鍍燈具鋁膜,因為是金屬膜,當然是直流磁控濺射好。速度快。中頻適合鍍化合物膜。如果選離子源,霍爾離子源就夠了。但要注意你的燈具大小。一般霍爾離子源是圓形,離子源覆蓋的面積有限。你一定要用離子束將工件全部覆蓋到。若普通霍爾離子源太小,可考慮用陽極層離子源。離子源難起輝的一個原因是磁場太弱激發(fā)不起等離子體。離子源的種類雖多,但基本上是先產(chǎn)生等離子體,然后從等離子體中抽出氣體離子并加速成離子束,然后需要注入電子中和離子流?,F(xiàn)在國內(nèi)離子源陰極一般都用鎢絲,很簡單方便。但需要定期更換。尤其是光學鍍膜時用氧氣,鎢絲一般只能用10個小時左右。另外鎢絲燒蝕會污染膜層。江蘇真空鍍膜機認準無錫光潤。推薦真空鍍膜機報價
與金屬鍍層間的附著性差塑料與金屬鍍層間的附著性差首先是由于塑料的表面能一般都比較低,表面極性差;其次塑料易帶靜電,表面容易吸附灰塵,同時塑料零件又軟,化學穩(wěn)定性差,不易得到真正清潔的表面,而塑料表面的清潔度是影響塑料與金屬鍍層間附著力的重要因素。第三,即使保持了塑料表面的清潔,由于塑料與金屬的膨脹系數(shù)相差一個數(shù)量級,在成膜過程中或成膜后,溫度變化會產(chǎn)生熱應力,應力過大將會使鍍層開裂甚至脫落。此外,由于沉積過程中金屬膜結(jié)構(gòu)受到工藝等因素的影響致使其內(nèi)部產(chǎn)生一定的內(nèi)應力,當內(nèi)應力很大時,膜料沉積到塑料表面后,內(nèi)應力會轉(zhuǎn)移到金屬鍍層上來,從而降低鍍層的穩(wěn)定性,甚至使鍍層開裂、起皺。為解決金屬鍍層與塑料基體的結(jié)合問題,保證鍍層與塑料表面具有良好結(jié)合力,真空鍍膜時,采用在塑料表面涂上與鍍膜金屬有親和力的底涂層,或者對塑料表面進行電暈放電活化處理。安徽正規(guī)真空鍍膜機供應商真空鍍膜設備哪家好?
根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式,用戶可根據(jù)片尺寸及形狀提出相應要求,轉(zhuǎn)動的速度范圍及轉(zhuǎn)動精度:普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。不同類型鍍膜機的適用范圍是怎樣的呢?磁控濺射鍍膜設備:應用于信息存儲領域,如磁信息存儲、磁光信息存儲等。磁控濺射鍍膜機:應用于防護涂層,如飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等。磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線:應用于太陽能利用領域,如太陽能集熱管、太陽能電池等。光學鍍膜設備:應用于光學薄膜領域,如增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。
加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理,達到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸ぁ鬏?、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在大氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至較小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應貯存在真空干燥箱中。鍍膜室內(nèi)的灰塵,設置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求??諝鉂穸却蟮牡貐^(qū),除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認真清洗外,還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴散泵返油,對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。上海真空鍍膜機廠家找哪家?
高頻離子源利用稀薄氣體中的高頻放電現(xiàn)象使氣體電離,一般用來產(chǎn)生低電荷態(tài)正離子,有時也從中引出負離子,作為負離子源使用。在高頻電場中,自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞,并使之電離。帶電粒子倍增的結(jié)果,形成無極放電,產(chǎn)生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場可由管外螺線管線圈產(chǎn)生,也可由套在管外的環(huán)形電極產(chǎn)生。前者稱為電感耦合,后者稱為電容耦合高頻振蕩器頻率為10~10Hz,輸出功率在數(shù)百瓦以上。從高頻離子源中引出離子可有兩種方式。一種是在放電管頂端插入一根鎢絲作為正極,在放電管尾端裝一帶孔負電極,并把該孔做成管形,從中引出離子流。另一種方式是把正極做成帽形,裝在引出電極附近,而放電區(qū)則在它的另一側(cè)。不管采用哪種引出方式,金屬電極都要用石英或玻璃包起來,以減少離子在金屬表面的復合。在高頻放電區(qū)域中加有恒定磁場時,由于共振現(xiàn)象可提高放電區(qū)域中的離子濃度。有時,還在引出區(qū)域加非均勻磁場來改善引出。無錫專業(yè)真空鍍膜機廠家。浙江常用真空鍍膜機供應商
真空鍍膜機采購,當然選無錫光潤!推薦真空鍍膜機報價
高頻離子源利用稀薄氣體中的高頻放電現(xiàn)象使氣體電離,一般用來產(chǎn)生低電荷態(tài)正離子,有時也從中引出負離子,作為負離子源使用。在高頻電場中,自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞,并使之電離。帶電粒子倍增的結(jié)果,形成無極放電,產(chǎn)生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場可由管外螺線管線圈產(chǎn)生,也可由套在管外的環(huán)形電極產(chǎn)生。前者稱為電感耦合,后者稱為電容耦合高頻振蕩器頻率為10~10Hz,輸出功率在數(shù)百瓦以上。從高頻離子源中引出離子可有兩種方式。一種是在放電管頂端插入一根鎢絲作為正極,在放電管尾端裝一帶孔負電極,并把該孔做成管形,從中引出離子流。另一種方式是把正極做成帽形,裝在引出電極附近,而放電區(qū)則在它的另一側(cè)。不管采用哪種引出方式,金屬電極都要用石英或玻璃包起來,以減少離子在金屬表面的復合。在高頻放電區(qū)域中加有恒定磁場時,由于共振現(xiàn)象可提高放電區(qū)域中的離子濃度。有時,還在引出區(qū)域加非均勻磁場來改善引出。推薦真空鍍膜機報價
無錫光潤真空科技有限公司(簡稱“光潤真空”)是從事真空鍍膜設備研發(fā)、設計、銷售、制造、服務于一體的綜合性科技公司。
光潤真空技術(shù)團隊具有20多年真空鍍膜設備研制和工藝開發(fā)的經(jīng)驗,公司開發(fā)的GRJR系列、GRDR系列卷繞鍍膜設備等在國內(nèi)處于**水平。公司產(chǎn)品覆蓋磁控濺射卷繞鍍膜設備、電子束蒸發(fā)卷繞鍍膜設備、蒸發(fā)鍍膜**設備、磁控濺射真空鍍膜**設備、多弧離子真空鍍膜**設備等。
公司產(chǎn)品出口法國、巴基斯坦、越南、印尼、韓國、泰國、西班牙、克羅地亞、波蘭、土耳其、巴西、烏克蘭等地。公司堅持“表面處理整體解決供應商”的經(jīng)營戰(zhàn)略,推行“誠信、創(chuàng)新、環(huán)保”的經(jīng)營理念,竭誠為國內(nèi)外用戶服務。