜光刻工藝納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻技術(shù)。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。無(wú)掩膜光刻是一類(lèi)不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù)。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。想要了解無(wú)掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢(xún)納糯三維科技(上海)有限公司。重慶工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的技術(shù)中心是Nanoscribe特別研發(fā)的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)。重慶高分辨率無(wú)掩膜光刻3D打印

儀器儀表行業(yè)已經(jīng)連續(xù)多年保持了經(jīng)濟(jì)高位運(yùn)行的態(tài)勢(shì)。即使當(dāng)全球受金融風(fēng)暴的影響,各個(gè)行業(yè)經(jīng)濟(jì)東圃有所放緩,但從全景發(fā)展情況看來(lái),儀表行業(yè)的增長(zhǎng)速度并沒(méi)有放緩。我國(guó)現(xiàn)有外商獨(dú)資企業(yè)企業(yè)數(shù)千多家,已經(jīng)形成門(mén)類(lèi)品種比較齊全,具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時(shí)業(yè)內(nèi)行家也指出,雖然我國(guó)測(cè)試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展,但遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿(mǎn)足國(guó)民經(jīng)濟(jì)各行各業(yè)日益增長(zhǎng)的迫切需求。工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)型升級(jí)、提升發(fā)展質(zhì)量等有利于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展;**安全、社會(huì)安全、產(chǎn)業(yè)和信息安全等需要自主、PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)裝備,成為全社會(huì)共識(shí);我國(guó)生產(chǎn)型發(fā)展迅速,年均增長(zhǎng)速度超過(guò)20%。在相關(guān)報(bào)告中可以了解到在我國(guó)工業(yè)基礎(chǔ)生產(chǎn)型產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀研究的成果。重慶高分辨率無(wú)掩膜光刻3D打印

納糯三維科技(上海)有限公司主營(yíng)品牌有Nanoscribe,發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,該公司生產(chǎn)型的公司。公司致力于為客戶(hù)提供安全、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù),是一家外商獨(dú)資企業(yè)企業(yè)。公司始終堅(jiān)持客戶(hù)需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質(zhì)量的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維順應(yīng)時(shí)代發(fā)展和市場(chǎng)需求,通過(guò)**技術(shù),力圖保證高規(guī)格高質(zhì)量的PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)。

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