技術(shù)優(yōu)勢：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速：CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(shí)(數(shù)小時(shí)或更長)的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定：CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國國家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。馳光機(jī)電科技傾城服務(wù)，確保質(zhì)量無后顧之憂。寧夏CPS高精度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！寧夏CPS高精度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)馳光機(jī)電科技有限公司尊崇團(tuán)結(jié)、信譽(yù)、勤奮。

這個(gè)關(guān)系可以用散點(diǎn)圖顯示，用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關(guān)系。形狀過濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分?？梢愿鶕?jù)數(shù)據(jù)挖掘，對比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析，給除對比圖與表格。圖像分析軟件的特征：測量過程中可觀察顆粒；對已存圖片或錄像可重新分析；可根據(jù)粒徑或形狀對顆粒分類和過濾；對非球形顆?？梢蕴峁┒喾N形狀參數(shù)；可提供纖維測量模塊；驗(yàn)證工具－較大程度減少樣品預(yù)處理對測量結(jié)果的影響，顆粒形狀信息是很重要的。

高靈敏度：即使只有1微克樣品，CPS也能得到一個(gè)準(zhǔn)確的粒度分布結(jié)果?？焖佟⒏呔葦?shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換：可用信號分辨率(即軟件操作的數(shù)據(jù)對象)決定于數(shù)模轉(zhuǎn)換(A/D)過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模轉(zhuǎn)換可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精度，即百萬分之一的誤差?？焖贆z測頭響應(yīng)：CPS系統(tǒng)的檢測頭和電路設(shè)計(jì)允許在95%精度下0.1秒的響應(yīng)速度，而同類產(chǎn)品的響應(yīng)時(shí)間為1-4秒。這一出眾的快速移動峰值檢測能力較大地?cái)U(kuò)展了測量的動態(tài)范圍，比同類型產(chǎn)品提供高出4倍多的分析速度。馳光機(jī)電科技和客戶攜手誠信合作，共創(chuàng)輝煌！

符合多項(xiàng)油品S元素分析國際和國家標(biāo)準(zhǔn)，例如ASTM D4294，ASTM D7212，GB/T 17040，GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W，使用壽命長達(dá)數(shù)十年。低背景硅“漂移”檢測器保證高分辨率，檢測限高達(dá)0.1ppm。除了標(biāo)配的Windows操作系統(tǒng)，還提供了備選的Linux操作系統(tǒng)，保證儀器的安全性（中美貿(mào)易戰(zhàn)下的新形勢要求）。中國PTA行業(yè)競爭格局分析，從我國PTA產(chǎn)能分布來看，產(chǎn)能占比較大的廠家是恒力石化，2020年占比20%；產(chǎn)能占比排第二的是逸盛大化，產(chǎn)能占比為10%，其次是逸盛石化，產(chǎn)能占比9%；國內(nèi)前面十PTA廠家產(chǎn)能合計(jì)占比77%。全球PTA計(jì)劃投產(chǎn)產(chǎn)能趨勢。選擇馳光，就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。陜西粒度分析儀價(jià)格

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激光檢測器同時(shí)檢測顆粒對光的散射程度，根據(jù)米氏散射理論，得出不同尺寸顆粒的相對含量，從而得到顆粒粒徑的分布曲線。主要參數(shù)：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選 配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進(jìn)樣器（型號AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。寧夏CPS高精度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)