Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級3D打印光學(xué)，甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。灰度光刻技術(shù)還可以與其他先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合，如直接激光寫入（Direct Laser Writing）等。湖北高分辨率灰度光刻

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。湖北高分辨率灰度光刻激光直寫灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。

超高速灰度光刻技術(shù)是一項(xiàng)帶領(lǐng)科技發(fā)展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項(xiàng)技術(shù)的出現(xiàn)，將徹底改變我們對光刻的認(rèn)知，為各行各業(yè)帶來了巨大的創(chuàng)新機(jī)遇。超高速灰度光刻技術(shù)主要是利用高能激光束對材料進(jìn)行精確的刻蝕，從而實(shí)現(xiàn)微米級甚至納米級的精細(xì)加工。相比傳統(tǒng)的光刻技術(shù)，超高速灰度光刻技術(shù)具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時(shí)間內(nèi)完成更復(fù)雜的加工任務(wù)，提高了生產(chǎn)效率。超高速灰度光刻技術(shù)在電子、光電子、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。在電子領(lǐng)域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動(dòng)電子產(chǎn)品的迭代升級。在光電子領(lǐng)域，它可以用于制造高精度的光學(xué)元件，提高光學(xué)設(shè)備的性能。在生物醫(yī)藥領(lǐng)域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實(shí)現(xiàn)更精確的醫(yī)學(xué)診斷。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案在灰度光刻技術(shù)的幫助下，芯片制造商可以更好地滿足不斷增長的市場需求。

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。制備各種復(fù)雜的微納米結(jié)構(gòu)，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求。湖南高精度灰度光刻3D微納加工

灰度光刻哪家好？推薦納糯三維科技（上海）有限公司。湖北高分辨率灰度光刻

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品，名為3D無掩模光刻。無論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域，極大地節(jié)省了加工時(shí)間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進(jìn)行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠?yàn)槟?jié)省時(shí)間和精力，讓您專注于更重要的事情。立即購買，體驗(yàn)高效、高精度的3D無掩模光刻吧！湖北高分辨率灰度光刻