泄漏應(yīng)急處理：泄漏：迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至安全區(qū)，并進行隔離，嚴格限制出入。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿防酸堿工作服。不要直接接觸泄漏物。盡可能切斷泄漏源，防止進入下水道、排洪溝等限制性空間。小量泄露：用砂土、干燥石灰或蘇打灰混合。也可用大量水沖洗，洗水稀釋后放入廢水系統(tǒng)。大量泄露：構(gòu)筑圍堤或挖坑收容；用泵轉(zhuǎn)移至槽車或?qū)I(yè)收集器內(nèi)，回收或運至廢物處理場所處置。滅火方法：燃燒性：不燃。滅火劑：霧狀水、泡沫。滅火注意事項：消防人員必須佩戴氧氣呼吸器、穿全身防護服。食入：1、若患者即將喪失意識、已經(jīng)失去意識或痙攣，勿經(jīng)口喂食任何東西。2、用冷水徹底漱口。3、切勿催吐。4、讓患者喝下240-300mL的10%葡萄糖酸鈣溶液，以稀釋胃中的物質(zhì)。5、若患者自發(fā)性嘔吐，讓患者身體向前以避免吸入嘔吐物。6、 反復(fù)給患者喝水。7、送醫(yī)。氫氟酸儲存或使用時必須禁止吸煙。北京無水氫氟酸工廠

目前國內(nèi)外制備電子級氫氟酸的常用提純技術(shù)有精餾、蒸餾、亞沸蒸餾、減壓蒸餾、氣體吸收等技術(shù)，這些提純技術(shù)各有特性，各有所長。如亞沸蒸餾技術(shù)只能用于制備量少的產(chǎn)品，氣體吸收技術(shù)可以用于大規(guī)模的生產(chǎn)。另外，由于氫氟酸的強腐蝕性，采用蒸餾工藝溫度較高時腐蝕會更嚴重，因此所使用的蒸餾設(shè)備一般需用鉑、金、銀等貴金屬或聚四氟乙烯等抗腐蝕性能力較強的材料來制造。電子級氫氟酸生產(chǎn)裝置設(shè)計與工藝流程布置密切相關(guān)，垂直流向布置，原料( 無水氫氟酸和高純水) 與中間產(chǎn)物可以依靠重力自上而下的流動，高純氫氟酸的制備在中部，產(chǎn)品過濾、灌裝及貯存在底層。此布置可減少泵輸送，節(jié)省能耗，降低生產(chǎn)成本，同時可避免泵對產(chǎn)品的二次污染。55%氫氟酸制造廠氫氟酸是一種極其具有危險性的化學(xué)物質(zhì)。

國內(nèi)生產(chǎn)的氟塑料，往往摻入碳酸鈣、二氧化硅、滑石粉等材料，這些物質(zhì)對氟化氫生產(chǎn)工藝帶來新的污染。還有就是塑料表面的光滑整潔度，也影響產(chǎn)品的質(zhì)量，這些往往是我國材料生產(chǎn)和加工的薄弱環(huán)節(jié)。再有，國外能夠生產(chǎn)噸級方桶和儲罐，方便儲運氫氟酸，而國內(nèi)只能生產(chǎn)幾十升的容器。此外，高純氟化氫所用的分析測試儀器往往很貴，一般生產(chǎn)車間難以承擔(dān)。同時，制備過程中的原料質(zhì)量、人為因素、膜過濾、分析測試和灌裝等環(huán)節(jié)都會影響高純氟化氫的純度。因此要想提高我國高純氟化氫的生產(chǎn)水平和質(zhì)量，要求全產(chǎn)業(yè)鏈的提升，而不是每一個生產(chǎn)廠自己努力就能解決的問題。

電子級氫氟酸的生產(chǎn)壁壘在于對金屬離子含量的高標(biāo)準。半導(dǎo)體中的金屬離 子雜質(zhì)會影響半導(dǎo)體中少子的壽命、表面的導(dǎo)電性、門氧化物的完整性和穩(wěn)定性 等參數(shù)，且金屬離子雜質(zhì)在高溫下或電場下會向半導(dǎo)體本體擴散或在表面擴大分 布，導(dǎo)致半導(dǎo)體性能下降，因此氫氟酸對其中的金屬離子含量有比較嚴格的要求， 且適用的晶圓半徑越大，制程越好，對金屬離子含量的要求越高。半導(dǎo)體用的氫 氟酸所有單項金屬雜質(zhì)的質(zhì)量分數(shù)≤0.1μg/L，對應(yīng) SEMI 為 G4 以上等級的氫氟 酸，對應(yīng)國內(nèi)行業(yè)標(biāo)準則是 UP-SS 及以上等級的氫氟酸。對于現(xiàn)在國際上主流的 12 寸晶圓，其制造過程中需要金屬離子含量低于 0.0001μg/L，對應(yīng) SEMI G5 或者 UP-SSS 標(biāo)準。氫氟酸不應(yīng)該與硝酸、過氧化氫等化學(xué)物質(zhì)混合。

即使我國克服了所有困難生產(chǎn)出符合要求的高純氟化氫，想替代日本公司也是很難的，因為芯片生產(chǎn)企業(yè)需要重新調(diào)試生產(chǎn)工藝，以便測試新原料對產(chǎn)品生產(chǎn)的影響。據(jù)估算調(diào)試工藝的時限大概是兩個月的時間。一般的芯片企業(yè)不被逼到一定程度，不會下定決心更換原料的。半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所要用到的氫氟酸并不是普通的氫氟酸，而是超高精純的電子級氫氟酸。由于普通工業(yè)級氫氟酸含有大量雜質(zhì)，倘若用來生產(chǎn)半導(dǎo)體，基本上只能生產(chǎn)出廢品來。因為芯片生產(chǎn)容不得過多的雜質(zhì)，普通工業(yè)級氫氟酸含有的雜質(zhì)對芯片生產(chǎn)影響十分大。那么問題來了，半導(dǎo)體生產(chǎn)中所需的高純氟化氫要求多純呢？據(jù)了解，日本生產(chǎn)的較高純度的氫氟酸純度為99.9%，這個純度的高純氟化氫，在目前較先進的芯片生產(chǎn)工藝中都能夠完全適配，這也是韓國極度依賴從日本進口高純氟化氫的重要原因了。使用氫氟酸時必須保持設(shè)備和環(huán)境清潔和干燥。北京無水氫氟酸工廠

使用氫氟酸處理的物品應(yīng)當(dāng)存放在液體密封容器中。北京無水氫氟酸工廠

嚴格來說，提純的工藝流程也不是很復(fù)雜。主要是利用氟化氫的揮發(fā)性以及不同物質(zhì)沸點不同，采用精餾、蒸餾、亞沸蒸餾、減壓蒸餾、氣體吸收等技術(shù)對氟化氫進行純化。在此過程中，要把三價砷的氟化物氧化成五價，以免它跟著氟化氫一起蒸餾出來。然后用高純水溶解氟化氫，再過超濾膜過濾雜質(zhì)，之后進行檢驗和無塵灌裝。我們國家相關(guān)的純化工藝技術(shù)有很多。隨著我國化學(xué)工藝研究水平的提高，一套合格的生產(chǎn)工藝設(shè)計并不難，難就難在生產(chǎn)廠房和設(shè)備上了。先說生產(chǎn)廠房，雖說我國已經(jīng)發(fā)展成為基建強國，但對于超凈高純氫氟酸廠房這樣的特殊基建還沒有成熟經(jīng)驗。這樣的廠房要求與外界嚴密隔離，要設(shè)置多重的過濾系統(tǒng)，爭取不讓任何灰塵進入生產(chǎn)區(qū)。廠房不只要有雙層的門窗和多重的通風(fēng)過濾系統(tǒng)，而且要精打細算到每個工作區(qū)都用小的隔斷隔開，設(shè)置單獨的過濾系統(tǒng)，保證外來的“新鮮空氣”，經(jīng)過多重過濾和殺細菌以后達到萬級以上的凈化度，灌裝車間甚至要求達到百級以上。北京無水氫氟酸工廠

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