CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分，其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題！馳光機(jī)電科技提供周到的解決方案，滿足客戶不同的服務(wù)需要。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價(jià)格

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年我國(guó)PTA將迎來(lái)投產(chǎn)前端期，基本都是行業(yè)前端企業(yè)配套上下游的規(guī)劃項(xiàng)目，其中恒力石化2021年在廣東惠州設(shè)計(jì)產(chǎn)能達(dá)到500萬(wàn)噸，預(yù)計(jì)2021年我國(guó)PTA計(jì)劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)能1650萬(wàn)噸（保底1160萬(wàn)噸），預(yù)計(jì)2022年我國(guó)PTA計(jì)劃投產(chǎn)PTA產(chǎn)能570萬(wàn)噸。CPS高精度納米粒度分析儀CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號(hào)：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度快、分辨率較高以及靈敏度較好的離心沉降式納米粒度分析儀，它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價(jià)格馳光機(jī)電科技誠(chéng)信、盡責(zé)、堅(jiān)韌。

云計(jì)算和大數(shù)據(jù)整合，隨著云計(jì)算和大數(shù)據(jù)技術(shù)的發(fā)展，實(shí)驗(yàn)室分析儀可能會(huì)與云端服務(wù)進(jìn)行整合。這樣不只可以方便數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)、分析和共享，還可以通過(guò)大數(shù)據(jù)技術(shù)提高實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可信度和可靠性。環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展，隨著對(duì)環(huán)保意識(shí)的提高，未來(lái)的實(shí)驗(yàn)室分析儀可能會(huì)更加注重環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展。例如，使用更少的樣品和試劑、降低能源消耗、減少?gòu)U棄物產(chǎn)生等。遠(yuǎn)程監(jiān)控和維護(hù)，借助物聯(lián)網(wǎng)和遠(yuǎn)程通信技術(shù)，未來(lái)的實(shí)驗(yàn)室分析儀可能實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控和維護(hù)。這樣可以在線診斷問(wèn)題、遠(yuǎn)程升級(jí)軟件和硬件，甚至可能實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制。

磨料的粒度測(cè)量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過(guò)大聚集體為1-10微米，并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來(lái)自于精確確定納米級(jí)顆粒尺寸，同時(shí)還識(shí)別出相對(duì)較少的微米級(jí)聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來(lái)。馳光機(jī)電具有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)力量過(guò)硬的專業(yè)技術(shù)人才管理團(tuán)隊(duì)。

應(yīng)用實(shí)例：測(cè)量高純氧化鋁粉。一般來(lái)說(shuō)，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級(jí)陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級(jí)涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo)，CPS納米粒度分析儀能給您帶來(lái)確切穩(wěn)定的測(cè)量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測(cè)定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。馳光機(jī)電是多層次的團(tuán)體與管理模式。安徽CPS高精度納米粒度分析儀價(jià)格

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CPS分析儀基本原理：CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來(lái)進(jìn)行粒度的測(cè)量。待測(cè)樣品從圓盤中心進(jìn)入高速旋轉(zhuǎn)的圓盤，在離心力的作用下發(fā)生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距離圓盤的邊緣固定位置設(shè)有激光檢測(cè)器，顆粒按尺寸大小依次通過(guò)探測(cè)器，儀器記錄顆粒通過(guò)探測(cè)器的時(shí)間，由于所有顆粒走過(guò)的路程都一樣，因此，顆粒運(yùn)動(dòng)所需的時(shí)間與顆粒本身尺寸的平方成反比，激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度。天津高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀價(jià)格