而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內(nèi)拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產(chǎn)生。馳光機電科技用先進的生產(chǎn)工藝和規(guī)范的質(zhì)量管理，打造優(yōu)良的產(chǎn)品！安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

低維護配置允許安裝分析儀在常壓下將樣品返回的合適位置，進一步減少維護需求。C-Quand在線EDXRF分析儀的優(yōu)勢：1.帶有十五個測量通道，可以同時分析15種元素的含量。2.沒有運動部件，不需要更換動力窗模塊。3.運行維護成本低，無后期耗材成本。4.維護操作簡單，帶有全自動樣品池清洗模塊，每次維護時間多數(shù)十分鐘，宕機時間短。5.內(nèi)置標準樣品，不需要停機校準，實現(xiàn)真正的完全在線測量。6.測量結果不受樣品密度和原料種類影響，直接測量元素含量。遼寧高靈敏度納米粒度分析儀價格馳光機電在行業(yè)的影響力逐年提升。

技術優(yōu)勢：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎是它先進的示差沉降技術。高轉速：CPS可以支持的較高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數(shù)小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。高精度標定：CPS系統(tǒng)使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內(nèi)標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。

測量低密度顆粒：示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開發(fā)了一項新的技術技術(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。速度調(diào)節(jié)：CPS開發(fā)了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉速，而不會對沉降液體產(chǎn)生擾動，轉速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態(tài)范圍幾乎增大了20倍。不斷開發(fā)新的產(chǎn)品，并建立了完善的服務體系。

被測物料不溶于水，就用自來水作為試劑，以節(jié)約成本；被測物料在水中懸浮，可用乙醇將粉末濕潤后放入樣品槽；超聲分散的時間為15-60秒，測試結果一直穩(wěn)定，不可再變化，說明樣粉已被充分分散。有些試樣由于強度低，超聲分散太長，有可能產(chǎn)生粉碎，使測試結果越來越細。有些試樣不易分散，也可加長分散時間。激光粒度儀的相關知識點就先說到這里了，這款產(chǎn)品還有很多的常識等著各位來發(fā)現(xiàn)與了解，如果您還想要了解更多內(nèi)容，還請先關注好我們，華致林小編會不定期在此跟大家分享更多的信息。馳光機電是多層次的團體與管理模式。廣西粒度分析儀報價

選擇馳光，就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

光電探測器陣列由一系列同心環(huán)帶組成，每個環(huán)帶是一個單獨的探測器，能將投射到上面的散射光線形地轉換成電壓，然后送給數(shù)據(jù)采集卡，該卡將電信號放大，再進行AID轉化后送入計算機。激光粒度儀依據(jù)全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì)，根據(jù)激光照射在顆粒上產(chǎn)生的散射光能量反演出顆粒群的粒度大小和粒度分布規(guī)律。激光粒度儀注意事項：本儀器適用于＜1mm粒度測定，＞1mm的應過篩測定；必須先開計算機電源，工作正常后，再開儀器電源，順序不能反了，否則信號送不到計算機。安徽CPS高精度納米粒度分析儀哪家好