霍爾離子源霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。霍爾離子源的特點是：1簡單耐用。2離子電流與氣體流量幾乎成比例，可獲得較大離子電流。3鎢絲一般橫跨在出口，收離子束沖擊很快會銷蝕，尤其對反應氣體，一般十幾個小時就需更換。并且鎢絲還會有一定的污染。為解決鎢絲的缺點。有采用較長壽中和器的，如一個小的空心陰極源?；魻栯x子源可以說是應用較廣的離子源。如Veece的MarkI和MarkII離子源。適用的如國產(chǎn)的大部分離子源。如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚大，需要與機體結(jié)合力強，而均勻性要求不高?？捎没魻栯x子源。其離子電流大，且離子能級也高。如果是鍍光學膜，則主要要求離子電流能級集中，離子電流均勻性好。故建議用Kaufman或RF離子源，有條件的可采用ECR（電子回旋）或ICP(感應耦合)離子源。另外，也要考慮到耗材，如用鎢絲的霍爾源在反應氣體中十來個小時就燒斷了。而離子源如ICP離子源可在反應氣體中連續(xù)工作幾百小時。無錫真空鍍膜機報價找哪家？江西真空鍍膜機廠家

我們在鍍膜的時候，會出現(xiàn)黑鍍鎳層顏色不深，甚至有時候還出現(xiàn)白色條紋，這種情況我們只需要加一點增黑鹽顏色馬上就恢復了，但是當我們開始使用一段時間以后，大概電鍍1h左右，又出現(xiàn)這種情況，經(jīng)過檢查真空鍍膜設備以后發(fā)現(xiàn)是因為鍍液中的雜質(zhì)太多引起的，增黑劑只能暫時緩解這種情況，隨著電鍍的過程，增黑劑消耗，又出現(xiàn)這種情況了，這種情況一般是外部表現(xiàn)，在大多數(shù)情況下出現(xiàn)在一個工序中，而他的原因卻是應該另外一個工序，這就是所謂的假性故障，！實想要真空鍍膜設備的使用壽命長，那么我們在使用的時候就一定要正確的操作，正確的操作不止可以使鍍膜機的使用壽命延長，還可以保證鍍膜的質(zhì)量，節(jié)約返工時間！那么怎樣才算正確的使用真空度磨設備呢？上海高質(zhì)量真空鍍膜機供應商真空鍍膜機專業(yè)供應商！

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產(chǎn)出來的，液態(tài)氣體色澤也會不一樣，氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時，工業(yè)氣體充入氮氣可生產(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品，則需要加入乙炔氣體加入氧氣則生產(chǎn)藍色的產(chǎn)品。除了氣體外所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、溫度、時間等條件影響。真空電鍍是利用的什麼原理?在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氬氣為保護性氣體，防止氧化反應影響鍍層質(zhì)量。

高頻離子源利用稀薄氣體中的高頻放電現(xiàn)象使氣體電離，一般用來產(chǎn)生低電荷態(tài)正離子，有時也從中引出負離子，作為負離子源使用。在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞，并使之電離。帶電粒子倍增的結(jié)果，形成無極放電，產(chǎn)生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場可由管外螺線管線圈產(chǎn)生，也可由套在管外的環(huán)形電極產(chǎn)生。前者稱為電感耦合,后者稱為電容耦合高頻振蕩器頻率為10～10Hz，輸出功率在數(shù)百瓦以上。從高頻離子源中引出離子可有兩種方式。一種是在放電管頂端插入一根鎢絲作為正極，在放電管尾端裝一帶孔負電極，并把該孔做成管形，從中引出離子流。另一種方式是把正極做成帽形，裝在引出電極附近，而放電區(qū)則在它的另一側(cè)。不管采用哪種引出方式，金屬電極都要用石英或玻璃包起來，以減少離子在金屬表面的復合。在高頻放電區(qū)域中加有恒定磁場時，由于共振現(xiàn)象可提高放電區(qū)域中的離子濃度。有時，還在引出區(qū)域加非均勻磁場來改善引出。聯(lián)系無錫光潤，給您帶來真空鍍膜機實惠價格！

加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至較小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應貯存在真空干燥箱中。鍍膜室內(nèi)的灰塵，設置清潔度高的工作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。無錫光潤為您提供專業(yè)真空鍍膜機售后服務！口碑好真空鍍膜機定制

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蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。江西真空鍍膜機廠家

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光潤真空技術(shù)團隊具有20多年真空鍍膜設備研制和工藝開發(fā)的經(jīng)驗，公司開發(fā)的GRJR系列、GRDR系列卷繞鍍膜設備等在國內(nèi)處于**水平。公司產(chǎn)品覆蓋磁控濺射卷繞鍍膜設備、電子束蒸發(fā)卷繞鍍膜設備、蒸發(fā)鍍膜**設備、磁控濺射真空鍍膜**設備、多弧離子真空鍍膜**設備等。

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