濕法是一種化學(xué)反應(yīng)過程，其中反應(yīng)介質(zhì)通常是液態(tài)。這些液體可以是水、有機(jī)溶劑或酸性/堿性溶液。濕法反應(yīng)通常用于制備化學(xué)品、金屬提取和其他化學(xué)反應(yīng)。在濕法反應(yīng)中，反應(yīng)介質(zhì)的選擇取決于反應(yīng)的性質(zhì)和所需的產(chǎn)物。例如，水是一種常見的反應(yīng)介質(zhì)，因?yàn)樗且环N普遍的溶劑，可以溶解許多化學(xué)物質(zhì)。水還可以用作酸堿反應(yīng)的介質(zhì)，因?yàn)樗梢宰鳛橘|(zhì)子或氫離子的來源。有機(jī)溶劑也是常見的反應(yīng)介質(zhì)，因?yàn)樗鼈兛梢匀芙庠S多有機(jī)化合物。有機(jī)溶劑還可以用于制備有機(jī)化合物，例如醇、酮和醛等。酸性/堿性溶液也是常見的反應(yīng)介質(zhì)，因?yàn)樗鼈兛梢杂糜谒釅A反應(yīng)和中和反應(yīng)。例如，硫酸可以用作酸性介質(zhì)，用于制備硫酸鹽和其他化學(xué)品。氫氧化鈉可以用作堿性介質(zhì)，用于制備氫氧化物和其他化學(xué)品?？傊?，反應(yīng)介質(zhì)的選擇取決于反應(yīng)的性質(zhì)和所需的產(chǎn)物。在濕法反應(yīng)中，反應(yīng)介質(zhì)通常是液態(tài)，可以是水、有機(jī)溶劑或酸性/堿性溶液。濕法刻蝕設(shè)備（Perc 工藝）拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。鄭州太陽(yáng)能電池濕法設(shè)備Perc工藝

濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時(shí)，對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。廣州專業(yè)濕法設(shè)備報(bào)價(jià)太陽(yáng)能光伏電池濕法制絨設(shè)備（Perc 工藝）使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，降低反射率。

專業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。

電池濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢(shì)是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過程中，需要進(jìn)行多次培訓(xùn)和教育，提高員工技能和安全意識(shí)。

光伏電池濕法設(shè)備XBC工藝背拋清洗設(shè)備，功能l硅片拋光處理。優(yōu)勢(shì)：進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。l去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對(duì)太陽(yáng)光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。光伏電池濕法制絨設(shè)備（HJT工藝）增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。廣州專業(yè)濕法設(shè)備報(bào)價(jià)

電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過程中，需要進(jìn)行多次溝通和協(xié)調(diào)，保持生產(chǎn)和管理的順暢。鄭州太陽(yáng)能電池濕法設(shè)備Perc工藝

電池濕法去PSG設(shè)備主要是對(duì)太陽(yáng)能電池用硅片進(jìn)行清洗處理，2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備，并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級(jí)。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除，利用背面PSG保護(hù)，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸，整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu)，料臺(tái)歸正寬度可調(diào)，兼容更多規(guī)格的硅片，并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口；去PSG設(shè)備布局前后通透，給設(shè)備使用者提供了便捷性；上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵；鄭州太陽(yáng)能電池濕法設(shè)備Perc工藝