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測(cè)量膜厚儀供貨

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-02-01

光譜儀主要包括六部分,分別是:光纖入口、準(zhǔn)直鏡、光柵、聚焦鏡、區(qū)域檢測(cè)器、帶OFLV濾波器的探測(cè)器。光由光纖進(jìn)入光譜儀中,通過(guò)濾波器和準(zhǔn)直器后投射到光柵上,由光柵將白光色散成光譜,經(jīng)過(guò)聚焦鏡將其投射到探測(cè)器上后,由探測(cè)器將光信號(hào)傳入計(jì)算機(jī)。光纖接頭將輸入光纖固定在光譜儀上,使得來(lái)自輸入光纖的光能夠進(jìn)入光學(xué)平臺(tái);濾波器將光輻射限制在預(yù)定波長(zhǎng)區(qū)域;準(zhǔn)直鏡將進(jìn)入光學(xué)平臺(tái)的光聚焦到光譜儀的光柵上,保證光路和光柵之間的準(zhǔn)直性;光柵衍射來(lái)自準(zhǔn)直鏡的光并將衍射光導(dǎo)向聚焦鏡;聚焦鏡接收從光柵反射的光并將光聚焦到探測(cè)器上;探測(cè)器將檢測(cè)到的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為nm波長(zhǎng)系統(tǒng);區(qū)域檢測(cè)器提供90%的量子效率和垂直列中的像素,以從光譜儀的狹縫圖像的整個(gè)高度獲取光,顯著改善了信噪比。當(dāng)光路長(zhǎng)度增加,儀器的分辨率越高,也越容易受到靜態(tài)振動(dòng)等干擾因素的影響,需采取一些減小噪聲的措施。測(cè)量膜厚儀供貨

干涉法和分光光度法都是基于相干光形成等厚干涉條紋的原理來(lái)確定薄膜厚度和折射率。不同于薄膜自發(fā)產(chǎn)生的等傾干涉,干涉法是通過(guò)設(shè)置參考光路來(lái)形成參考平面和測(cè)量平面間干涉條紋,因此其相位信息包含兩個(gè)部分,分別是由掃描高度引起的附加相位和由薄膜內(nèi)部多次反射引起的膜厚相位。干涉法的測(cè)量光路使用面陣CCD接收參考平面和測(cè)量平面間相干波面的干涉光強(qiáng)分布。與以上三種點(diǎn)測(cè)量方式不同,干涉法能夠一次性生成薄膜待測(cè)區(qū)域的表面形貌信息,但因存在大量軸向掃描和數(shù)據(jù)解算,完成單次測(cè)量的時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng)。防水膜厚儀制造公司操作需要一定的專業(yè)技能和經(jīng)驗(yàn),需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實(shí)踐。

白光光譜法具有測(cè)量范圍大、連續(xù)測(cè)量時(shí)波動(dòng)范圍小的優(yōu)點(diǎn),可以解決干涉級(jí)次模糊識(shí)別的問(wèn)題。但在實(shí)際測(cè)量中,由于誤差、儀器誤差和擬合誤差等因素的影響,干涉級(jí)次的測(cè)量精度仍然受到限制,會(huì)出現(xiàn)干擾級(jí)次的誤判和干擾級(jí)次的跳變現(xiàn)象。這可能導(dǎo)致計(jì)算得出的干擾級(jí)次m值與實(shí)際譜峰干涉級(jí)次m'(整數(shù))之間存在誤差。因此,本文設(shè)計(jì)了以下校正流程圖,基于干涉級(jí)次的連續(xù)特性得到了靶丸殼層光學(xué)厚度的準(zhǔn)確值。同時(shí),給出了白光干涉光譜測(cè)量曲線。

在白光干涉中,當(dāng)光程差為零時(shí),會(huì)出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋。隨著光程差的增加,光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線形成的干涉條紋之間會(huì)發(fā)生偏移,疊加后整體效果導(dǎo)致條紋對(duì)比度降低。白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)精度高,可以進(jìn)行測(cè)量。采用白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)具有抗干擾能力強(qiáng)、動(dòng)態(tài)范圍大、快速檢測(cè)和結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊等優(yōu)點(diǎn)。雖然普通的激光干涉與白光干涉有所區(qū)別,但它們也具有許多共同之處。我們可以將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加,而在頻域上觀察到的就是不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線。通過(guò)測(cè)量反射光的干涉來(lái)計(jì)算膜層厚度,利用膜層與底材的反射率和相位差來(lái)實(shí)現(xiàn)測(cè)量。

薄膜在現(xiàn)代光學(xué)、電子、醫(yī)療、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,可以提高器件性能。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響,成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問(wèn)題,導(dǎo)致其光學(xué)和物理性能無(wú)法達(dá)到設(shè)計(jì)要求,嚴(yán)重影響其性能和應(yīng)用。因此,需要開(kāi)發(fā)出精度高、體積小、穩(wěn)定性好的測(cè)量系統(tǒng)以滿足微米級(jí)工業(yè)薄膜的在線檢測(cè)需求。當(dāng)前的光學(xué)薄膜測(cè)厚方法無(wú)法同時(shí)兼顧高精度、輕小體積和合理的成本,而具有納米級(jí)測(cè)量分辨率的商用薄膜測(cè)厚儀器價(jià)格昂貴、體積大,無(wú)法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的在線測(cè)量需求。因此,提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測(cè)量解決方案,研發(fā)了小型化、低成本的薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),并提出了一種無(wú)需標(biāo)定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計(jì)算算法。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)工業(yè)薄膜的厚度測(cè)量。增加光路長(zhǎng)度可以提高儀器分辨率,但同時(shí)也會(huì)更容易受到振動(dòng)等干擾,需要采取降噪措施。膜厚儀測(cè)量?jī)x

精度高的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu)。測(cè)量膜厚儀供貨

在初始相位為零的情況下,當(dāng)被測(cè)光與參考光之間的光程差為零時(shí),光強(qiáng)度將達(dá)到最大值。為探測(cè)兩個(gè)光束之間的零光程差位置,需要精密Z軸向運(yùn)動(dòng)臺(tái)帶動(dòng)干涉鏡頭作垂直掃描運(yùn)動(dòng)或移動(dòng)載物臺(tái),垂直掃描過(guò)程中,用探測(cè)器記錄下干涉光強(qiáng),可得白光干涉信號(hào)強(qiáng)度與Z向掃描位置(兩光束光程差)之間的變化曲線。干涉圖像序列中某波長(zhǎng)處的白光信號(hào)強(qiáng)度隨光程差變化示意圖,曲線中光強(qiáng)極大值位置即為零光程差位置,通過(guò)零過(guò)程差位置的精密定位,即可實(shí)現(xiàn)樣品表面相對(duì)位移的精密測(cè)量;通過(guò)確定最大值對(duì)應(yīng)的Z向位置可獲得被測(cè)樣品表面的三維高度。測(cè)量膜厚儀供貨

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