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杭州國(guó)產(chǎn)硅光電二極管接法

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-09

    其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。因此擴(kuò)散時(shí)間很短;從而實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。該結(jié)構(gòu)中,襯底材料107不用進(jìn)行背面處理,直接與金屬形成良好的歐姆接觸;外延層厚度取決于耗盡區(qū)寬度。進(jìn)一步的,所述外延層101的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層101厚度wepi根據(jù)耗盡區(qū)寬度wd確定:wepi≈wd,而wd≥w入/2,其中w入=f(λ),w入為入射光入射深度,λ為入射光波長(zhǎng);所述的高反層109由折射率~~;高反層109上開(kāi)設(shè)的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔,或者為同心環(huán)形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時(shí),孔直徑為10~50um,孔間距為15~50um,圓形孔的總面積為結(jié)面積的1/2;所述的刻蝕孔為同心環(huán)形孔時(shí),同心環(huán)中心與正面金屬電極106的中心重合,同心環(huán)中心為刻蝕區(qū),相鄰環(huán)間距5~20um。具體的,高反層109可以為多孔結(jié)構(gòu),可采用矩陣排列(比如采用正方形陣列排列)。硅光電二極管陣列 選擇世華高。杭州國(guó)產(chǎn)硅光電二極管接法

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    技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管及其制備方法,在不影響光電二極管響應(yīng)度的前提下,解決了硅基光電二極管響應(yīng)速度慢的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管,包括背面設(shè)有背面電極的襯底;襯底正面依次設(shè)有高反層、外延層、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極;所述的高反層上開(kāi)設(shè)有用于形成電流路徑的刻蝕孔,以及與正面金屬電極相對(duì)應(yīng)的刻蝕區(qū);所述的注入層包括保護(hù)環(huán)以及設(shè)在其內(nèi)的有源區(qū);所述的正面金屬電極還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區(qū)相連接。所述的襯底為電阻率20~100為ohm·cm的硅基襯底,襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極。所述的高反層由折射率~~;高反層上開(kāi)設(shè)的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔,或者為同心環(huán)形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時(shí),孔直徑為10~50um,孔間距為15~50um,圓形孔的總面積為結(jié)面積的1/2;所述的刻蝕孔為同心環(huán)形孔時(shí),同心環(huán)中心與正面金屬電極的中心重合,同心環(huán)中心為刻蝕區(qū),相鄰環(huán)間距5~20um。所述的外延層淀積在高反層上;在外延層上分別以n型離子注入形成保護(hù)環(huán)。湖南硅光電硅光電二極管參數(shù)硅光電二極管方案商,一站式服務(wù)商世華高。

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    當(dāng)反向工作電壓大于10伏時(shí),光電流基本上不隨反向電壓增加而增加,反映在平行曲線簇上就是平直那段(例如AB段)。由圖③清楚地看出在反向工作電壓大于10伏的條件下管子有較高的靈敏度。圖④表示在反向工作電壓大于10伏情況下,光電流與入射光強(qiáng)度的關(guān)系。從圖④看出在反向工作電壓大于10伏的條件下光電流隨入射光強(qiáng)度的變化基本上是線性的。上述這些,就是硅光電二極管的反向工作電壓必須大于10伏的原因所在。2.硅光電二極管的光電流、暗電流隨溫度的變化均有變化。在環(huán)境溫度0℃以上,反向工作電壓不變的條件下,環(huán)境溫度變化(25~30)℃時(shí),硅光電二極管的暗電流將變化10倍,光電流變化10%左右,所以在要求穩(wěn)定性高的電路中要考慮溫度補(bǔ)償?shù)膯?wèn)題。二、2CU型硅光電二極管在電路中接法:2CU型硅光電二極管在接入電路前先要按產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)所述來(lái)分清“+”、“(-)”極。例如2CU-1-和2CU-2-型管子。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。

    提高硅基光電二極管響應(yīng)速度變得越來(lái)越迫切。高阻材料雖然可以提高響應(yīng)度,同時(shí)它也會(huì)引入三個(gè)方面的缺點(diǎn):一是耗盡區(qū)寬度變寬,使得光生載流子漂移時(shí)間變長(zhǎng),響應(yīng)速度變慢;二是耗盡區(qū)變寬,需要材料厚度相應(yīng)的變厚,而對(duì)于某些應(yīng)用場(chǎng)景,需要芯片厚度在150um左右,這種情況下,寬耗盡區(qū)并未帶來(lái)響應(yīng)度的明顯提升;三是由于材料為高阻材料,擴(kuò)散區(qū)電阻率太高,導(dǎo)致擴(kuò)散時(shí)間變長(zhǎng),從而導(dǎo)致響應(yīng)速度變慢??梢钥闯觯瑸榱说玫礁唔憫?yīng)度,材料厚度需要做厚,電阻率選用高阻;為了得到高響應(yīng)速度。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。材料厚度盡量薄,電阻率盡量低;這樣就很難實(shí)現(xiàn)兩者的兼顧。世華高硅光電二極管性能穩(wěn)定,技術(shù)成熟。

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    設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù):注射器推進(jìn)速度3mm/h,紡絲電壓20kv,接收距離8cm,滾筒轉(zhuǎn)速200r/min,在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維,150℃烘箱中干燥過(guò)夜,烘干后置于550℃馬弗爐中煅燒2h,熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極;配制30ml濃度為、,攪拌均勻,轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi),fto導(dǎo)電面朝下,密封水熱反應(yīng)釜,置于恒溫干燥箱中,180℃水熱反應(yīng)6h;反應(yīng)結(jié)束,取出fto電極,水洗3次,60℃下真空干燥8h;干燥后,將薄膜放入管式爐內(nèi),氮?dú)獗Wo(hù)條件下煅燒,控制煅燒溫度為300℃,煅燒時(shí)間為3h,即可得sr摻雜batio3/znte光電極。世華高專業(yè)研究硅光電二極管。深圳國(guó)產(chǎn)硅光電二極管型號(hào)

硅光電二極管接法供應(yīng)商選世華高。杭州國(guó)產(chǎn)硅光電二極管接法

    該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。所述方法由以下步驟組成:1)以乙酸鋇、乙酸鍶和鈦酸四丁酯為原料,溶解于乙酸、乙醇和水的混合溶液中,加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10-30%的聚乙烯吡絡(luò)烷酮,攪拌24h,得到紡絲溶液;2)采用靜電紡絲機(jī)制備sr摻雜batio3納米纖維薄膜電極:將步驟1所述紡絲溶液加入到10ml注射器中,設(shè)置一定的靜電紡絲工藝參數(shù),在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維,150℃烘箱中干燥過(guò)夜,烘干后置于馬弗爐中煅燒一定時(shí)間,熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極;3)采用水熱法制備sr摻雜batio3/znte光電極:配制一定濃度的硝酸鋅、碲酸鈉和硼氫化鈉的混合水溶解,攪拌均勻,后轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中;將步驟2所述sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi),fto導(dǎo)電面朝下,密封后置于恒溫干燥箱中,水熱反應(yīng)一定時(shí)間。杭州國(guó)產(chǎn)硅光電二極管接法

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