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江蘇正規(guī)EDI模塊

來源: 發(fā)布時間:2024-04-11

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下:

美國IONPUREIP-LXM30Z模塊的凈水基本過程


 ·連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定


 ·容易實現(xiàn)全自動控制


 ·無須用酸堿再生


 ·不會因再生而停機(jī)


 ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施


 ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)


 ·無須酸堿儲備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施


 ·占地面積小


 ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿


 ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本


 ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施


 ·安裝簡單、費(fèi)用低廉


 ·設(shè)備初投資大 EDI模塊上海純超環(huán)保詢問報價。江蘇正規(guī)EDI模塊

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(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體,堵塞通道。


(6)進(jìn)水中CO2的影響。

  進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì),容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。


(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會降EDI模塊產(chǎn)水電阻率,或需要提EDI模塊運(yùn)行電流,而過高的運(yùn)行電流會導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大,極水余氯濃度增大,對極膜壽命不利。

  另外,進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響 江蘇正規(guī)EDI模塊EDI模塊上海純超環(huán)保值得推薦。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式




 ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)




 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)




步驟




 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。




 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




 ?步驟 2.




 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)







 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)







 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)




 ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)。總體來說,濃水為已用水按1:100的比例稀釋過。








 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)




 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)








 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))



IONPUREL-XM系列工業(yè)型膜堆是專門為工作應(yīng)用而設(shè)計的。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊具有極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水,而不會由于再生而中斷運(yùn)行。美國IONPURE IP-LXM45Z EDI模塊可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實驗室中。


美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊產(chǎn)品特色:

采用雙O-型密封圈進(jìn)行密封,確保膜堆在運(yùn)行中不發(fā)生泄漏;

產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水,無需使用化學(xué)藥劑;

連續(xù)產(chǎn)水且水質(zhì)穩(wěn)定無波動,不似批處理設(shè)備呈周期變化;

不需要使用酸、堿中和系統(tǒng)及樹脂罐;

具有優(yōu)良的電絕緣性能;

在7bar(100psi)、45℃(113oF)條件下,可以連續(xù)運(yùn)行;

采用專利注冊的“全填充”技術(shù),不必使用濃水循環(huán)泵和加鹽系統(tǒng)。 EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。

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(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。


  在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng),極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。


 工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴(kuò)散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 購買EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務(wù)。江蘇正規(guī)EDI模塊

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