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【離子鍍膜法介紹】： 離子鍍膜技術是在真空條件下，應用氣體放電實現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下、同時將蒸發(fā)物或其反應產(chǎn)物蒸鍍在基片上。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式可分為不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱、陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和激huo方式有：輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型、多弧型及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。常用的組合方式有：直流二極型(DCIP)、多陰極型、活性反應蒸鍍法(ABE...

【光學鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用：中性分光、變色分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &色光顯示、色光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波的引導、光開關及集體光路 a. 在膜層中，波的干涉結果，如R%, T%都是與膜質(zhì)本身和兩邊界邊的折射率率有關系，相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高，有時反而降低，都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高（Ns為基底），若Nf

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之灰點臟】： 現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子（不是膜料點），有些可擦除，有些不能擦除。并且會有點狀脫膜產(chǎn)生。 原因： 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時就有灰塵點，上傘時沒有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點的主要成因，特別是當鏡片熱的時候，更容易吸附灰塵，而且難以擦除。 改善思路：杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間，嚴格按潔凈車間規(guī)范實施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺。 3. 真空室周期打掃，保持清潔。 真空鍍膜設備怎么維修。安徽線路板真空鍍膜設備【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應濺射：氧化物，氮化...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(Ns,則反射率會提高（Ns為基底），若Nf

【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況： 對于用錯程序，錯誤操作（預熔未關閉擋板等）人為中斷需要補救的；以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案： 模擬：將實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值。通過計算機模擬（一般是Zui后一層的膜厚確認），找到與實現(xiàn)測試值結果相應的膜系數(shù)據(jù)。...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】： 膜色差異有兩種（不含色斑），一種時整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。 改善對策： 1. 調(diào)整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個蒸發(fā)源，可能的條件下，獨li使用各自的修正板，避免干擾。 2. 條件許可，采用行星夾具。 3. 傘片整形。 4. 加強傘片管理。 5. 改善膜料狀況 6. 能夠自動預熔的膜料，盡量自動預熔 注：修正板對物理膜厚的修正有效，但對折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個修正板對應二把電子搶（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會有較大困難。 真...

【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】： 電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點金屬，做成適當形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓電流通過，對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設備構造簡單、造價便宜、使用可靠，可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是：加熱所能達到的Zui高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了提高加熱器的壽命，國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。 真空鍍膜設備故障解決方法？北京紅外真空...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕（膜傷）】： 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子，膜內(nèi)的稱劃痕，膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥，雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法，但難以**。 產(chǎn)生原因： 膜內(nèi)劃痕： 1. 前工程外觀不良殘留。 2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密，搬運過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷)： 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策： 1. 強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單，監(jiān)...

【光學薄膜理論基礎】： 光學薄膜基本上是借由干涉作用而達到效果的。是在光學元件上或獨li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進才會發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過薄膜后在光譜上會起變化，因此這些變化會使得光學薄膜至少具有下列功能： &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲存及輸入真空鍍膜設備機組介紹。吉林真空鍍膜設備加工【真空鍍膜簡介】： 真空（vacuum）是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài)，因為真...

【真空鍍膜設備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機械、物理、化學或物理化學的方法對被抽容器進行抽氣而獲得真空的器件或設備。通俗來講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵（Rough Vacuum Pump）：一般用于抽粗真空，有油泵和 干泵。從結構上可分幾種： 旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達10&3Torr，抽速1~650CFM 隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括： 1. 在膜系設計允許的條件下，膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍膜后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗） 2. 鏡片取出真空室后，放置在較為干燥潔凈的地方，防止鏡片快速吸潮，表面硬度降低。 PVD真空鍍膜設備公司。遼寧高真空鍍膜設備廠家【磁控濺射鍍膜的歷史】： 磁控濺射技術作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應用于許多方面，特別是在微電子、光學薄膜和...

【真空鍍膜電子束蒸發(fā)法】： 電子束蒸發(fā)法是將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結在基板表面形成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。 【真空鍍膜激光蒸發(fā)法】： 采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器是可以安裝在真空室之外，這樣不但簡化了真空室內(nèi)部的空間布置，減少了加熱源的放氣，而且還可完全避免了蒸發(fā)氣對被鍍材料的污染，達到了膜層純潔的目的。此外，激光加熱可以達到極高的溫度，利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M行快速蒸發(fā)。這對于保證...

【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標準狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標準大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4 Pa（1E&6Torr）時，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對真空。Jue對真空實際上是不存在的。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。貴州真空鍍膜設備系統(tǒng)圖【真...

【真空鍍膜之真空的概念】： “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài)，也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài)，就意味著該空間具有不同的分子密度。在標準狀態(tài)（STP：即0℃，101325Pa，也就是1標準大氣壓，760Torr）下，氣體的分子密度為2.68E24/m3，而在真空度為1.33E&4 Pa（1E&6Torr）時，氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒有氣體的空間狀態(tài)為Jue對真空。Jue對真空實際上是不存在的。真空鍍膜設備常見故障及解決方法。福建真空鍍膜設備展覽會【真空鍍膜設備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對流規(guī)...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之劃痕（膜傷）】： 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子，膜內(nèi)的稱劃痕，膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥，雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法，但難以**。 產(chǎn)生原因： 膜內(nèi)劃痕： 1. 前工程外觀不良殘留。 2. 各操作過程中的作業(yè)過水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密，搬運過程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷)： 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3. 各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善對策： 1. 強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過失清單，監(jiān)...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之灰點臟】： 現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子（不是膜料點），有些可擦除，有些不能擦除。并且會有點狀脫膜產(chǎn)生。 原因： 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時就有灰塵點，上傘時沒有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點的主要成因，特別是當鏡片熱的時候，更容易吸附灰塵，而且難以擦除。 改善思路：杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間，嚴格按潔凈車間規(guī)范實施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺。 3. 真空室周期打掃，保持清潔。 真空鍍膜設備品牌排行。北京臥式真空鍍膜設備【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡...

【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是：在真空條件下，用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料，使之蒸發(fā)或升華進入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態(tài)薄膜；由于環(huán)境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術，其特點是：設備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，制膜材料及被鍍件材料范圍很廣，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，應用相當guang泛。按蒸發(fā)源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。 真空鍍膜設備的工作原理。廣東卷繞式真空鍍膜設備【真空鍍膜二極濺射與磁控濺射對比】： 靶材利用率（TU）：是指發(fā)生濺射的靶材質(zhì)量...

【為什么要在真空中鍍膜】： 1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面 2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時可以防止氧化 3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固 4.真空（負壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對于蒸發(fā)類型的鍍膜） 真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術經(jīng)濟效益的作用。因此真...

【真空鍍膜設備之低溫泵】： 低溫泵：低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空，屬于干泵，工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下，抽氣面就能大量冷凝沸點溫度比該抽氣面溫度高的氣體，產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達到抽氣目的的泵叫做低溫泵，或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空，guang泛應用于半導體和集成電路的研究和生產(chǎn)，以及分子束研究、真空鍍膜設備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設備真空度多少？福建真空鍍膜設備使用年限【真空鍍...

【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括： 1. 在膜系設計允許的條件下，膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍膜后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗） 2. 鏡片取出真空室后，放置在較為干燥潔凈的地方，防止鏡片快速吸潮，表面硬度降低。 真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備。包括蒸發(fā)，磁控濺射等類型設備。湖北機械工具真空鍍膜設備【光學鍍膜的目的】： &反射率的提高或透射率的降低 &...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(Ns,則反射率會提高（Ns為基底），若Nf

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜內(nèi)白霧】： 白霧形成在膜內(nèi)，無法用擦拭方法去除。 可能成因： 1. 基片臟 2. 鏡片表面腐蝕污染 3. 膜料與膜料之間、膜料與基片之間的匹配 4. 氧化物充氧不夠 5. 第yi層氧化鋯膜料，可能對某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象 6. 基片進罩前（洗凈后）受潮氣污染 7. 洗凈或擦拭不良，洗凈痕跡，擦拭痕跡 8. 真空室臟、水汽過重 9. 環(huán)境濕度大 改善對策：基片本身的問題可能時主要的鍍膜室盡量彌補，鍍膜本身Zui大的可能室膜料匹配問題。 1. 改進膜系，第yi層不用氧化鋯 2. 盡量減少真空室開門時間 3. 真空室在更換護板、清潔后，Zui好能空罩抽真空烘烤一...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜臟】： 顧名思義，膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括：灰塵點、白霧、油斑、指紋印、口水點等。 改善對策：檢討過程，杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境，防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習慣，防止鏡片污染。 5. 加快真空室護板更換周期。 6. 充氣管道清潔，防止氣體充入時污染。 7. 初始排期防渦流（湍流），初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機作業(yè)面板和...

【真空蒸鍍的歷史】：1857年Michael FaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油擴散式真空泵實用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時，其他的光學機器對材料的需求提高，真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】：在真空狀態(tài)下，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近...

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】： 膜色差異有兩種（不含色斑），一種時整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。 改善對策： 1. 調(diào)整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個蒸發(fā)源，可能的條件下，獨li使用各自的修正板，避免干擾。 2. 條件許可，采用行星夾具。 3. 傘片整形。 4. 加強傘片管理。 5. 改善膜料狀況 6. 能夠自動預熔的膜料，盡量自動預熔 注：修正板對物理膜厚的修正有效，但對折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個修正板對應二把電子搶（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會有較大困難。 真...

【真空鍍膜簡介】： 真空（vacuum）是一種沒有任何物質(zhì)的空間狀態(tài)，因為真空之中沒有介質(zhì)，所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無法傳播的。1654年當時的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國雷根斯堡進行了一項實驗，從而證明了真空是存在的?，F(xiàn)在我們所說的真空并不是指空間內(nèi)沒有任何物質(zhì)，而是指在一個既定的空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)，我們把這種稀薄的狀態(tài)稱為真空?，F(xiàn)在的真空鍍膜技術是在真空中把金屬、合金進行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標物體上。 在當今電子行業(yè)，很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝，雖然我國的真空鍍膜技術起步較晚，但發(fā)展的十分迅速。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件...

【光譜分光不良的補救（補色）之機器故障和人為中斷】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷： 模擬：根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片（測試比較片）實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值，再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入，采用倒推法逐層優(yōu)化，模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制（在傘片上、與鏡片同折射率），用于測...

【真空鍍膜濺射種類】： 1、反應濺射：氧化物，氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象：①：靶材分子分裂，其于工藝氣體離子發(fā)生反應，形成化合物 ②：膜層性能改變 ③：靶材有可能中毒 2、二極濺射：二極濺射是一種經(jīng)典的標準濺射技術，其中等離子體和電子均只沿著電場方向運動。 特征：①：無磁場 ②：濺射率低 ③：放電電壓高（＞500V） ④：鍍膜底物受熱溫度極易升高（＞500°C） 用途：主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射：暗區(qū)無等離子體產(chǎn)生，在磁控濺射下，電子呈螺旋形運動，不會直接沖向陽極。而是在電場力和磁場力的綜合作用在腔室內(nèi)做螺旋運動。同時獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進...

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現(xiàn)的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(

【光譜分光不良的補救（補色）之其他情況】： 分光不良分為二種情況：一是全部膜系鍍制完成后，經(jīng)測試分光不良，此類不良主要按六節(jié)所述方法處理，一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷（包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷）造成的分光不良，一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確，補救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況： 對于用錯程序，錯誤操作（預熔未關閉擋板等）人為中斷需要補救的；以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案： 模擬：將實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值。通過計算機模擬（一般是Zui后一層的膜厚確認），找到與實現(xiàn)測試值結果相應的膜系數(shù)據(jù)。...