離子鍍:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用,使膜層附著強度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點,并有很好的繞射性,可為形狀復雜的工件鍍膜。無錫真空鍍膜機廠家,哪家專業(yè)?江西現(xiàn)貨真空鍍膜機廠家
真空鍍膜設(shè)備的工作離不開相應的監(jiān)測,那么如何監(jiān)測呢?下面一起來看看吧。1.目視監(jiān)控使用雙眼監(jiān)控,因為薄膜在成長的過程中,因為干涉現(xiàn)象會有色彩改變,我們即是依據(jù)色彩改變來操控膜厚度的,此種辦法有必定的差錯,所以不是很精確,需求依托經(jīng)歷。2.定值監(jiān)控法此辦法使用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位,然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少,此即為中止鍍膜點。3.水晶振動監(jiān)控使用石英晶體振動頻率與其質(zhì)量成反比的原理工作的??墒鞘⒈O(jiān)控有一個欠好的地方即是當膜厚添加到必定厚度后,振動頻率不全然因為石英自身的特性使厚度與頻率之間有線性關(guān)系,此刻有必要使用新的石英振動片。4.極值監(jiān)控法當膜厚度添加的時候其反射率和穿透率會跟著起改變,當反射率或穿透率走到極值點的時候,就能夠知道鍍膜之光學厚度ND是監(jiān)控波長(入)的四分之一的整倍數(shù)。可是極值的辦法差錯對比大,因為當反射率或許透過率在極值鄰近改變很慢,亦即是膜厚ND添加許多,R/T才有改變。反映對比活絡的方位在八分之一波利益。上海正規(guī)真空鍍膜機直銷聯(lián)系無錫光潤,給您帶來真空鍍膜機實惠價格!
真空鍍膜設(shè)備在使用的過程中,它是會出現(xiàn)褐色條紋的情況,那么這種情況應該如何避免呢?下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析出現(xiàn)褐色條紋的原因。①真空度低解決方法:清洗真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍設(shè)備、冷卻體系、放卷、卷取設(shè)備及導輥;查看抽真空體系;下降環(huán)境濕度。②薄膜釋放氣體。解決方法:薄膜預枯燥;延伸抽真空時刻。③噴鋁過多。解決方法:進步車速;下降蒸騰舟電流;下降送鋁速度。④蒸騰舟內(nèi)有雜質(zhì)。解決方法:清洗蒸騰舟及熱屏蔽板。⑤蒸騰舟老化。解決方法:替換蒸騰舟。
霍爾離子源霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強,霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲(陰極)?;魻栯x子源的特點是:1簡單耐用。2離子電流與氣體流量幾乎成比例,可獲得較大離子電流。3鎢絲一般橫跨在出口,收離子束沖擊很快會銷蝕,尤其對反應氣體,一般十幾個小時就需更換。并且鎢絲還會有一定的污染。為解決鎢絲的缺點。有采用較長壽中和器的,如一個小的空心陰極源。霍爾離子源可以說是應用較廣的離子源。如Veece的MarkI和MarkII離子源。適用的如國產(chǎn)的大部分離子源。如果鍍耐磨裝飾膜,膜厚大,需要與機體結(jié)合力強,而均勻性要求不高??捎没魻栯x子源。其離子電流大,且離子能級也高。真空鍍膜設(shè)備哪家好?
鍍燈具鋁膜,因為是金屬膜,當然是直流磁控濺射好。速度快。中頻適合鍍化合物膜。如果選離子源,霍爾離子源就夠了。但要注意你的燈具大小。一般霍爾離子源是圓形,離子源覆蓋的面積有限。你一定要用離子束將工件全部覆蓋到。若普通霍爾離子源太小,可考慮用陽極層離子源。離子源難起輝的一個原因是磁場太弱激發(fā)不起等離子體。離子源的種類雖多,但基本上是先產(chǎn)生等離子體,然后從等離子體中抽出氣體離子并加速成離子束,然后需要注入電子中和離子流?,F(xiàn)在國內(nèi)離子源陰極一般都用鎢絲,很簡單方便。但需要定期更換。尤其是光學鍍膜時用氧氣,鎢絲一般只能用10個小時左右。另外鎢絲燒蝕會污染膜層。無錫真空鍍膜機廠家,哪家好?浙江高質(zhì)量真空鍍膜機直銷
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真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關(guān)注的一個問題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學性質(zhì)不活潑,達到蒸發(fā)溫度時加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底,不易形成合金。4.要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤,有較大的表面張力。5.對于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時,可采用舟狀蒸發(fā)源。江西現(xiàn)貨真空鍍膜機廠家
無錫光潤真空科技有限公司(簡稱“光潤真空”)是從事真空鍍膜設(shè)備研發(fā)、設(shè)計、銷售、制造、服務于一體的綜合性科技公司。
光潤真空技術(shù)團隊具有20多年真空鍍膜設(shè)備研制和工藝開發(fā)的經(jīng)驗,公司開發(fā)的GRJR系列、GRDR系列卷繞鍍膜設(shè)備等在國內(nèi)處于**水平。公司產(chǎn)品覆蓋磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)卷繞鍍膜設(shè)備、蒸發(fā)鍍膜**設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜**設(shè)備、多弧離子真空鍍膜**設(shè)備等。
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