雖然半導體行業(yè)一直在使用3D打印技術，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內幕，因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少，對外界揭示其優(yōu)化設備性能的技術，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結構一體化實現(xiàn)，根據(jù)3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預期的工作環(huán)境，而不是在機器操作上做出妥協(xié)。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造。湖北微納米增材制造工藝

增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎，通過軟件與數(shù)控系統(tǒng)將**的金屬材料、非金屬材料以及醫(yī)用生物材料，按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品的制造技術。相對于傳統(tǒng)的、對原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過材料累加的制造方法，從無到有。這使得過去受到傳統(tǒng)制造方式的約束，而無法實現(xiàn)的復雜結構件制造變?yōu)榭赡?。近二十年來，AM技術取得了快速的發(fā)展，“快速原型制造（RapidPrototyping）”、“三維打印(3DPrinting)”、“實體自由制造(SolidFree-formFabrication)”之類各異的叫法分別從不同側面表達了這一技術的特點。湖南MEMS增材制造無掩膜光刻增材制造有助于提高制造效率和降低成本。

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點，這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步，人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術，而全新推出的QuantumX平臺新型高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的優(yōu)異性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別你知道嗎？想要了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質量。總而言之，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。影響增材制造技術的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。湖南MEMS增材制造無掩膜光刻

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您講解增材制造的基本原理、優(yōu)缺點及具體方法。湖北微納米增材制造工藝

Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?！癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現(xiàn)在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規(guī)模比較大的光學系統(tǒng)制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。湖北微納米增材制造工藝