是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。離子鍍的英文全稱IonPlating，簡稱IP。它是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍在基片上。1972年，Banshah提出了在真空放電蒸鍍時，導(dǎo)入反應(yīng)氣體生成化合物的方法，即（活性反應(yīng)蒸鍍法）（簡稱ARE法）。與此同時，在離子鍍時代替氬氣導(dǎo)入一部分反應(yīng)氣體生成化合物薄膜，形成了反應(yīng)性離子鍍法（簡稱RIP法）等等。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式，可構(gòu)成不同類型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有：電阻加熱，電子束加熱，等離子電子束加熱，高頻感應(yīng)加熱，陰極弧光放電加熱等。氣體分子或原子的離化和***方式有：輝光放電型，電子束型，熱電子型，等離子電子束型，多弧形及高真空電弧放電型，以及各種形式的離子源等。不同的蒸發(fā)源與不同的電離或激發(fā)方式可以有多種不同的組合。目前比較常用的組合方式有：1）直流二極型（DCIP）。利用電阻或電子束加熱使膜材氣化；被鍍基體作為陰極，利用高電壓直流輝光放電將沖入的氣體Ar（也可充少量反應(yīng)氣體）離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升大，繞射性好。卷繞鍍膜機(jī)可以根據(jù)不同的需求進(jìn)行調(diào)整和定制。吉林品牌卷繞鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)鍍膜是指在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機(jī)的原理。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機(jī)鍍膜方法有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜?，F(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)源有三種類型：①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高頻感應(yīng)加熱源源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)；③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。新能源卷繞鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍卷繞鍍膜機(jī)可以自動控制溫度、速度和壓力等參數(shù)，確保產(chǎn)品質(zhì)量。

簡介真空鍍膜在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法**早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)如圖1。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為～。蒸發(fā)鍍膜的類型蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)。

利用激光束加熱能夠?qū)δ承┖辖鸹蚧衔镞M(jìn)行“閃光蒸發(fā)”。這對于保證膜的成分，防止膜的分餾或分解也是及其有用的。但是，由于制作大功率連續(xù)式激光器的成本較高，所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制，目前尚不能在工業(yè)中***應(yīng)用。2.濺射鍍膜1842年格羅夫在實(shí)驗(yàn)室中發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象。他是在研究電子管的陰極腐蝕問題時發(fā)現(xiàn)陰極材料會遷移到真空管壁上面去的現(xiàn)象。從1870開始，就已經(jīng)將濺射原理應(yīng)用于薄膜的制備，但是，在過去的100多年中濺射工藝的發(fā)展很緩慢。1940年以后，發(fā)現(xiàn)了濺射膜層具有極其優(yōu)良的性能，同時改善濺射裝置，提高濺射速率的各種新工藝相繼出現(xiàn)并到達(dá)實(shí)用化的程度，這才使濺射技術(shù)迅速的發(fā)展，并在工業(yè)上***的應(yīng)用。所謂“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子（或分子）從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，通常稱為濺射原子。用于轟擊靶的荷能粒子可能是電子，離子或中型粒子，因?yàn)殡x子在電場下易于加速并獲得所需動能，因此大多采用離子作為轟擊粒子。該粒子又稱入射離子。由于直接實(shí)現(xiàn)濺射的機(jī)構(gòu)是離子，所以這種鍍膜技術(shù)又稱為離子濺射鍍膜或淀積。濺射鍍膜的方式很多，比較具有代表性的方法有：1）直流二極濺射。構(gòu)造簡單。卷繞鍍膜機(jī)可以大幅提高生產(chǎn)效率。

TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。Q9:請問PVD鍍膜膜層的厚度是多少？A9:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。Q10:請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些？A10:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進(jìn)行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。Q11:請問目前PVD鍍膜技術(shù)主要應(yīng)用在哪些行業(yè)？A11:PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍和工具鍍。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個領(lǐng)域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命；這方面主要應(yīng)用在各種刀剪、車削刀具。卷繞鍍膜機(jī)可以實(shí)現(xiàn)薄膜的自動化生產(chǎn)和包裝。現(xiàn)貨卷繞鍍膜機(jī)質(zhì)量保證

卷繞鍍膜機(jī)如何注意使用中的保養(yǎng)？吉林品牌卷繞鍍膜機(jī)

（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點(diǎn)極其可貴。（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問題。（5）工藝靈活，改變品種方便?？慑儐蚊?、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于控制。總之，真空鍍膜機(jī)帶鋼真空鍍膜是一個集冶金、真空、化學(xué)、物理等學(xué)科于一體的高新技術(shù)，其產(chǎn)品具有高附加值，既有帶鋼的強(qiáng)度和廉價的特點(diǎn)，又有鍍膜后的多功能，多品種，高質(zhì)量的優(yōu)點(diǎn)，是極具潛力的新型帶鋼材料的研發(fā)方向。吉林品牌卷繞鍍膜機(jī)