根據(jù)美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時(shí)，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。

  將來會(huì)如何變化？我們會(huì)看到在所有的工業(yè)單元中降低對(duì)化學(xué)藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A(yù)計(jì)，在3到5年的時(shí)間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會(huì)采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費(fèi)用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場(chǎng)合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場(chǎng)地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受，此項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對(duì)采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求。

(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎選購(gòu)。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無(wú)效，無(wú)法使用。

  6、IONPUREEDI模塊進(jìn)水前無(wú)保安濾器，或安裝時(shí)沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無(wú)效。

  7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保讓您滿意的選擇。上海供應(yīng)美國(guó)IONPURE EDI模塊多少錢

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安全

1)避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學(xué)物質(zhì)，過氧化氫是氧化劑。

2)將整個(gè)管線降壓以避免高壓化學(xué)藥劑噴濺。

3) EDI系統(tǒng)在高電壓下運(yùn)行，在任何維護(hù)工作前，確保整流器不通電并鎖定。

清洗化學(xué)品規(guī)范

  所有化學(xué)品應(yīng)必須達(dá)到推薦使用的等級(jí)或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(jí)(≥99.80%), ACS或USP級(jí)醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%:ACS級(jí),或達(dá)到水系統(tǒng)清洗的商用濃度。鹽酸(HCl)ACS或技術(shù)級(jí)氫氧化鈉(NaOH):球狀, NF, ACS或凈化級(jí); 或50%w/w 溶液。 浙江美國(guó)IONPURE EDI模塊的特點(diǎn)

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