HJT電池生產(chǎn)流程，HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對(duì)n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來(lái)的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí)，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱(chēng)為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標(biāo)，一般可通過(guò)添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。中國(guó)在光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)的研發(fā)和應(yīng)用方面處于優(yōu)勢(shì)地位，擁有眾多出名企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠(chǎng)家

異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡(jiǎn)單等特點(diǎn)，為光伏領(lǐng)域帶來(lái)了新的希望。釜川（無(wú)錫）智能科技有限公司，以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì)，憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力，在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。江蘇釜川異質(zhì)結(jié)設(shè)備零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)解決方案疊加了雙面微晶、無(wú)銀或低銀金屬化工藝，明顯提升了太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率。

太陽(yáng)能異質(zhì)結(jié)是一種由兩種不同材料組成的結(jié)構(gòu)，其中一種材料是n型半導(dǎo)體，另一種是p型半導(dǎo)體。這兩種半導(dǎo)體材料的結(jié)合形成了一個(gè)p-n結(jié)，也稱(chēng)為異質(zhì)結(jié)。在太陽(yáng)能異質(zhì)結(jié)中，n型半導(dǎo)體的電子濃度比空穴濃度高，而p型半導(dǎo)體的空穴濃度比電子濃度高。當(dāng)這兩種材料結(jié)合在一起時(shí)，電子和空穴會(huì)在p-n結(jié)處相遇并重新組合，從而產(chǎn)生一個(gè)電勢(shì)差。這個(gè)電勢(shì)差可以用來(lái)驅(qū)動(dòng)電子流，從而產(chǎn)生電能。太陽(yáng)能異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)通常包括一個(gè)p型半導(dǎo)體層和一個(gè)n型半導(dǎo)體層，它們之間有一個(gè)p-n結(jié)。在太陽(yáng)能電池中，這個(gè)結(jié)構(gòu)通常被放置在一個(gè)透明的玻璃或塑料表面下，以便太陽(yáng)光可以穿過(guò)并照射到p-n結(jié)上。當(dāng)太陽(yáng)光照射到p-n結(jié)上時(shí)，它會(huì)激發(fā)電子和空穴的運(yùn)動(dòng)，從而產(chǎn)生電流?？傊?，太陽(yáng)能異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)是由一個(gè)p型半導(dǎo)體層和一個(gè)n型半導(dǎo)體層組成，它們之間有一個(gè)p-n結(jié)。這個(gè)結(jié)構(gòu)可以將太陽(yáng)光轉(zhuǎn)化為電能，是太陽(yáng)能電池的主要組成部分。

光伏高效異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)解決方案，產(chǎn)業(yè)機(jī)遇：方向清晰：HJT技術(shù)工藝流程短、功率衰減低、輸出功率穩(wěn)定、雙面發(fā)電增益高、未來(lái)主流技術(shù)方向；時(shí)間明確：HJT平均量產(chǎn)效率已超過(guò)PERC瓶頸（25%），行業(yè)對(duì)HJT電池投入持續(xù)加大，電池商業(yè)化已逐漸成熟；機(jī)遇可期：設(shè)備與耗材是HJT規(guī)?；年P(guān)鍵，降本增效是不變的主題，具備HJT整線(xiàn)整合能力的供應(yīng)商優(yōu)勢(shì)明顯。當(dāng)前HJT生產(chǎn)成本約：硅片占比約50%，銀漿占比約25%，靶材約6%左右；當(dāng)前HJT設(shè)備成本約：清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、絲網(wǎng)印刷，設(shè)備投資額占比分別約10%、50%、25%和15%。異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。

HJT電池所有制程的加工溫度均低于250，避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫?cái)U(kuò)散制結(jié)的過(guò)程，而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學(xué)帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制，也可避免因高溫導(dǎo)致的熱應(yīng)力等不良影響。HJT電池轉(zhuǎn)換效率高，拓展?jié)摿Υ?，工藝?jiǎn)單并且降本路線(xiàn)清晰，契合了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的規(guī)律，是有潛力的下一代電池技術(shù)。HJT電池為對(duì)稱(chēng)的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場(chǎng)作用。光伏異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，由非晶硅層和晶體硅層組成，具有制造工藝簡(jiǎn)單、快速和低成本的優(yōu)勢(shì)。廣東太陽(yáng)能異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠(chǎng)家

高效異質(zhì)結(jié)電池PECVD設(shè)備是制備微晶硅的設(shè)備，其工藝機(jī)理復(fù)雜，影響因素眾多，需要專(zhuān)業(yè)公司制備。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠(chǎng)家

異質(zhì)結(jié)（Heterojunction with Intrinsic Thin-layer，HJT）電池為對(duì)稱(chēng)的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層（包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H）、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場(chǎng)作用。HJT是很有潛力優(yōu)勢(shì)的技術(shù)，在將來(lái)HJT電池與鈣鈦礦技術(shù)進(jìn)行復(fù)合疊層，突破轉(zhuǎn)換效率30%成為可能。成都新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠(chǎng)家