氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對(duì)基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問(wèn)題上有重要的參考價(jià)值。CPS納米粒度分析儀可以直觀(guān)準(zhǔn)確的表征病毒顆粒的團(tuán)聚情況。CPS納米粒度分析儀測(cè)定不同處理方式下病毒顆粒的團(tuán)聚情況的結(jié)果，儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分?？梢悦黠@看到病毒顆粒是否發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時(shí)間，以及病毒顆粒的團(tuán)聚情況。地理位置優(yōu)越，交通十分便利。寧夏激光粒度分析儀

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時(shí)間，以及病毒顆粒的團(tuán)聚情況，峰值清晰可見(jiàn)，為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案。應(yīng)用范圍：CPS納米粒度分析儀可測(cè)量粒度分布在5nm-75微米之間的超細(xì)粉，大量應(yīng)用于以下領(lǐng)域?；ぃ壕酆衔锶槟z和乳液，助劑及添加劑(納米碳酸鈣CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金剛石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗沖擊增強(qiáng)顆粒。制藥/生物：納米金和納米銀，病毒和類(lèi)病毒顆粒，細(xì)胞和細(xì)胞碎片，蛋白質(zhì)，脂質(zhì)體。遼寧激光粒度分析儀報(bào)價(jià)馳光機(jī)電產(chǎn)品銷(xiāo)往國(guó)內(nèi)。

這個(gè)關(guān)系可以用散點(diǎn)圖顯示，用以觀(guān)察樣品粒徑和形狀之間的關(guān)系。形狀過(guò)濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀(guān)察樣品的特定部分?？梢愿鶕?jù)數(shù)據(jù)挖掘，對(duì)比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析，給除對(duì)比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測(cè)量過(guò)程中可觀(guān)察顆粒；對(duì)已存圖片或錄像可重新分析；可根據(jù)粒徑或形狀對(duì)顆粒分類(lèi)和過(guò)濾；對(duì)非球形顆?？梢蕴峁┒喾N形狀參數(shù)；可提供纖維測(cè)量模塊；驗(yàn)證工具－較大程度減少樣品預(yù)處理對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響，顆粒形狀信息是很重要的。

CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分，其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題！馳光機(jī)電科技以質(zhì)量求生存，以信譽(yù)求發(fā)展！

為了實(shí)現(xiàn)較佳過(guò)程控制，樣品測(cè)量時(shí)間為5分鐘左右。催化劑濃度通常在40至1000ppm范圍內(nèi)。C-Quand在線(xiàn)XRF分析儀是一款真正的過(guò)程分析儀，專(zhuān)為化工廠(chǎng)的惡劣環(huán)境而設(shè)計(jì)。分析儀配置和操作簡(jiǎn)單。它配有模擬和串行數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議。C-Quand在線(xiàn) XRF分析儀可以連續(xù)測(cè)量多達(dá)四個(gè)流路，每個(gè)流都有自己的校準(zhǔn)曲線(xiàn)。此外，C-Quand在線(xiàn)XRF分析儀有各種方法來(lái)檢查和確?？煽康臄?shù)據(jù)。每小時(shí)分析一次內(nèi)置的固體參考。有了這個(gè)內(nèi)置的自動(dòng)參考，您將能夠在一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)無(wú)漂移過(guò)程測(cè)量。馳光機(jī)電科技堅(jiān)持“顧客至上，合作共贏”。天津高靈敏度納米粒度分析儀

建立雙方共贏的伙伴關(guān)系是我們孜孜不斷的追求。寧夏激光粒度分析儀

為了提高粒徑的測(cè)量精度，需要較高的圓盤(pán)轉(zhuǎn)速，目前市面上常見(jiàn)的運(yùn)行速度較高在15000RPM，而國(guó)內(nèi)在1500RPM，無(wú)法滿(mǎn)足CPM化學(xué)機(jī)械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉(zhuǎn)速為24000轉(zhuǎn)，測(cè)試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測(cè)試成本，可連續(xù)測(cè)量多達(dá)40個(gè)樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經(jīng)列入國(guó)標(biāo)，包括《金屬粉末粒度分布的測(cè)量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測(cè)定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測(cè)定-使用光跟蹤盤(pán)式離心沉淀儀法》等。寧夏激光粒度分析儀