微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對(duì)制備工藝提出了很?chē)?yán)格的要求。科研人員提出了許多方法來(lái)實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實(shí)現(xiàn)了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實(shí)現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實(shí)現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復(fù)雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機(jī)械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對(duì)而言，透明硬脆材料例如石英、藍(lán)寶石等由于其極高的硬度和極強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性，在光學(xué)窗口、光學(xué)元件等方面的應(yīng)用更加廣。因此，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學(xué)元件成為研究人員研究的焦點(diǎn)。由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問(wèn)題。江蘇高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明湖南2GL灰度光刻與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，灰度光刻在制造復(fù)雜芯片時(shí)具有明顯的優(yōu)勢(shì)。

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度特別高。Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beers定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶(hù)正在微加工的前沿工作。

微納3D打印其實(shí)和與灰度光刻有點(diǎn)相似，但是原理不同，我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，對(duì)于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具，但是對(duì)于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進(jìn)行后續(xù)的復(fù)制工作，并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過(guò)先進(jìn)的光刻技術(shù)，它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平。同時(shí)，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過(guò)程中的誤差和損耗，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開(kāi)發(fā)的技術(shù)，**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備，它的生產(chǎn)速度提高了30%，提升了我們的生產(chǎn)效率。同時(shí)，設(shè)備還具備多通道同時(shí)加工的能力，可以同時(shí)處理多個(gè)產(chǎn)品，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠表面深度的精確控制，從而制備出更加復(fù)雜和精細(xì)的微納結(jié)構(gòu)。江蘇超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點(diǎn)。江蘇高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)

QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿(mǎn)足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。江蘇高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)