常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為~。蒸發(fā)源有三種類(lèi)型。①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)(圖1[蒸發(fā)鍍膜設(shè)備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì);③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比,具有較高的沉積速率,可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層,可采用分子束外延方法。生長(zhǎng)摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源,在超高真空下當(dāng)它被加熱到一定溫度時(shí),爐中元素以束狀分子流射向基片?;患訜岬揭欢囟?,沉積在基片上的分子可以徙動(dòng),按基片晶格次序生長(zhǎng)結(jié)晶用分子束外延法可獲得所需化學(xué)計(jì)量比的高純化合物單晶膜,薄膜慢生長(zhǎng)速度可控制在1單層/秒。卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制,提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。貴州卷繞鍍膜機(jī)價(jià)格
真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關(guān)注的一個(gè)問(wèn)題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學(xué)性質(zhì)不活潑,達(dá)到蒸發(fā)溫度時(shí)加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底,不易形成合金。4.要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤(rùn),有較大的表面張力。5.對(duì)于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時(shí),可采用舟狀蒸發(fā)源。品質(zhì)卷繞鍍膜機(jī)一體化卷繞鍍膜機(jī)哪家比較專(zhuān)業(yè)?
成膜好,適合鍍化合物膜。但匹配較困難。可應(yīng)用于鍍光學(xué),半導(dǎo)體器件,裝飾品,汽車(chē)零件等。6)增強(qiáng)ARE型。利用電子束進(jìn)行加熱;充入Ar,其它惰性氣體,反應(yīng)氣體氧氣,氮?dú)獾?;離化方式:探極除吸引電子束的一次電子,二次電子外,增強(qiáng)極發(fā)出的低能電子也可促進(jìn)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。7)低壓等離子體離子鍍(LPPD)。利用電子束進(jìn)行加熱;依靠等離子體使充入的惰性氣體,反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等離子化合物鍍層;可用于鍍機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。8)電場(chǎng)蒸發(fā)。利用電子束進(jìn)行加熱依靠電子束形成的金屬等離子體進(jìn)行離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,要對(duì)基板加熱,帶電場(chǎng)的真空蒸鍍,鍍層質(zhì)量好;可用于鍍電子器件,音響器件。9)感應(yīng)離子加熱鍍。利用高頻感應(yīng)進(jìn)行加熱;依靠感應(yīng)漏磁進(jìn)行離化。這種方法的特點(diǎn)是:基板溫升小,能獲得化合物鍍層;可用于機(jī)械制品,電子器件,裝飾品。10)集團(tuán)離子束鍍。利用電阻加熱,從坩鍋中噴出集團(tuán)狀蒸發(fā)顆粒。依靠電子發(fā)射或從燈絲發(fā)出電子的碰撞作用進(jìn)行離化。
適合硬質(zhì)合金刀具、車(chē)刀片;適合不銹鋼鉆、銑、沖加工。DLC中文名:類(lèi)金剛石。顏色:黑色;硬度:2000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:800℃;優(yōu)點(diǎn):無(wú)氫碳膜,有很強(qiáng)的抗粘結(jié)性和低摩擦性,適合光盤(pán)模具和其他精密模具。[2-3]Crotac中文名:鈦鉻_納米晶體;顏色:銀灰色;硬度:2100HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:700℃;優(yōu)點(diǎn):可低溫涂層,韌性好,適合低溫零件;適合沖壓厚度>。ALuka中文名:鉻鋁_納米晶體;顏色:灰黑色;硬度:3300HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:1100℃;優(yōu)點(diǎn):高熱穩(wěn)定性;磨擦力低,不沾黏;適合冷熱段造、鑄造高熱穩(wěn)定性;適合長(zhǎng)久在高溫環(huán)境下使用的汽車(chē)零件。CrSiN系中文名:鉻硅_納米晶體;顏色:灰黑色;硬度:3000HV;摩擦系數(shù):;抗氧化溫度:1000℃;優(yōu)點(diǎn):膜具高速加工,高光面加工;適合加工銅合金、鎂鋁合金。ZrSiN系中文名:鋯硅_納米晶體;顏色:紫黑色;硬度:3400HV;摩擦系數(shù):;抗氧化溫度:850℃;優(yōu)點(diǎn):適合HSS刀具、絲攻;適合加工鈦合金。TiSiN系中文名:鈦硅_納米晶體;顏色:黃橙色;硬度:4300HV;摩擦系數(shù):;抗氧化溫度:1000℃;優(yōu)點(diǎn):表面硬度高;適合重切削與加工不銹鋼;可加工高硬度模具鋼62HRC。卷繞鍍膜機(jī)的組成都有哪些?
車(chē)燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求車(chē)燈真空鍍膜UV漆的技術(shù)要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率,使得該技術(shù)在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長(zhǎng),其應(yīng)用領(lǐng)域越來(lái)越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度,很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,在塑料基材上可獲得十分光亮的金屬外觀。隨著汽車(chē)工業(yè)的發(fā)展,許多金屬替代工藝得到了應(yīng)用,目前在汽車(chē)車(chē)燈反射罩應(yīng)用領(lǐng)域,已經(jīng)完全采用在PC、BMC等塑料表面通過(guò)真空鍍鋁膜來(lái)提高反射效果,用于這一領(lǐng)域的UV涂料要求具有良好的流平性,高耐溫性(用于PC基材要求120℃以上,BMC基材高達(dá)180℃以上)。在設(shè)計(jì)PC車(chē)燈反射罩用UV底漆時(shí),要注意提高涂層的交聯(lián)密度來(lái)保證涂層有良好的封閉性,通過(guò)調(diào)整配方中活性稀釋劑的配比來(lái)使涂層與基材、鍍膜與涂層之間的附著力達(dá)到比較好,工件結(jié)構(gòu)復(fù)雜時(shí),要特別注意保證UV照射不充分的部位也能完全固化。1真空鍍膜對(duì)UV底漆的要求在真空鍍膜前要在塑料基材表面進(jìn)行UV涂裝的主要原因有以下兩點(diǎn):通過(guò)UV涂層來(lái)封閉基材,防止真空鍍膜時(shí)或工件使用時(shí)基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出,影響鍍膜質(zhì)量。像在車(chē)燈反射罩應(yīng)用時(shí),由于在使用過(guò)程中溫度會(huì)升到100℃以上。卷繞鍍膜機(jī)的涂覆效果均勻,不易出現(xiàn)氣泡和起皺。安徽品牌卷繞鍍膜機(jī)
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高純鎳柱,高純鉭,高純鉭片,高純鉭絲,高純鉭粒,高純鎳鉻絲,高純鎳鉻粒,高純鑭,高純釓,高純釓,高純鈰,高純鋱,高純鈥,高純釔,高純鐿,高純銩,高純錸,高純銠,高純鈀,高純銥等.混合料氧化鋯氧化鈦混合料,氧化鋯氧化鉭混合料,氧化鈦氧化鉭混合料,氧化鋯氧化釔混合料,氧化鈦氧化鈮混合料,氧化鋯氧化鋁混合料,氧化鎂氧化鋁混合料,氧化銦氧化錫混合料,氧化錫氧化銦混合料,氟化鈰氟化鈣混合料等混合料其他化合物鈦酸鋇,BaTiO3,鈦酸鐠,PrTiO3,鈦酸鍶,SrTiO3,鈦酸鑭,LaTiO3,硫化鋅,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化鋅,ZnSe,硫化鎘,硫化鉬,硫化銅,二硅化鉬。輔料鉬片,鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。濺射靶材(純度:)金屬靶材鎳靶、Ni靶、鈦靶、Ti靶、鋅靶、Zn靶、鉻靶、Cr靶、鎂靶、Mg靶、鈮靶、Nb靶、錫靶、錫靶、Sn靶、鋁靶、Al靶、銦靶、In靶、鐵靶、Fe靶、鋯鋁靶、ZrAl靶、鈦鋁靶、TiAl靶、鋯靶、Zr靶、硅靶、Si靶、銅靶、銅靶、Cu靶、鉭靶。貴州卷繞鍍膜機(jī)價(jià)格